[發明專利]遮光片陣列、遮光片陣列制造方法及鏡頭模組陣列

無效

• 申請號: 200910301809.7
• 申請日: 2009-04-24
• 公開（公告）號: CN101872033A
• 公開（公告）日: 2010-10-27
• 發明（設計）人: 洪新欽
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: G02B5/00
• 分類號: G02B5/00;G03F7/00;G02B7/02;H01L27/146
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種遮光片陣列，其包括一塊透光平板，其特征在于，該透光平板具有多個間隔分布的透光區及在該透光區周圍的粗糙區，該透光區為實心透光體，其具有兩個相對且平行的表面，該遮光片陣列還包括設于該粗糙區的遮光層。

2.如權利要求1所述的遮光片陣列，其特征在于：該粗糙區具有相對的第一表面和第二表面，該第一表面為粗糙面，該遮光層至少設于該第一表面與該第二表面中的一個面。

3.如權利要求1所述的遮光片陣列，其特征在于：該多個透光區呈陣列式排布。

4.如權利要求1所述的遮光片陣列，其特征在于：該粗糙區設有至少兩個貫穿該透光平板及該遮光層的對位孔。

5.如權利要求1所述的遮光片陣列，其特征在于：該遮光片陣列進一步包括設于該透光區的表面的濾光層。

6.一種遮光片陣列的制造方法，其包括以下步驟：

提供一塊透光平板；

于該透光平板的表面設置光阻層；

對該光阻層曝光顯影，以保留該光阻層的多個間隔分布的預留部分；

對該光阻層的預留部分周圍的透光平板的表面進行粗糙化處理，以使其成為粗糙面；

于該粗糙面形成遮光層；

去除該預留部分，使透光平板相應于原預留部分的表面曝露于外，以形成具有多個間隔分布的透光區的遮光片陣列。

7.如權利要求6所述的遮光片陣列的制造方法，其特征在于：該遮光片陣列的制造方法進一步包括形成至少兩個對位孔，該對位孔貫穿該透光平板及該遮光層。

8.如權利要求6所述的遮光片陣列的制造方法，其特征在于：該遮光片陣列的制造方法進一步包括形成濾光層于該透光區的表面。

9.一種鏡頭模組陣列，其包括：一個鏡片陣列，該鏡片陣列包括多個鏡片；

一個與該鏡片陣列疊合在一起的遮光片陣列，該遮光片陣列包括一塊透光平板，該透光平板具有多個間隔分布的透光區及在該透光區周圍的粗糙區，該透光區為實心透光體，其具有兩個相對且平行的表面，該遮光片陣列還包括設于該粗糙區的遮光層，該透光區的中心軸與該鏡片的中心軸重合。

10.如權利要求9所述的鏡頭模組陣列，其特征在于：其特征在于，該粗糙區具有相對的第一表面及第二表面，該第一表面為粗糙面，該遮光層至少設于該第一表面與第二表面中的一個面。