[發(fā)明專利]磁控濺射裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910301434.4
• 申請日: 2009-04-08
• 公開（公告）號: CN101857951A
• 公開（公告）日: 2010-10-13
• 發(fā)明（設計）人: 裴紹凱;林后堯
• 申請（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種磁控濺射裝置，包括一濺射腔體、設置在該濺射腔體內(nèi)的濺射靶，其特征在于，該濺射靶包括：基座、固定于該基座的轉(zhuǎn)軸、多塊金屬板及多塊靶材，該多塊金屬板分別固設于該基座相對的兩表面，且每個金屬板具有一背離該基座的靶材固定面，該多塊靶材分別固設于一金屬板的靶材固定面上；該磁控濺射裝置還包括一轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置，該轉(zhuǎn)軸連接于該轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置從而該轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置可驅(qū)動該濺射靶以該轉(zhuǎn)軸為軸實現(xiàn)翻轉(zhuǎn)。

2.如權(quán)利要求1所述的磁控濺射裝置，其特征在于，該基座用于固定該多塊金屬板的兩表面相互平行。

3.如權(quán)利要求1所述的磁控濺射裝置，其特征在于，該基座相對兩側(cè)的兩塊金屬板的靶材固定面相互平行。

4.如權(quán)利要求1所述的磁控濺射裝置，其特征在于，該轉(zhuǎn)軸穿設于該基座。

5.如權(quán)利要求1所述的磁控濺射裝置，其特征在于，該轉(zhuǎn)軸與該基座一體形成。

6.如權(quán)利要求1所述的磁控濺射裝置，其特征在于，該多塊金屬板內(nèi)均形成有冷卻水道。

7.如權(quán)利要求6所述的磁控濺射裝置，其特征在于，該金屬板靶材固定面內(nèi)嵌設有多個第一磁鐵與多個第二磁鐵，該多個第一磁鐵在該靶材固定面上圍合形成第一區(qū)域，該多個第二磁鐵在該靶材固定面上圍合形成第二區(qū)域，該第二區(qū)域位于該第一區(qū)域內(nèi)，冷卻水道在該靶材固定面上的投影位于該第一區(qū)域內(nèi)且位于該第二區(qū)域外。

8.如權(quán)利要求7所述的磁控濺射裝置，其特征在于，該多個第一磁鐵與多個第二磁鐵在靠近靶材固定面一端的極性相反。

9.一種磁控濺射裝置，包括一濺射腔體、設置在其該濺射腔體內(nèi)的多個濺射靶；其特征在于，每個濺射靶包括：基座、轉(zhuǎn)軸、兩塊金屬板及兩塊靶材，固定于該基座的轉(zhuǎn)軸，該兩塊金屬板分別固設于該基座相對的兩表面，且每個金屬板具有一背離該基座的靶材固定面，該兩塊靶材分別固設于一金屬板的靶材固定面上；該磁控濺射裝置還包括多個轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置，每個濺射靶的轉(zhuǎn)軸連接于相應的轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置從而該多個轉(zhuǎn)動驅(qū)動裝置可分別驅(qū)動相應的濺射靶以其轉(zhuǎn)軸為軸實現(xiàn)翻轉(zhuǎn)。