[發(fā)明專利]一種薄膜制備裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910300041.1 | 申請日: | 2009-01-05 |
| 公開(公告)號: | CN101768730A | 公開(公告)日: | 2010-07-07 |
| 發(fā)明(設計)人: | 裴紹凱 | 申請(專利權)人: | 鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/30 | 分類號: | C23C16/30 |
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| 地址: | 518109廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 薄膜 制備 裝置 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及一種薄膜制備裝置,尤其涉及一種前驅(qū)體溶液中各組分混合均 勻的薄膜制備裝置。
背景技術
目前,薄膜制程技術廣泛應用于半導體工業(yè)及精密機械上,由于利用薄膜 制程技術所生產(chǎn)的產(chǎn)品具有很高附加價值,使薄膜制程技術與薄膜材料被廣泛 應用于研究和實際,同時帶來鍍膜技術的迅速發(fā)展。
氧化鋅薄膜是一種廣泛應用于各種工業(yè)產(chǎn)品的透明薄膜,其可以提高產(chǎn)品 表面的光澤度并保護產(chǎn)品表面不被劃傷。為了達到提高薄膜的電阻、增加薄膜 的光吸收特性、降低薄膜內(nèi)應力等目的,通常會在氧化鋅薄膜內(nèi)摻雜鋁、銦、 銅、鐵或錫等元素。如葛水兵等人發(fā)表于材料科學與工程2000年第三期中的文 獻《ZnO:Al透明導電膜的制備及其性能的研究》中的介紹。
現(xiàn)有技術中,往氧化鋅薄膜中摻雜鋁、錫等元素常用的方法是以鋅源溶液 作為鍍膜溶液,以含鋁、錫等摻雜元素的溶液作為摻雜劑溶液,將鍍膜溶液與 摻雜劑溶液直接混合得到前驅(qū)體溶液,再將前驅(qū)體溶液沉積于待鍍膜的基板表 面以制備薄膜。然而,采用該直接混合方式得到的前驅(qū)體溶液中鍍膜溶液與摻 雜劑溶液難以有效混合,導致所得薄膜結(jié)晶品質(zhì)不佳。此外,該前驅(qū)體溶液極 可能在放置一段時間后發(fā)生化學反應從而析出副產(chǎn)物,該副產(chǎn)物將污染前驅(qū)體 溶液,也會影響鍍膜品質(zhì)。
因此,有必要提供一種前驅(qū)體溶液中各組分混合均勻的薄膜制備裝置。
發(fā)明內(nèi)容
一種薄膜制備裝置包括前驅(qū)體溶液制備裝置和薄膜沉積裝置。所述前驅(qū)體 溶液制備裝置包括儲液罐、汽化裝置和吸收塔。所述儲液罐和所述汽化裝置均 與所述吸收塔相連通。所述儲液罐用于儲存鍍膜溶液并向吸收塔提供鍍膜溶液。 所述汽化裝置用于汽化摻雜劑溶液并向吸收塔提供汽化后的摻雜劑溶液。所述 吸收塔為板式吸收塔、填料塔或湍球塔,當所述吸收塔為板式吸收塔時,板式 吸收塔的塔板為篩孔塔板、浮閥塔板或泡罩塔板,所述吸收塔用于使鍍膜溶液 吸收汽化后的摻雜劑溶液溶液從而得到前驅(qū)體溶液。所述薄膜沉積裝置用于將 前驅(qū)體溶液導至待鍍膜的基板表面以形成薄膜。
相比于現(xiàn)有技術,上述薄膜制備裝置的前驅(qū)體溶液制備裝置包括汽化裝置 和吸收塔,汽化裝置可使摻雜劑溶液汽化,吸收塔可使鍍膜溶液充分吸收汽化 后的摻雜劑溶液,從而得到各組分充分混合的前驅(qū)體溶液,進而使得薄膜沉積 裝置得到相態(tài)均勻的薄膜。此外,該薄膜制備裝置還可方便地控制前驅(qū)體溶液 的組分。
附圖說明
圖1為本技術方案實施例提供的薄膜制備裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為使用本技術方案實施例提供的薄膜制備裝置制備摻雜有鋁元素的氧 化鋅薄膜的示意圖。
圖3為使用本發(fā)明實施例提供的薄膜制備裝置制得的摻雜鋁元素的氧化鋅 薄膜的掃描電子顯微鏡(SEM)照片。
具體實施方式
下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明實施例作進一步詳細說明。
請參閱圖1,本實施例提供一種薄膜制備裝置10,其用于制備前驅(qū)體溶液 并將該前驅(qū)體溶液導至待鍍膜的基板表面以形成薄膜。薄膜制備裝置10包括前 驅(qū)體溶液制備裝置11和薄膜沉積裝置12。
所述前驅(qū)體溶液制備裝置11用于制備前驅(qū)體溶液。前驅(qū)體溶液制備裝置11 包括汽化裝置110、儲液罐111和吸收塔112。
汽化裝置110用于加熱摻雜劑溶液以使其汽化。本實施例中,汽化裝置110 包括容置腔1101和加熱部1102。所述容置腔1101用于容置待汽化的摻雜劑溶 液。所述加熱部1102用于對容置腔1101內(nèi)的摻雜劑溶液提供熱量以使摻雜劑 溶液汽化。優(yōu)選地,汽化裝置110的容置腔1101上方可設置一載氣入口,往其 中充入載氣(如氮氣)以使載氣帶動汽化后的摻雜劑溶液進入吸收塔。
儲液罐111用于儲存鍍膜溶液并向吸收塔112提供鍍膜溶液。儲液罐111 具有一個閥門1110用于調(diào)節(jié)進入吸收塔112的鍍膜溶液的流量。
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C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





