[發(fā)明專利]一種薄膜制備裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910300041.1
• 申請(qǐng)日: 2009-01-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101768730A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-07-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 裴紹凱
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/30
• 分類號(hào): C23C16/30
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種薄膜制備裝置，包括前驅(qū)體溶液制備裝置和薄膜沉積裝置，所述前驅(qū)體 溶液制備裝置用于制備前驅(qū)體溶液，所述薄膜沉積裝置用于將前驅(qū)體溶液導(dǎo)至 待鍍膜的基板表面以形成薄膜，其特征在于，所述前驅(qū)體溶液制備裝置包括儲(chǔ) 液罐、汽化裝置和吸收塔，所述儲(chǔ)液罐和所述汽化裝置均與所述吸收塔相連通， 所述儲(chǔ)液罐用于儲(chǔ)存鍍膜溶液并向吸收塔提供鍍膜溶液，所述汽化裝置用于汽 化摻雜劑溶液并向吸收塔提供汽化后的摻雜劑溶液，所述吸收塔為板式吸收塔、 填料塔或湍球塔，當(dāng)所述吸收塔為板式吸收塔時(shí)，板式吸收塔的塔板為篩孔塔 板、浮閥塔板或泡罩塔板，所述吸收塔用于使鍍膜溶液吸收汽化后的摻雜劑溶 液從而得到前驅(qū)體溶液。

2.如權(quán)利要求1所述的薄膜制備裝置，其特征在于，所述汽化裝置包括容置腔 和加熱部，所述容置腔與吸收塔相連通，用于容置摻雜劑溶液，所述加熱部用 于對(duì)容置腔提供熱量以使容置腔內(nèi)的摻雜劑溶液汽化。

3.如權(quán)利要求2所述的薄膜制備裝置，其特征在于，所述容置腔上方具有載氣 入口，用于往容置腔內(nèi)充入載氣以使載氣帶動(dòng)汽化后的摻雜劑溶液進(jìn)入吸收塔。

4.如權(quán)利要求1所述的薄膜制備裝置，其特征在于，所述板式吸收塔具有頂部、 與頂部相對(duì)的底部以及位于頂部和底部之間的多塊塔板，所述多塊塔板用于均 勻混合鍍膜溶液和汽化后的摻雜劑溶液。

5.如權(quán)利要求4所述的薄膜制備裝置，其特征在于，所述板式吸收塔具有進(jìn)氣 口、進(jìn)液口和出液口，所述板式吸收塔通過(guò)所述進(jìn)氣口與所述汽化裝置相連通， 以使汽化后的摻雜劑溶液進(jìn)入板式吸收塔，所述板式吸收塔通過(guò)所述進(jìn)液口與 所述儲(chǔ)液罐連通，以使鍍膜溶液進(jìn)入吸收塔，所述出液口與所述薄膜沉積裝置 相連通，用于向薄膜沉積裝置輸出前驅(qū)體溶液。

6.如權(quán)利要求5所述的薄膜制備裝置，其特征在于，所述進(jìn)氣口和出液口開(kāi)設(shè) 于板式吸收塔的底部，所述進(jìn)液口開(kāi)設(shè)于吸收塔的頂部。

7.如權(quán)利要求1所述的薄膜制備裝置，其特征在于，所述前驅(qū)體溶液制備裝置 還包括套設(shè)于吸收塔外部的微波加熱器，用于對(duì)該吸收塔加熱以利于前驅(qū)體溶 液進(jìn)入薄膜沉積裝置成膜。

8.如權(quán)利要求1所述的薄膜制備裝置，其特征在于，所述薄膜沉積裝置包括相 對(duì)設(shè)置的加熱臺(tái)和噴頭，所述加熱臺(tái)用于承載并加熱待鍍膜的基板，所述噴頭 與吸收塔相連通，用于噴出前驅(qū)體溶液以在待鍍膜的基板表面形成薄膜。

9.如權(quán)利要求8所述的薄膜制備裝置，其特征在于，所述噴頭與旋轉(zhuǎn)汽缸相連 接，所述旋轉(zhuǎn)汽缸用于帶動(dòng)噴頭旋轉(zhuǎn)。

10.如權(quán)利要求8所述的薄膜制備裝置，其特征在于，所述薄膜沉積裝置還包括 一個(gè)超聲波霧化裝置，所述超聲波霧化裝置連接于吸收塔與噴頭之間，用于霧 化前驅(qū)體溶液。