[發明專利]一種檢驗晶片對準的方法有效
| 申請號： | 200910261621.4 | 申請日： | 2009-12-18 |
| 公開（公告）號： | CN102103335A | 公開（公告）日： | 2011-06-22 |
| 發明（設計）人： | 何如兵;陳鵬;吳廣州;張聰 | 申請（專利權）人： | 和艦科技(蘇州)有限公司 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京連和連知識產權代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光輝 |
| 地址： | 215025 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 檢驗 晶片 對準 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種檢驗晶片對準的方法，其特征在于包括：
步驟1：以對準正常的晶片為標準，在機臺中存儲該晶片的圖形信息，在該晶片上選取一個或多個檢驗點并在機臺內建立程序；
步驟2：根據在目鏡中觀察到的被測晶片在檢驗點的圖形，確定被測晶片的對準程度。
2.如權利要求1所述的檢驗晶片對準的方法，其特征在于，所述檢驗點包括有第一檢驗點和第二檢驗點。
3.如權利要求2所述的檢驗晶片對準的方法，其特征在于，所述第一檢驗點設置在晶片十點鐘方向，所述第二檢驗點設置在晶片兩點鐘方向。
4.如權利要求2或3所述的檢驗晶片對準的方法，其特征在于，所述檢驗點為十字型。
5.如權利要求4所述的檢驗晶片對準的方法，其特征在于，所述確定晶片的對準程度具體為：
在目鏡下觀察十字型，若兩個檢驗點都能觀察到十字型的一半以上，則為對準晶片；若有至少一個檢驗點觀察不到十字型的一半以上，則為對準不良晶片。
6.如權利要求1所述的檢驗晶片對準的方法，其特征在于，所述目鏡的觀察倍率為500倍。
7.如權利要求6所述的檢驗晶片對準的方法，其特征在于，所述機臺為Leica-INS300機臺。
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