[發明專利]顯示基板及其制造方法無效
| 申請號: | 200910258383.1 | 申請日: | 2009-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN101750822A | 公開(公告)日: | 2010-06-23 |
| 發明(設計)人: | 金度賢;鄭鐘鉉;崔永柱;樸弘植;印泰炯;李東勛;尹弼相;樸帝亨;鄭敞午;李制勛;洪瑄英;金俸均;李炳珍;徐南錫 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;H01L23/528;H01L21/768 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 張波 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 及其 制造 方法 | ||
1.一種顯示基板,包括:
底基板;
形變防止層,設置在所述底基板的下表面上,其中所述形變防止層向所述底基板施加防止所述底基板彎曲的力;
柵極線,設置在所述底基板的上表面上;
數據線,設置在所述底基板上;以及
像素電極,設置在所述底基板上。
2.如權利要求1所述的顯示基板,其中每個所述形變防止層和所述柵極線都具有施加到其上的拉應力。
3.如權利要求2所述的顯示基板,其中所述柵極線包括從由鋁、銅、銀、鋁合金、銅合金、銀合金及其組合組成的組中選出的至少一種。
4.如權利要求2所述的顯示基板,其中所述形變防止層包括有機絕緣層。
5.如權利要求2所述的顯示基板,其中所述形變防止層包括無機絕緣層。
6.如權利要求5所述的顯示基板,其中所述形變防止層包括從由氮化硅、氧化硅及其組合組成的組中選出的至少一個。
7.一種顯示基板,包括:
底基板;
形變防止層,設置在所述底基板的上表面上,其中所述形變防止層向所述底基板施加防止所述底基板彎曲的力;
柵極線,設置在所述形變防止層上;
數據線,設置在所述底基板上;以及
像素電極,設置在所述底基板上。
8.如權利要求7所述的顯示基板,其中所述柵極線包括具有施加到其上的拉應力的金屬材料。
9.如權利要求8所述的顯示基板,其中所述形變防止層包括具有施加到其上的壓應力的材料。
10.如權利要求9所述的顯示基板,其中所述形變防止層包括無機層。
11.如權利要求10所述的顯示基板,其中所述形變防止層包括從由氮化硅、氮化鈦、氮化鉬、氧化硅、氧化銅、氮化銅、氧化銦錫、氧化銦鋅及其組合組成的組中選出的至少一個。
12.如權利要求9所述的顯示基板,其中所述形變防止層包括有機層。
13.一種顯示基板的制造方法,所述方法包括:
在底基板的下表面上設置形變防止層,其中所述形變防止層向所述底基板施加防止所述底基板彎曲的力;
在所述底基板的上表面上設置柵極金屬層;
圖案化所述柵極金屬層以形成柵極線;
在所述底基板上設置與所述柵極線交叉的數據線;以及
在所述底基板上設置像素電極。
14.如權利要求13所述的方法,其中每個所述形變防止層和所述柵極線都具有施加到其上的拉應力。
15.如權利要求14所述的方法,其中所述形變防止層包括從由鋁、銅、銀、鋁合金、銅合金、銀合金及其組合組成的組中選出的至少一個。
16.如權利要求13所述的方法,其中圖案化所述柵極金屬層還包括:
去除所述形變防止層。
17.如權利要求16所述的方法,其中圖案化所述柵極金屬層和去除所述形變防止層利用相同的刻蝕溶液實質上同時進行。
18.如權利要求13所述的方法,其中所述柵極金屬層的厚度為約1μm至約10μm。
19.如權利要求18所述的方法,其中所述形變防止層的厚度不大于所述柵極金屬層厚度的一半。
20.如權利要求19所述的方法,其中所述形變防止層的厚度比所述柵極金屬層的厚度薄約1.34μm至約1.36μm。
21.如權利要求13所述的方法,還包括在所述底基板與所述柵極金屬層之間形成附著層。
22.如權利要求21所述的方法,其中所述附著層包括從由鉬、鈦、鉬鈦合金、氧化銅、鉬鈮合金、鈷、鎳、鋁、鉭及其組合組成的組中選出的至少一個。
23.如權利要求13所述的方法,還包括加熱其上形成有所述形變防止層和所述柵極金屬層的所述底基板。
24.如權利要求13所述的方法,其中所述形變防止層包括有機絕緣層。
25.如權利要求24所述的方法,其中所述有機絕緣層是膜。
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