[發明專利]像素結構有效
| 申請號: | 200910253586.1 | 申請日: | 2009-12-03 |
| 公開(公告)號: | CN101738805A | 公開(公告)日: | 2010-06-16 |
| 發明(設計)人: | 柳智忠;黎昔耀 | 申請(專利權)人: | 深超光電(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1368;H01L23/528 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 丁建春;陳華 |
| 地址: | 518100 廣東省深圳市寶安*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 像素 結構 | ||
1.一種像素結構,包括:
一掃描線以及一數據線,彼此交錯并且電性絕緣;
一柵極,電性連接至該掃描線;
一半導體層,位于該柵極上方;
一源極,至少位于該半導體圖案上并連接至該數據線;
一漏極,至少位于該半導體圖案上,該漏極包括:一接觸部,位于該 柵極之外;一電極部,位于該半導體圖案上;一連接部,由該接觸部沿一 方向延伸以連接至該電極部并與該柵極部分重疊,且該連接部具有一第一 寬度;
一延伸電極,連接該掃描線,且該延伸電極的一末端沿該方向指向該 半導體層并與該漏極重疊,而該延伸電極具有一第二寬度,且該第一寬度 等于該第二寬度,并且該半導體層更配置于該延伸電極與該漏極之間且位 于該延伸電極與該漏極重疊區域;以及
一像素電極,連接該漏極的該接觸部。
2.如權利要求1所述的像素結構,其中該延伸電極遠離該末端的一 端連接于該掃描線。
3.如權利要求2所述的像素結構,其中該延伸電極的形狀為L形。
4.如權利要求2所述的像素結構,其中該延伸電極為U型。
5.如權利要求1所述的像素結構,其中該漏極的該電極部為一U型 部,以圍繞該源極,且該U型部具有一底部以及垂直于該底部延伸的兩 分支。
6.如權利要求5所述的像素結構,其中該漏極的該連接部連接該U 型部的該底部或其中一該分支。
7.如權利要求1所述的像素結構,其中該源極為一U型源極,U型 源極圍繞該漏極的該電極部。
8.如權利要求6所述的像素結構,其中該漏極的該電極部與該連接 部連接成一長條圖案。
9.如權利要求1所述的像素結構,其中該漏極更包括一凸出部,該 接觸部位于該連接部與該凸出部之間,且該凸出部平行該方向而與該延伸 電極重疊。
10.如權利要求1所述的像素結構,其中該漏極更包括一凸出部,平 行該柵極的邊緣而不與該閘極重迭,且該凸出部連接于該接觸部而與該延 伸電極重疊。
11.如權利要求1所述的像素結構,其中該漏極為一體成型。
12.如權利要求1所述的像素結構,其中該源極與該數據線為一體成 型。
13.如權利要求1所述的像素結構,其中該柵極位于該掃描線中。
14.如權利要求13所述的像素結構,其中該延伸電極連接該柵極。
15.如權利要求1所述的像素結構,其中該柵極由該掃描線凸出。
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