[發明專利]有機發光顯示設備及其制造方法

有效

• 申請號: 200910252840.6
• 申請日: 2009-12-04
• 公開（公告）號: CN101764090A
• 公開（公告）日: 2010-06-30
• 發明（設計）人: 李敬勛;樸鐘賢;樸泰翰;鄭賢哲;柳東熙
• 申請（專利權）人: 樂金顯示有限公司
• 主分類號: H01L21/82
• 分類號: H01L21/82;H01L51/56;H01L27/32;H01L51/52
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝

1.一種用于制造有機發光顯示設備的方法，該方法包括以下步驟：

制備具有以矩陣形式限定的多個像素區的基板；

在各個像素區中設置陽極；

通過溶解工藝在陽極上形成空穴注入層；

通過溶解工藝在所述空穴注入層上形成具有70°或更大的水接觸角 和疏水特性的中間層；

對所述中間層進行選擇性的UV照射，以在所述中間層上限定親水 區；

通過溶解工藝在除了UV照射部分之外的所述中間層的疏水區中形 成發光層；以及

在具有所述發光層的所述基板上設置陰極。

2.一種用于制造有機發光顯示設備的方法，該方法包括以下步驟：

制備具有以矩陣形式限定的多個像素區的基板；

在各個像素區中設置陽極；

通過溶解工藝在陽極上形成空穴注入層；

通過溶解工藝在所述空穴注入層上形成具有70°或更大的水接觸角 和疏水特性的中間層；

對所述中間層進行選擇性的UV照射以對所述中間層進行親水處理， 從而在所述中間層的UV照射部分處具有小于70°的水接觸角；

在除了所述UV照射部分之外的所述中間層的疏水區中形成發光層； 以及

在具有所述發光層的所述基板上設置陰極。

3.根據權利要求2所述的方法，其中形成所述中間層的步驟包括以 下步驟：將具有所述陽極和所述空穴注入層的所述基板浸入到中間層材 料中，或者，通過從由旋涂、滾印、狹縫涂敷、噴嘴涂敷和噴墨構成的 組中選擇的至少一種方式，將所述中間層材料涂到具有所述陽極和所述 空穴注入層的所述基板的頂部。

4.根據權利要求2所述的方法，其中形成所述發光層的步驟包括以 下步驟：將具有所述陽極、所述空穴注入層以及所述中間層的所述基板 浸入到發光材料中，或者，通過從由旋涂、滾印、狹縫涂敷、噴嘴涂敷 和噴墨構成的組中選擇的至少一種方式，將所述發光材料涂到具有所述 陽極、所述空穴注入層以及所述中間層的所述基板的頂部。

5.根據權利要求2所述的方法，該方法還包括以下步驟：在形成所 述發光層之后，通過從由浸入、旋涂、噴嘴涂敷、狹縫涂敷、滾印、噴 墨和蒸發沉積構成的組中選擇的至少一種方式，在所述發光層的頂部上 形成電子傳輸層。

6.根據權利要求2所述的方法，其中所述中間層由表現出UV吸收 或光解性能的材料構成。

7.根據權利要求2所述的方法，其中所述中間層包含具有從C-C， C=N，C=C，Si-O，C-O，和C=O中選擇的至少一種鍵的有機物質。

8.根據權利要求7所述的方法，其中所述中間層包含從由酰亞胺基、 胺基、硅烷基、碳酸酯基、酯基、醋酸酯基、磺酸酯基、硝酸酯基、酮 基、氟基、氧雜環丁烷基、和環氧基構成的組中選擇的至少一種官能團。

9.根據權利要求8所述的方法，其中所述中間層包含三苯胺。

10.根據權利要求2所述的方法，其中以150到260nm的波長進行 所述UV照射。

11.根據權利要求2所述的方法，其中UV照射的壓力的范圍為1 ×10^-5托到800托。

12.一種用于制造有機發光顯示設備的方法，該方法包括以下步驟：

制備具有以矩陣形式限定的多個像素區的基板；

在各個像素區中設置陽極；

通過溶解工藝在陽極上形成空穴注入層；

通過溶解工藝在所述空穴注入層上形成具有70°或更大的水接觸角 和疏水特性的中間層；

對所述中間層進行選擇性的UV照射以對其構圖；

通過溶解工藝在除了UV照射部分之外的構圖后的中間層的疏水區 中形成發光層；以及

在具有所述發光層的所述基板上設置陰極。