[發明專利]銅銦鎵硒薄膜太陽電池光吸收層的硒化方法有效
| 申請號: | 200910229193.7 | 申請日: | 2009-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN102097522A | 公開(公告)日: | 2011-06-15 |
| 發明(設計)人: | 趙彥民;劉興江;方小紅;王慶華;馮金暉 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第十八研究所 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 銅銦鎵硒 薄膜 太陽電池 光吸收 方法 | ||
技術領域
本發明屬于銅銦鎵硒薄膜太陽電池制造技術領域,尤其是一種銅銦鎵硒薄膜太陽電池光吸收層的硒化方法。
背景技術
銅銦鎵硒(泛指CIGS,CIGSS)薄膜太陽電池的基本結構是:基底/金屬背電極/光吸收層/(緩沖層)/窗口層/透明電極層/金屬柵狀電極/減反射層。目前,以黃銅礦結構化合物半導體銅銦鎵硒為光吸收層的薄膜太陽電池,被認為是最具有發展前景的化合物電池之一,銅銦鎵硒薄膜是一種直接帶隙半導體材料,其重要特性是能隙可通過Ga摻入量進行調節。銅銦鎵硒材料禁帶寬度可以在1.04eV~1.65eV間變化,非常適合調整和優化材料的禁帶寬度,使銅銦鎵硒薄膜太陽電池具有最佳的光學能隙。銅銦鎵硒薄膜材料對可見光的吸收系數是薄膜電池中最高的,達到105/cm,適合于電池結構薄膜化。這些優勢使銅銦鎵硒薄膜電池成為轉換效率最高的薄膜電池。其具有制造成本低、高光電轉換效率強、抗輻射能力強、性能穩定等優點。當前銅銦鎵硒光吸收層的制備方法主要有共蒸法和濺射后硒化法。共蒸法有兩種方式,一種是一步共蒸法,即將Cu、In、Ga、Se或者包括S同時蒸發沉積,形成銅銦鎵硒薄膜;另一種是三步共蒸法,由于美國國家可再生能源實驗室(NREL)最先采用,所以也叫做NREL法,該方法分三步進行,首先是蒸發沉積In、Ga和Se,接著蒸發沉積Cu和Se,最后為了使III族元素過量,再次蒸發沉積In、Ga和Se。硒化法是在襯底上先沉積銅銦鎵(Cu、In、Ga)形成預制膜基片,然后在Se氣氛中硒化形成銅銦鎵硒光吸收層。同樣用硫替代硒,也可進行硫化反應或先硒后硫(先硫后硒)分步法的化學熱處理,最終生成銅銦鎵硒光吸收層。共蒸法制備的銅銦鎵硒光吸收層不易控制、工藝設備復雜;硒化法制備的銅銦鎵硒光吸收層工藝簡單,易于控制,適合工業化生產。
現有技術中的預制膜基片既可用H2Se或H2S氣體硒化制備銅銦鎵硒光吸收層,也可用固態Se或S硒化制備銅銦鎵硒光吸收層。其中采用H2Se或H2S氣體制備的光吸收層制成的銅銦鎵硒薄膜太陽電池轉換效率較高,但H2Se或H2S均是劇毒氣體,且易燃,對保存和操作的要求非常高,嚴重影響了此種方法的實際應用;采用固態Se或S硒化制備銅銦鎵硒光吸收層,例如中國專利CN1719625采用的預蒸發硒化或硫化法,是先在預制膜基片表面蒸發一層硒或硫,再通過鹵鎢燈照射加熱預制膜基片,制備銅銦鎵硒吸收層,其反應物的消耗大,溫度不易控制。
發明內容
本發明的目的在于克服現有技術的不足,提供一種工藝簡單、溫度容易控制、減少吸收層雜相的產生、反應物消耗少的銅銦鎵硒薄膜太陽電池光吸收層的硒化方法。
本發明解決其技術問題是通過以下技術方案實現的:
銅銦鎵硒薄膜太陽電池光吸收層的硒化方法,包括以下過程:
(1)裝片:將退火后的基片放在能夠與機械磁力拉桿相吸的基片支架上,反應物裝入石英舟;自上至下將基片加熱器、基片支架、套在導向桶中的石英舟和石英舟加熱爐放置在一個反應腔體中,導向桶外周均布有加熱帶;用抽真空系統對反應腔體、通過閥門與反應腔體相通的轉換腔體和石英舟抽真空,真空度均為6×10-3Pa以下;
(2)升溫:由PID溫度控制器控制溫度,石英舟加熱爐溫度升至200℃以上、加熱帶溫度升至250℃以上時,打開基片加熱器升溫至500℃以上;石英舟中的反應物正對著基片,基片和反應物進行硒化反應,保持15min以上;
(3)降溫:硒化反應完成后,基片加熱器保持500℃以上,石英舟加熱爐和加熱帶溫度通過反應腔體壁中的循環水快速降溫至200℃以下,用機械磁力拉桿吸住基片支架,快速拉至與反應腔體相通的溫度為室溫的轉換腔體中,待基片溫度降至室溫,基片即為銅銦鎵硒薄膜太陽電池光吸收層。
而且,所述(1)中反應物為硒或硫,或硒和硫的混合物。
而且,所述(1)中基片加熱器為紅外鹵鎢燈。
而且,所述(1)中石英舟加熱爐為阻性材料。
而且,所述(1)中導向桶為不銹鋼圓柱筒,圓柱體外周布有阻性材料。
而且,所述(1)中抽真空系統為機械泵或小型渦輪分子泵。
本發明的優點和有益效果為:
1、本發明反應后的基片由于從500℃以上的反應室快速移到室溫真空轉換腔體,由于采用雙腔體結構,保證了基片溫度的控制,減少了吸收層雜相的產生。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





