[發明專利]化學機械拋光心軸傳動裝置無效
| 申請號: | 200910227956.4 | 申請日: | 2009-12-08 |
| 公開(公告)號: | CN101708593A | 公開(公告)日: | 2010-05-19 |
| 發明(設計)人: | 陳威;柳濱;廖垂鑫 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第四十五研究所 |
| 主分類號: | B24B47/12 | 分類號: | B24B47/12;H01L21/302 |
| 代理公司: | 石家莊新世紀專利商標事務所有限公司 13100 | 代理人: | 張貳群 |
| 地址: | 065201 河北省*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 化學 機械拋光 心軸 傳動 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及化學機械拋光設備技術領域。
背景技術
化學機械拋光(CMP)是一種對半導體材料或是其它類型的材料的襯底 進行平坦化或是拋光的方法。在化學機械拋光過程中,拋光頭起著拾取晶圓 和帶動晶圓旋轉在拋光墊上進行拋光的作用,晶圓拾取和晶圓旋轉通過晶片 運載器(carrier)實現,晶圓運載器與心軸系統上的運載器法蘭通過真空 固定,晶圓拾取和晶圓旋轉通過心軸系統提供動力。晶片由晶片運載器保持, 晶片的背側面面對晶片運載器,晶片的前側面面對拋光墊,拋光墊放在臺板 上,臺板通常放在晶片運載器上,晶片運載器和臺板旋轉,從而拋光墊拋光 晶片前側面。
發明內容
本發明的目的是提供一種化學機械拋光心軸傳動裝置,具有結構簡單、 緊湊、使用方便、工作效率高、心軸力易控制、有利于提高工作質量的特點; 用途廣,尤其適用于化學機械拋光設備上,也可適于其它具有與CMP相似工 藝要求的其他半導體設備上。
本發明的主要技術方案是:一種化學機械拋光心軸傳動裝置,包括心軸 自轉機構,其特征在于具有心軸升降機構和心軸公轉機構,結構為:心軸的 座套和轉動架間設有四連桿機構,四連桿機構的上下相對的兩桿件間裝有可 控制四連桿機構開合的伸縮機構,所述的轉動架固定在公轉軸上。
所述的伸縮機構可為氣囊機構。也可為氣缸、油缸或電動絲杠等。
所述的四連桿機構的豎板上固定有固定板,壓簧和氣囊機構分別固定在 固定板的上下面上,壓簧和氣囊機構另一端分別與上活動板、下活動板連接, 上活動板、下活動板分別安裝在的上下相對的兩桿件間。
所述的四連桿機構裝有壓力傳感器,并設有心軸壓力閉環控制電路。
所述的公轉軸上裝有傳動帶輪,公轉軸裝在軸座上。
所述的心軸自轉機構為:伺服電機通過減速器和心軸連接,心軸裝在低 摩擦力的滾動軸承上。
所述的心軸為多孔空心軸,可與水路氣嘴、氣路氣嘴、真空氣嘴連接的 通道流體裝置與該多孔空心軸軸相連,軸與運載器法蘭及運載器相連。
本發明具有突出的有益效果:它克服了已有技術之不足,很好解決了現 有技術中長期以來存在的并一直未能解決的問題,具有結構簡單、緊湊、使 用方便、工作效率高、心軸力易精確控制、有利于提高工作質量的特點;可 實現拋光過程中分區域背壓控制。多空心軸結構,為實現拋光頭通真空、水 路、氣路提供了平臺。采用此項技術對晶圓進行拋光時,可實現拋光頭旋轉、 升降及對心軸力的精確控制。用途廣,尤其適用于化學機械拋光設備上,也 可適于其它具有與CMP相似工藝要求的其他半導體設備上。
以下結合附圖及實施例作詳述,但不作為對本發明的限定。
附圖說明
圖1本發明一個實施例的結構示意圖。
圖2是圖1的的裝配示意圖。
圖3是圖1中心軸20的橫、縱剖面圖。
圖4是圖1中心軸20的縱剖面圖。
圖5是圖1中心軸20滾動軸承安裝結構示意圖。
圖6是心軸力控制系統框圖。
圖中標號說明:1-減速器??2-旋轉接頭法蘭??3-氣嘴??4-旋轉接 頭??5-連接件??16-上活動板??7-壓力傳感器??8-傳感器支架??9-轉 動架??10-螺釘11-公轉軸(或塔軸)??12-轉動架2??13-軸座??14- 螺母1??15-帶輪??16-四連桿機構??17-下活動板??18-氣囊機構??19 -運載器法蘭??20-心軸??21-螺母2??22-連桿??23-固定板??24-壓 簧??25-(心軸)座套??26-軸承桿??27-軸承??28-連接件2??29-伺服 電機??30-聯軸器??31-軸承1??32-軸承2。
具體實施方式
參見圖1~圖4,心軸升降:固定板23固定在豎板16上,壓簧24和氣 囊機構18分別固定在固定板23的上下面上,壓簧24和氣囊機構18另一端 分別與上活動板6、下活動板17連接,上、下活動板6、17分別安裝在四 連桿機構上,四連桿機構與心軸20相連,心軸20在壓簧24和氣囊機構18 上保持平衡,通過氣壓的變化,實現心軸20的升降。
心軸自轉:伺服電機29通過減速器1帶動心軸20旋轉,心軸與圓錐滾 子軸承安裝如附圖4所示。
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