[發明專利]化學還原凈化銅電解液的方法無效
| 申請號： | 200910227119.1 | 申請日： | 2009-12-07 |
| 公開（公告）號： | CN101717960A | 公開（公告）日： | 2010-06-02 |
| 發明（設計）人： | 鄭雅杰 | 申請（專利權）人： | 鄭雅杰 |
| 主分類號： | C25C1/12 | 分類號： | C25C1/12 |
| 代理公司： | 中南大學專利中心 43200 | 代理人： | 胡燕瑜 |
| 地址： | 410083*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 化學 還原 凈化 電解液 方法 | ||
【權利要求書】：
1.化學還原凈化銅電解液的方法，其特征在于：在銅電解液中加入還原劑水合肼或二氧化硫及添加劑，還原劑的加入量使5價砷充分還原為3價砷，在0℃-120℃還原反應后，經過過濾，或蒸發結晶硫酸銅后過濾得到凈化后電解液，凈化后電解液加入電解槽返回電解系統。
2.根據權利要求1所述的化學還原凈化銅電解液的方法，其特征在于：所述銅電解液為銅電解原液和經過蒸發結晶脫銅后電解液以及電積脫銅后電解液。
3.根據權利要求1所述的化學還原凈化銅電解液的方法，其特征在于：所述添加劑為含Cl-、Br-、I-離子的化合物，還原反應前在銅電解液中加入添加劑，添加劑的濃度為0mol/L-10mol/L。
4.根據權利要求1所述的化學還原凈化銅電解液的方法，其特征在于：凈化后電解液直接加入電解槽返回電解系統，或凈化后電解液經過蒸發結晶硫酸銅和電積脫銅后加入電解槽返回電解系統，或凈化后電解液經過蒸發結晶脫除硫酸鎳后加入電解槽返回電解系統。
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