[發(fā)明專利]利用表面發(fā)射型電子源的平板顯示裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910218905.5 | 申請日: | 2009-11-10 |
| 公開(公告)號: | CN101728186A | 公開(公告)日: | 2010-06-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡文波;鄭宇;劉純亮;吳勝利;高燕龍 | 申請(專利權(quán))人: | 西安交通大學(xué) |
| 主分類號: | H01J31/12 | 分類號: | H01J31/12;H01J29/02;G09G3/30 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200 | 代理人: | 陸萬壽 |
| 地址: | 710049 陜*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 利用 表面 發(fā)射 電子 平板 顯示裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于顯示器件制造領(lǐng)域,涉及平板顯示裝置,特別涉及一種利用由多層薄膜構(gòu)成的電子源產(chǎn)生表面電子發(fā)射以激發(fā)氣體原子的平板顯示裝置。
背景技術(shù)
當(dāng)前,等離子體顯示器(PDP)以其響應(yīng)速度快、動態(tài)圖像分辨率高、暗室對比度高、視角寬等優(yōu)點(diǎn),成為了平板電視市場上的主流器件之一。PDP的發(fā)光原理是利用惰性氣體的輝光放電以產(chǎn)生真空紫外線(VUV),再由VUV激勵三基色熒光粉發(fā)光。但目前PDP較低的發(fā)光效率(1-2lm/w)和較高的功耗制約了其應(yīng)用的進(jìn)一步推廣和普及。
導(dǎo)致PDP的發(fā)光效率較低的主要原因?yàn)樗鼈兪抢枚栊詺怏w的輝光放電來發(fā)光,而氣體放電中大部分電能被用于氣體原子的電離及離子加速上,這部分能量最后基本上都轉(zhuǎn)化為熱能損失掉,而用于激發(fā)氣體原子來產(chǎn)生VUV的電能很少。并且目前PDP的工作電壓一般較高,為150-260V。
如果能實(shí)現(xiàn)在不發(fā)生氣體放電的情況下,直接由電子激發(fā)氣體原子以產(chǎn)生VUV而激發(fā)熒光粉發(fā)光,則可大大提高PDP的發(fā)光效率,并且可有效降低器件工作電壓。而要在不發(fā)生放電的情況下在氣體空間中產(chǎn)生電子,則必須要有可不斷地向氣體空間注入較高能量電子的電子源。
金屬-絕緣體-金屬(MIM)和金屬-絕緣體-半導(dǎo)體-金屬(MISM)多層薄膜可構(gòu)成性能優(yōu)良的電子源,它們能產(chǎn)生場助熱電子發(fā)射,具有表面電子發(fā)射能力、低電壓工作、發(fā)射均勻性好和電子發(fā)散角小等特點(diǎn),更為重要的是其抗污染能力強(qiáng),實(shí)驗(yàn)已證實(shí)它們可在很低的真空度甚至一定的氣體環(huán)境下工作。目前,MIM和MISM多層薄膜一般作為場發(fā)射陰極應(yīng)用于場發(fā)射顯示器(FED)中。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種將氣體放電發(fā)光技術(shù)和場電子發(fā)射技術(shù)相結(jié)合的一種新型平板顯示裝置,該平板顯示裝置中設(shè)有多層薄膜構(gòu)成的電子源,電子源在電場的作用下產(chǎn)生表面電子發(fā)射,向氣體空間注入能量較高的電子以直接激發(fā)氣體原子,從而提高平板顯示裝置的發(fā)光效率和亮度,并實(shí)現(xiàn)低電壓工作,同時(shí)由于工作電壓低,平板顯示裝置還可采用薄膜晶體管(TFT)矩陣來驅(qū)動,使其驅(qū)動電路集成度提高并得到簡化。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用如下的技術(shù)解決方案:
本發(fā)明的基本構(gòu)思是:平板顯示裝置包括由玻璃材料制成的前基板和后基板,在前、后基板之一或兩者上設(shè)置有熒光粉層,在前基板或后基板上設(shè)置能產(chǎn)生表面電子發(fā)射的電子源,它由用金屬、絕緣體和半導(dǎo)體材料制備的多層薄膜構(gòu)成,前、后基板間充入惰性氣體。平板顯示裝置利用電子源發(fā)射電子來激發(fā)氣體原子輻射VUV,從而激發(fā)熒光粉發(fā)光。具體方案如下:
一種利用表面發(fā)射型電子源的平板顯示裝置,包括由玻璃材料制成的前基板1和后基板2,其特征在于:所述前基板1或后基板2上設(shè)置有能產(chǎn)生表面電子發(fā)射的電子源;所述前基板1和后基板2中至少一個(gè)涂覆有熒光粉層4;所述電子源由上電極7、絕緣膜6和下電極5構(gòu)成;所述下電極5平鋪在后基板2表面,絕緣膜6平鋪在下電極5表面,上電極7平鋪在絕緣膜6表面;所述上電極7與下電極5各包括多條平行的條狀電極,上電極7與下電極5成正交排列,在上電極7和下電極5的每一個(gè)交叉點(diǎn)處形成一個(gè)由電子源及熒光粉層組成的顯示單元,相鄰顯示單元之間設(shè)置有障壁8;所述障壁8的側(cè)壁上涂覆有熒光粉層4。
所述前基板1和后基板2之間充有惰性氣體,電子源置于惰性氣體中。
所述絕緣膜6連續(xù)鋪放在下電極5表面,或只鋪放在上電極7與下電極5交叉點(diǎn)處的下電極5表面。
所述絕緣膜6材料從三氧化二鋁、二氧化硅、氧化鎂、五氧化二鉭、氮化硅、二氧化鉿和氧化鋯中選擇,膜厚為3-500nm。
所述絕緣膜6具有多晶或非晶結(jié)構(gòu)。
所述上電極7和絕緣膜6之間設(shè)置有半導(dǎo)體膜9;
所述電子源由上電極7、半導(dǎo)體膜9、絕緣膜6和下電極5構(gòu)成。
所述半導(dǎo)體膜9材料從硫化鋅、氧化鋅、氧化鎂鋅、硫化鎂、硫化鎘、硒化鋅、硒化鎘中選擇,膜厚為3-100nm。
所述半導(dǎo)體膜9連續(xù)鋪放在絕緣膜6表面,或只鋪放在上電極7與下電極5交叉點(diǎn)處的絕緣膜6表面。
所述下電極5選用Al、W、Cr、Ni、Mo等材料制作,上電極7選用Au、Pt、Ir等材料制作。
所述顯示單元采用由薄膜晶體管構(gòu)成的矩陣來驅(qū)動。
上述技術(shù)方案可以是以下兩種:
第一種技術(shù)方案:
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于西安交通大學(xué),未經(jīng)西安交通大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910218905.5/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
- 一種在多種電子設(shè)備,尤其是在電子服務(wù)提供商的電子設(shè)備和電子服務(wù)用戶的電子設(shè)備之間建立受保護(hù)的電子通信的方法
- 一種電子打火機(jī)及其裝配方法
- 電子檔案管理系統(tǒng)
- 在處理系統(tǒng)化學(xué)分析中使用的電子束激勵器
- 電子文件管理方法和管理系統(tǒng)
- 一種有效電子憑據(jù)生成、公開驗(yàn)證方法、裝置及系統(tǒng)
- 電子文憑讀寫控制系統(tǒng)和方法
- 具有加密解密功能的智能化電子證件管理裝置
- 一種基于數(shù)字證書的電子印章方法及電子印章系統(tǒng)
- 一種電子印章使用方法、裝置及電子設(shè)備





