[發(fā)明專利]平面全息光柵制作中光柵基底的零級(jí)光定位方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910217814.X | 申請(qǐng)日: | 2009-11-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101718884A | 公開(公告)日: | 2010-06-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孔鵬;李文昊;巴音賀希格;齊向東;唐玉國 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 |
| 主分類號(hào): | G02B5/18 | 分類號(hào): | G02B5/18 |
| 代理公司: | 長(zhǎng)春菁華專利商標(biāo)代理事務(wù)所 22210 | 代理人: | 劉樹清 |
| 地址: | 130033 吉*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 平面 全息 光柵 制作 基底 零級(jí)光 定位 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光譜技術(shù)領(lǐng)域中涉及的一種平面全息光柵制作中光柵基底的定位方法。?
背景技術(shù)
在平面全息光柵的制作中,光柵基底的定位精度會(huì)直接影響光柵常數(shù)的精確度,利用零級(jí)光對(duì)光柵基底進(jìn)行定位能夠保證光柵常數(shù)的精確度。?
平面全息光柵是通過光刻膠記錄下兩相干光束的干涉條紋后經(jīng)顯影制作而成,其光柵常數(shù)由干涉條紋周期決定。制作平面全息光柵時(shí)的干涉條紋周期非常小,實(shí)際中難以對(duì)其進(jìn)行直接的精確測(cè)量。常規(guī)的檢測(cè)方法一般都是在完成光柵制作后,通過測(cè)量光柵0級(jí)與1級(jí)衍射光的夾角來計(jì)算光柵常數(shù),測(cè)量誤差較大,光路調(diào)整過程沒有固定的基準(zhǔn)可依,僅憑經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行調(diào)整,往往要經(jīng)過多個(gè)光柵制作回合,并且很難達(dá)到要求的精度。與本發(fā)明最為接近的已有技術(shù)是中國專利號(hào)為CN1544994的專利,提出一種平面全息光柵制作中精確控制光柵常數(shù)的方法,平面全息光柵曝光裝置結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示。激光光源1發(fā)出的光束經(jīng)第一平面反射鏡2和第二平面反射鏡3反射,再經(jīng)空間濾波器4擴(kuò)束濾波后成為球面波,球面波經(jīng)準(zhǔn)直反射鏡5準(zhǔn)直后成為平行光,在平行光光路里放置第五平面反射鏡8引出一束平行光,再經(jīng)第六平面反射鏡9反射后到達(dá)半反半透鏡10,調(diào)整第六平?面反射鏡9使通過半反半透鏡10的反射光和透射光均以自準(zhǔn)直衍射角入射到標(biāo)準(zhǔn)機(jī)刻反射光柵11上,這兩束光經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)機(jī)刻反射光柵11的±1級(jí)自準(zhǔn)直衍射后,各自按它們的入射方向原路返回,再經(jīng)半反半透鏡10之后,-1級(jí)的反射光和+1級(jí)的透射光在半反半透鏡10的另一側(cè)重疊,在接收屏12上形成干涉條紋。這時(shí),將第五平面反射鏡8和第六平面反射鏡9以及標(biāo)準(zhǔn)機(jī)刻反射光柵11撤走并保持半反半透鏡10和接收屏12位置不變,在平行光束中放置第三平面反射鏡6和第四平面反射鏡7,調(diào)整兩束反射光方向使它們?cè)诮邮掌辽闲纬膳c原來一樣的干涉條紋。這樣,在放置標(biāo)準(zhǔn)機(jī)刻反射光柵11的區(qū)域由第三平面反射鏡6和第四平面反射鏡7的反射光束交匯形成的干涉場(chǎng)的條紋周期就與標(biāo)準(zhǔn)機(jī)刻反射光柵11的光柵常數(shù)相同,將涂有光刻膠的光柵基底放置到標(biāo)準(zhǔn)機(jī)刻反射光柵11的位置進(jìn)行曝光、顯影就可以制得具有標(biāo)準(zhǔn)光柵常數(shù)的平面全息光柵。?
該方法存在的主要問題是:實(shí)際操作中撤走標(biāo)準(zhǔn)機(jī)刻反射光柵11后,很難將待曝光的光柵基底還原到標(biāo)準(zhǔn)機(jī)刻反射光柵11原來的位置,如果待曝光的光柵基底法線偏離標(biāo)準(zhǔn)機(jī)刻反射光柵11的法線方向,則必然使制作出光柵的光柵常數(shù)產(chǎn)生誤差。待曝光的光柵基底法線偏離標(biāo)準(zhǔn)機(jī)刻反射光柵11的法線方向越多,制作出光柵的光柵常數(shù)誤差越大。?
發(fā)明內(nèi)容
為了克服已有技術(shù)存在的問題,本發(fā)明的目的在于建立一種簡(jiǎn)便可行的在平面全息光柵制作中采用零級(jí)光對(duì)光柵基底進(jìn)行精確定位的方法。?
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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