[發明專利]電子束輻射改性制備高殘碳聚丙烯腈或聚甲基丙烯腈及其共聚物的方法

無效

• 申請號: 200910216062.5
• 申請日: 2009-10-30
• 公開（公告）號: CN101698707A
• 公開（公告）日: 2010-04-28
• 發明（設計）人: 楊剛;趙春娥;繆培凱;徐國亮;曾科;武迪蒙;胡軍
• 申請（專利權）人: 四川大學
• 主分類號: C08J3/28
• 分類號: C08J3/28;C08J3/24;C08L33/20;C08L33/18;C01B31/02
• 代理公司: 成都科海專利事務有限責任公司 51202
• 代理人: 鄧繼軒

1.電子束輻射改性制備高殘碳聚丙烯腈或聚甲基丙烯腈及其共聚物的方法，其特征在于將聚丙烯腈或聚甲基丙烯腈及其共聚物置于照射室中，于溫度-80～100℃，采用低能或中能或高能電子束進行輻射，其中低能電子束的能量為0.15～0.5MeV，中能電子束的能量為0.5～5MeV，高能電子束的能量為5～10MeV，輻射劑量為5～2000kGy。

2.如權利要求1所述電子束輻射改性制備高殘碳聚丙烯腈或聚甲基丙烯腈及其共聚物的方法，其特征在于共聚物為丙烯腈或甲基丙烯腈或a-鹵代丙烯腈或羥基丙烯腈與衣康酸、丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸、醋酸乙烯酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸異冰片酯、甲基丙烯酸2-(二乙氧基硫代磷酰氧基)乙基酯、1-烯丙基-3-甲基咪唑、丁二烯、氯乙烯、偏氯乙烯、苯乙烯、乙丙橡膠、丙烯酰胺、N-乙烯基甲酰胺、N-對甲苯基馬來酰亞胺和N-苯基馬來酰亞胺中的至少一種進行共聚合的共聚物。

3.如權利要求1所述電子束輻射改性制備高殘碳聚丙烯腈或聚甲基丙烯腈及其共聚物的方法，其特征在于輻射劑量為5～1000kGy。

4.如權利要求1所述電子束輻射改性制備高殘碳聚丙烯腈或聚甲基丙烯腈及其共聚物的方法，其特征在于溫度為25～60℃。