[發明專利]一種全息光柵制作光路中精確調整刻線密度的裝置

無效

• 申請號: 200910215469.6
• 申請日: 2009-12-31
• 公開（公告）號: CN101750649A
• 公開（公告）日: 2010-06-23
• 發明（設計）人: 李文昊;高鍵翔;巴音賀希格;齊向東;譚鑫;曾瑾
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;G03F7/20;G02B7/182
• 代理公司: 長春菁華專利商標代理事務所 22210
• 代理人: 劉樹清

技術領域

本發明屬于光譜技術領域中涉及的一種全息光柵制作光路中精確調整刻線密度的裝置。

背景技術

制作全息光柵時，將涂有光致抗蝕劑的光柵基底放在干涉場中曝光，由光致抗蝕劑記錄干涉場中的干涉條紋，該干涉條紋的密度即被制作光柵的刻線密度。光柵的刻線密度決定光柵的色散率和分辨率，光柵常數的準確性直接影響光譜儀器的波長精度。因此，在全息光柵制作中，精確調整刻線密度成為至關重要的工作。

與本發明最為接近的已有技術是中國專利號為CN1544994A，發明名稱為“一種平面全息光柵制作中精確調整刻線密度的方法”，此方法中提供的全息光柵曝光裝置如圖1所示，包括激光光源1、第一反射鏡2和第二反射鏡3、擴束濾波器4、準直反射鏡5、第一調整反射鏡6、第二調整反射鏡7和干涉場8；以標準的機刻光柵做為基準光柵，調整干涉場8的干涉條紋密度與基準光柵刻線密度一致，使待制作的全息光柵刻線密度的名義值與機刻光柵的刻線密度一致。這種方法簡便可行，易于操作，可以精確控制平面全息光柵刻線密度。但是，該裝置是針對具有兩個調整反射鏡的雙反射鏡曝光的裝置，不適用于洛艾鏡式曝光光學系統。當精確調整洛艾鏡式曝光，需要提供一種實用的調整裝置。

發明內容

為了克服上述已有技術存在的缺陷，本發明的目的在于建立一種簡便可行的適用于只有一個調整反射鏡的洛艾鏡式曝光光學系統的精確調整光柵刻線密度的裝置。

本發明要解決的技術問題是：提供一種全息光柵制作光路中精確調整刻線密度的裝置。解決技術問題的技術方案為：如圖2所示，包括激光光源11、第一平面反射鏡12和第二平面反射鏡13、空間濾波器14、準直反射鏡15、調整反射鏡16、來自于準直反射鏡15的第一束入射光17、來自于調整反射鏡16的第二束入射光18、干涉場19、基準光柵20、接收屏21、支撐旋轉臺22；其中支撐旋轉臺22如圖3所示，包括下層臺23、上層轉臺24、旋轉卡槽25、緊固螺絲26、旋轉中心軸27、調整反射鏡基座28、第一調節螺絲組29、光柵基座30、第二調節螺絲組31和第三調節螺絲組32；在激光光源11的激光束傳播方向的光軸上置有第一平面反射鏡12，第一平面反射鏡12與光軸成45°夾角安裝，在第一平面反射鏡12的反射光的光路上置有第二平面反射鏡13，第二平面反射鏡13與光軸成45°夾角安裝，在第二平面反射鏡13的反射光的光路上置有空間濾波器14，經過空間濾波器14后形成球面波，在球面波傳播方向放置準直反射鏡15，并且準直反射鏡15的焦點位置位于球面波波源點，球面波波源點的位置在空間濾波器14的出口處，這樣激光束經準直反射鏡15后變為準直光束，支撐旋轉臺22置于該準直光束的光路中；支撐旋轉臺22中上層轉臺24與下層臺23通過旋轉中心軸27連接，上層轉臺24能夠圍繞旋轉中心軸27旋轉，并且可以使用緊固螺絲26通過旋轉卡槽25將上層轉臺24固定在下層臺23上；上層轉臺24上安放有調整反射鏡基座28和光柵基座30，并且這兩個基座成90°夾角安裝，第一調節螺絲組29位于調整反射鏡基座28的兩側，用于調節調整反射鏡基座28的俯仰，第二調節螺絲組31位于光柵基座30的兩側，用于調整光柵基座30的俯仰，第三調節螺絲組32位于光柵基座30左端的兩側，用于調整光柵基座30的旋轉；調整反射鏡16放置在調整反射鏡基座28上，基準光柵20放置在光柵基座30上，并且調整反射鏡16與基準光柵20的表面成90°夾角，使準直反射鏡15發出的準直光束照射到調整反射鏡16和基準光柵20的表面；來自于準直反射鏡15的第一束入射光17與經過調整反射鏡16反射的第二束入射光18相交匯，在交匯區域形成干涉場19，并且基準光柵20位于干涉場19內，基準光柵20的光柵刻線方向垂直于第一束入射光17和第二束入射光18所組成的平面，基準光柵20的表面面向準直反射鏡15。