[發明專利]一種用于鎢化學機械拋光的拋光液有效
| 申請號： | 200910198366.3 | 申請日： | 2009-11-06 |
| 公開（公告）號： | CN102051126A | 公開（公告）日： | 2011-05-11 |
| 發明（設計）人： | 王晨;徐春 | 申請（專利權）人： | 安集微電子(上海)有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鴻律師事務所 31246 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新區張江高*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 化學 機械拋光 拋光 | ||
【權利要求書】：
1.一種化學機械拋光液，含有研磨劑，硝酸鐵，穩定劑，硝酸鉀和水。
2.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，所述的研磨劑是氣相二氧化硅(fumed?silica)和/或硅溶膠(colloidal?silica)中的一種或多種。
3.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，所述的研磨劑的質量百分比為0.2％～2％。
4.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，所述的硝酸鐵的質量百分比為0.1％～2％。
5.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，所述的穩定劑的質量百分比為0.025％～0.5％。
6.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，所述的硝酸鉀的質量百分比為0.2％～3％。
7.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，所述的穩定劑是可以和三價鐵離子形成配位絡合物的有機羧酸和/或有機膦酸。
8.根據權利要求7所述的化學機械拋光液，所述的穩定劑為丙二酸和/或2-磷酸丁烷-1，2，4-三羧酸。
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