[發明專利]一種真空清洗裝置

無效

• 申請號: 200910197250.8
• 申請日: 2009-10-15
• 公開（公告）號: CN102039290A
• 公開（公告）日: 2011-05-04
• 發明（設計）人: 趙主巨
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司
• 主分類號: B08B5/04
• 分類號: B08B5/04;G03F1/00;H01L21/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 鄭立柱

1.一種真空清洗裝置，其特征在于，設置在半導體制程設備的傳輸腔中，該裝置包括：真空抽吸部件，其具有真空通道和若干向下的開口，真空通道與外部抽真空設備相通；連接部件，將該真空抽吸部件可樞軸運動地固定到傳輸腔中，使真空抽吸部件能在傳輸腔中的載物平臺上方水平地移動，以清除置于載物平臺上的光掩模或晶片上的污染物顆粒。

2.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述連接部件包括轉動部件和固定部件，轉動部件套接在固定部件上，轉動部件與真空抽吸部件連接，固定部件與傳輸腔的內壁連接；轉動部件能夠相對于固定部件水平轉動。

3.如權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述連接部件包括轉動部件和固定部件，轉動部件套接在固定部件上，轉動部件與真空抽吸部件連接，固定部件與傳輸腔的內壁連接；轉動部件能夠相對于固定部件既能夠相對于固定部件轉動，又能夠沿著固定部件垂直移動。

4.如權利要求1～3任一所述的裝置，其特征在于，所述的真空抽吸部件為管狀部件。

5.如權利要求1～4任一所述的裝置，其特征在于，所述開口的長度與置于載物平臺上的光掩模板或晶片的直徑相適應。

6.如權利要求1～5任一所述的裝置，其特征在于，所述開口為一個長方形開口或一組開口，所述的一組開口由若干長方形開口或圓形開口構成。

7.如權利要求1～6任一所述的裝置，其特征在于，所述的真空通道為圓形或方形通道。

8.如權利要求1～7任一所述的裝置，其特征在于，還包括真空抽吸槽，其設置在傳輸腔的一個內壁上，并具有真空通道和向上的開口，該真空抽吸槽開口的大小與真空抽吸部件的開口相適應，該真空通道與外部真空設備連接；當真空抽吸部件離開載物平臺后，其開口能與真空抽吸槽的開口對準，從而能夠將殘留在真空抽吸部件中的污染物顆粒清除。

9.一種半導體制程設備，其特征在于，在該設備的傳輸腔中設置如權利要求1～8所述的真空清洗裝置。