[發(fā)明專利]一種金屬硅的提純方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910197020.1 | 申請(qǐng)日: | 2009-10-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102040221A | 公開(公告)日: | 2011-05-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張忠衛(wèi);張?zhí)┥?/a> | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海太陽能科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C01B33/037 | 分類號(hào): | C01B33/037 |
| 代理公司: | 上海航天局專利中心 31107 | 代理人: | 鄭丹力 |
| 地址: | 201108 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 金屬硅 提純 方法 | ||
1.一種金屬硅的提純方法,其特征在于,該方法包括如下步驟:
步驟一:粉碎,
將工業(yè)硅粉碎到300目;
步驟二:酸洗、清洗,
用氫氟酸、硝酸、去離子水配成的溶液對(duì)硅粉進(jìn)行浸泡,然后用去離子水清洗;
步驟三:等離子體火焰處理,
將硅粉通過感應(yīng)等離子體進(jìn)行火焰處理;
步驟四:冷卻,
將硅粉急速冷卻;
重復(fù)上述步驟二到三,直到硅粉達(dá)到太陽能級(jí)所要求的純度。
2.如權(quán)利要求1所述的金屬硅提純方法,其特征在于:所述的步驟二,其酸洗過程包括:將金屬硅粉末先用沸騰的熱鹽酸浸泡,然后再用10%氫氟酸在常溫下浸泡。
3.如權(quán)利要求1或2所述的金屬硅提純方法,其特征在于:在進(jìn)行所述步驟二的過程中,取50~100克金屬硅粉,將硅粉放入裝有50~100毫升鹽酸的燒杯中,然后將混合液加熱到沸騰并且在沸騰狀態(tài)下保持1~1.2小時(shí);然后將混合液中的硅粉濾出并用去離子水徹底的清洗;
然后將取得的硅粉加入100~200毫升的10%氫氟酸中并在室溫下浸泡12~13小時(shí);然后將混合液中的硅粉濾出并用去離子水清洗干凈,最后在攝氏100度進(jìn)行干燥。
4.如權(quán)利要求1所述的金屬硅提純方法,其特征在于:在進(jìn)行所述的步驟三:等離子體火焰處理過程中,金屬硅粉末從等離子炬的線圈中間位置被導(dǎo)入,粉末在等離子火焰中的飛行時(shí)間在幾個(gè)毫秒的量級(jí);在粉末被熔化成小液滴并離開等離子火焰中心后,這些液滴急速冷卻并且被收集到一個(gè)通有冷卻水的收集器中。
5.如權(quán)利要求4所述的金屬硅提純方法,其特征在于:將所述步驟三收集到的金屬硅粉末再進(jìn)行步驟二、酸洗,包括:用沸騰的熱鹽酸浸泡兩小時(shí),清洗后再用常溫的氫氟酸浸泡24小時(shí),最后將硅粉清洗干凈后在攝氏105度干燥。
6.如權(quán)利要求1或4所述的金屬硅提純方法,其特征在于:在進(jìn)行所述步驟三的過程中,所述的等離子體的主要參數(shù)如下:
等離子處理的時(shí)間為15~30分鐘;通過輝光放電質(zhì)譜儀的檢測(cè)證明硅的純度已經(jīng)3N以上;然后再進(jìn)行一次同樣的酸洗和等離子處理,直至硅的純度達(dá)到6N。
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