[發(fā)明專利]一種化學(xué)機(jī)械研磨刮傷的檢測(cè)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910195835.6 | 申請(qǐng)日: | 2009-09-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102023106A | 公開(公告)日: | 2011-04-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱也方;李建平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N1/28 | 分類號(hào): | G01N1/28;G01N21/88 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時(shí)云 |
| 地址: | 20120*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 化學(xué) 機(jī)械 研磨 檢測(cè) 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體測(cè)試領(lǐng)域,尤其涉及一種化學(xué)機(jī)械研磨刮傷的檢測(cè)方法。
背景技術(shù)
在化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)的制程中,芯片刮傷(scratch)是產(chǎn)品良率的主要?dú)⑹帧R勒展蝹奶匦裕酒蝹梢约?xì)分為宏觀刮傷(macro-scratch)與細(xì)微刮傷(micro-scratch)。造成芯片表面細(xì)微刮傷的成因主要是研磨過程中微粒(particle)與芯片表面的摩擦所造成,這些微粒主要來自于研磨液(slurry)中砥粒(abrasive)的聚集(agglomeration),以及研磨機(jī)臺(tái)或外界環(huán)境在研磨過程中所造成的污染。而Macro-scratch主要因?yàn)檠心ミ^程中,研磨墊上有硬物破壞芯片表面,這些硬物可能是鉆石碟(Diamond?Disk)上的鉆石脫落(Diamondlost)或研磨液中砥粒的聚集。
細(xì)微刮傷和巨大刮傷對(duì)產(chǎn)品品質(zhì)的影響程度不同,一般,細(xì)微刮傷可能造成某些電性能上的問題,導(dǎo)致良率不佳;巨大刮傷通常會(huì)造成產(chǎn)品的報(bào)廢。但是如何檢測(cè)刮傷級(jí)別是細(xì)微刮傷還是巨大刮傷缺是比較困難的,尤其是如何確定細(xì)微刮傷的數(shù)量已成為業(yè)內(nèi)極具挑戰(zhàn)性的問題。
有鑒于此,需要提出一種能準(zhǔn)確檢測(cè)化學(xué)機(jī)械研磨細(xì)微刮傷的方法。
發(fā)明內(nèi)容
為解決現(xiàn)有技術(shù)中晶圓被化學(xué)機(jī)械研磨后,其上的細(xì)微刮傷不容易被精確檢測(cè)到,且其數(shù)量不容易被精確計(jì)算,從而無法估計(jì)細(xì)微刮傷帶來的晶圓產(chǎn)品的性能等問題,本發(fā)明提供了一種化學(xué)機(jī)械研磨刮傷的檢測(cè)方法。
根據(jù)本發(fā)明的一種化學(xué)機(jī)械研磨刮傷的檢測(cè)方法,包括:
將完成化學(xué)機(jī)械研磨的晶圓在氧化性酸溶液中浸泡一定時(shí)間;
對(duì)所述經(jīng)過浸泡的晶圓進(jìn)行檢測(cè)。
優(yōu)選的,所述氧化性酸溶液為氫氟酸。
優(yōu)選的,所述氫氟酸的濃度為2%-10%。
優(yōu)選的,所述浸泡時(shí)間為大于等于30秒小于等于60秒。
優(yōu)選的,所述浸泡時(shí)間為45秒。
優(yōu)選的,對(duì)所述經(jīng)過浸泡的晶圓進(jìn)行檢測(cè)是利用顆粒檢測(cè)儀進(jìn)行的。
優(yōu)選的,所述的化學(xué)機(jī)械研磨刮傷的檢測(cè)方法,還包括:利用所述顆粒檢測(cè)儀的第二通道對(duì)應(yīng)測(cè)量值與第一通道對(duì)應(yīng)測(cè)量值的比值判斷細(xì)微刮傷。
優(yōu)選的,所述比值小于0.8。
優(yōu)選的,所述氧化性酸溶液為氯化氫和過氧水的混合溶液。
優(yōu)選的,氯化氫和過氧水的混合溶液的PH值為2-2.5。
本發(fā)明通過在檢測(cè)晶圓上化學(xué)機(jī)械研磨刮傷時(shí),首先將晶圓在氧化性酸溶液中浸泡一定時(shí)間,使細(xì)微刮傷被加強(qiáng),從而更容易被檢測(cè)到,也使檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確度更高了。
并且,本發(fā)明通過選擇合適的氧化性算溶液的濃度或PH值,可以使溶液中的顆粒不容易沉積到晶圓表面,避免顆粒沉積帶來的影響。
另外,選擇合適的浸泡時(shí)間,使晶圓上細(xì)微刮傷得到很好的加強(qiáng),但是又不至于因時(shí)間過長(zhǎng)而浪費(fèi)時(shí)間,或時(shí)間過短而起不到加強(qiáng)細(xì)微刮傷的效果。
附圖說明
圖1所示的表格為第一次測(cè)試的抽樣表。
圖2所示的表格為第二次測(cè)試的抽樣表。
圖3和圖4所示表格為從不同角度得到的第一次測(cè)試與第二次測(cè)試的比較對(duì)照表。
具體實(shí)施方式
為了使本發(fā)明的內(nèi)容和保護(hù)范圍更加清楚易懂,以下結(jié)合本發(fā)明的實(shí)施例和附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述。
本發(fā)明通過在檢測(cè)細(xì)微刮傷之前,先將晶圓在氫氟酸中浸泡,以
本發(fā)明化學(xué)機(jī)械研磨刮傷的檢測(cè)方法,包括:
將完成化學(xué)機(jī)械研磨的晶圓在氧化性酸溶液中浸泡一定時(shí)間;
對(duì)所述經(jīng)過浸泡的晶圓進(jìn)行檢測(cè)。
優(yōu)選的,所述氧化性酸溶液為氫氟酸。
其中,將所述晶圓在氫氟酸中浸泡可以加深晶圓表面細(xì)微刮傷,從而有利于后續(xù)對(duì)細(xì)微刮傷檢測(cè),即使得到的細(xì)微刮傷的圖形更佳清晰。優(yōu)選的,所述浸泡時(shí)間為大于等于30秒小于等于60秒,如浸泡時(shí)間為45秒,45秒適合較大濃度范圍的氫氟酸,即無論氫氟酸的濃度小一些還是大一些,都能起到加強(qiáng)細(xì)微刮傷的效果。因?yàn)闀r(shí)間太短起不到加深細(xì)微刮傷的作用,浸泡超過60秒后,對(duì)細(xì)微刮傷的加深基本沒有什么變化,即再增加浸泡時(shí)間基本不會(huì)再加深細(xì)微刮傷的圖形。
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