[發明專利]真空鍍膜用處理裝置

在審

• 申請號: 200910192967.3
• 申請日: 2009-09-30
• 公開（公告）號: CN101665913A
• 公開（公告）日: 2010-03-10
• 發明（設計）人: 楊明生;范繼良;劉惠森;王曼媛;王勇
• 申請（專利權）人: 東莞宏威數碼機械有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 廣州三環專利代理有限公司
• 代理人: 張艷美;郝傳鑫

技術領域

本發明涉及一種真空鍍膜用處理裝置，尤其涉及一種適用于對有機發光二 極管中的真空鍍膜處理工藝進行去除雜質的真空鍍膜用處理裝置。

背景技術

OLED，即有機發光二極管(Organic?Light-Emitting?Diode)，又稱為有 機電激光顯示(Organic?Electroluminesence?Display，OELD)。因為具備輕薄、 省電等特性，因此在數碼產品的顯示屏上得到了廣泛應用，并且具有較大的 市場潛力，目前世界上對OLED的應用都聚焦在平板顯示器上，因為OLED 是唯一在應用上能和TFT-LCD相提并論的技術，OLED是目前所有顯示技 術中，唯一可制作大尺寸、高亮度、高分辨率軟屏的顯示技術，可以做成和 紙張一樣的厚度。其中，在OLED的制作流程中，真空鍍膜工藝是OLED 制作流程中一個很重要的工藝，因為它是關系到OLED的品質及壽命的最 重要因素之一，所以應用于真空鍍膜工藝上的各種設備必須滿足真空鍍膜工 藝的精度要求，使得在該設備內被鍍膜了產品的鍍膜層均勻，且其成分純凈、 性能穩定和無應力，以及該鍍膜層能牢固地附著于產品中以防止脫落，進而 提升了產品的品質并延長了產品的壽命。其中，處理裝置就是應用于真空鍍 膜工藝上諸多設備之一種。

處理裝置就是通過把其內部的蒸發源加熱蒸發后，使得蒸發后的鍍膜材 料沉積到OLED的基片表面而形成單層或多層薄膜，從而完成OLED的基 片的鍍膜加工。但是，現有的處理裝置普遍存在以下的不足：

目前，市面上應用于有機發光二極管的真空鍍膜中的處理裝置主要包括 柜體、蒸發源及處理板，所述柜體呈中空結構，該中空結構形成密封腔，所 述蒸發源及處理板設置于密封腔內，且所述處理板位于上述蒸發源的上方。 使用時，在OLED基片鍍膜之前加熱過程中，由于在未達到蒸發物的蒸發 溫度時就會有蒸發源將雜質蒸發掉，使得蒸發了的雜質首先沉積于基片的表 面上，造成基片鍍膜層的組分不純凈，進而影響到基片性能的穩定，以及鍍 膜層與基片表面連接的牢固性。同時，由于一些蒸發物在加熱蒸發過程中會 釋放氣體，使得密封腔內壓強上升，使得處理裝置的密封腔各處受到不同的 壓力，從而導致基片鍍膜層極其不均勻，最終影響到基片的品質及正常的壽 命。

因此，急需要一種能最大限度地提高了有機發光二極管基片鍍膜層的均勻 性且能最大程度地保證了基片鍍膜層的成分純凈性的真空鍍膜用處理裝置。

發明內容

本發明的目的在于提供一種能最大限度地提高了有機發光二極管基片鍍膜 層的均勻性且能最大程度地保證了基片鍍膜層的成分純凈性的真空鍍膜用處理 裝置。

為實現上述目的，本發明的技術方案為：提供一種真空鍍膜用處理裝置， 所述真空鍍膜用的處理裝置包括柜體、處理板及蒸發源，所述柜體呈中空結構， 所述中空結構形成密封腔，所述蒸發源與所述處理板設置于所述密封腔內，且 所述處理板位于所述蒸發源上方，其中，所述真空鍍膜用的處理裝置還包括擋 板機構，所述擋板機構包括擋板、磁流體、冷卻軸及擋板驅動機構，所述磁流 體安裝于所述柜體上，所述擋板驅動機構位于所述柜體外并與所述冷卻軸的一 端連接，所述冷卻軸的另一端樞接地穿過所述磁流體并伸入所述密封腔內，所 述擋板與所述冷卻軸固定連接，所述擋板容置于所述密封腔內且位于所述蒸發 源與所述處理板之間，所述擋板隔離或開通所述蒸發源與所述處理板的空間連 接，所述擋板驅動機構驅動所述冷卻軸，所述冷卻軸帶動所述擋板轉動。

較佳地，沿垂直于所述冷卻軸方向的所述擋板的截面呈直角梯形或矩形， 于截面呈矩形的所述擋板上設置有加強筋，能最大限度地減少擋板撓性變形的 程度，從而使擋板能更可靠的工作。