[發(fā)明專利]曝光裝置用光照射裝置、曝光裝置及曝光方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910180146.8
• 申請日: 2009-11-09
• 公開（公告）號: CN101859069A
• 公開（公告）日: 2010-10-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 原田智紀(jì);永井新一郎;輕石修作
• 申請（專利權(quán)）人: 日本精工株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;F21V7/00;F21V19/00;F21V5/04;F21V29/02
• 代理公司: 北京泛誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11298
• 代理人: 陳波;楊本良

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及曝光裝置用光照射裝置、曝光裝置及曝光方法，更詳細(xì)地說，涉及能夠應(yīng)用于將掩模的掩模圖形曝光轉(zhuǎn)寫在液晶顯示器或等離子顯示器等大型的平板顯示器的基板上的曝光裝置的曝光裝置用光照射裝置、曝光裝置及曝光方法。

背景技術(shù)

目前，作為制造平板顯示裝置的濾色板等面板的裝置，發(fā)明有接近曝光裝置、掃描曝光裝置、投影曝光裝置、鏡面投影、密接式曝光裝置等各種各樣的曝光裝置。例如，分開漸進式曝光裝置通過掩模臺保持比基板小的掩模，同時通過工件臺保持基板，在使兩者接近并對置配置后，相對于掩模分步移動工件臺，在每步都從掩模側(cè)向基板照射圖形曝光用的光，由此將描繪于掩模上的多個圖形曝光轉(zhuǎn)寫在基板上，對一塊基板制作多個面板。另外，掃描曝光裝置相對于以一定速度輸送的基板，經(jīng)由掩模照射曝光用的光，在基板上曝光轉(zhuǎn)寫掩模的圖像。

近年來，顯示裝置正在逐漸大型化，例如，在分開逐次曝光中，在通過四次曝光閃光制造第八代(2200mm×2500mm)的面板時，一次的曝光區(qū)域為1300mm×1120mm，在通過六次的曝光閃光制造時，一次的曝光區(qū)域為1100mm×750mm。因此曝光裝置也謀求曝光區(qū)域的擴大，使用的光源的輸出也需要提高。因此，作為照明光學(xué)系統(tǒng)，公知的是使用多個光源，提高光源整體的輸出的照明光學(xué)系統(tǒng)(例如，參照專利文獻(xiàn)1及2)。例如，專利文獻(xiàn)2記載的光照明裝置在燈點亮?xí)r，從里側(cè)拆下光源單元，安裝新的光源單元，不用停止制造線而能夠進行燈的更換，另外，記載有在將光源單元安裝于支撐體時，將光源單元的定位部推到支撐體的定位角部，從而進行光軸方向的定位。

專利文獻(xiàn)1：(日本)特開2004-361746號公報

專利文獻(xiàn)2(日本)：特開2006-278907號公報

但是，在專利文獻(xiàn)1中，更換燈時，需要逐個對燈進行更換，更換燈耗費時間，使裝置停止的時間(停機時間)變長。作為以不需花費停機時間為目的的技術(shù)，在如專利文獻(xiàn)2那樣的在曝光運轉(zhuǎn)中能夠更換燈的結(jié)構(gòu)已被公開，但由于是逐個更換，因而沒有改變操作者的更換時間本身很長的狀況。另外，專利文獻(xiàn)1及2存在如下問題：由于支撐燈的支撐體的光射出側(cè)的面沿球面形成，所以在增加了燈的數(shù)量時，該球面的表面積增大，高精度的曲面加工比較困難。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明是鑒于所述課題而開發(fā)的，其目的在于提供曝光裝置用光照射裝置、曝光裝置及曝光方法，該曝光裝置用光照射裝置能夠縮短光源部的更換時間及裝置的停機時間。

本發(fā)明的所述目的通過下述的構(gòu)成而實現(xiàn)。

(1)曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，具備：

多個光源部，其分別包括發(fā)光部和使從該發(fā)光部發(fā)出來的光具有方向性地射出的反射光學(xué)系統(tǒng)；

多個燈盒，其分別能夠安裝規(guī)定數(shù)量的所述光源部；

框架，其能夠安裝該多個燈盒。

(2)如(1)所述的曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，

所述燈盒具有支撐所述規(guī)定數(shù)量的光源部的光源支撐部，

所述光源支撐部形成為從所述規(guī)定數(shù)量的光源部的光照射的各照射面到組合透鏡的入射面的各光軸的距離大致為一定，所述規(guī)定數(shù)量的光源部的光入射到該組合透鏡的入射面。

(3)如(2)所述的曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，

所述框架具有分別安裝所述多個燈盒的多個燈盒安裝部，

所述多個燈盒安裝部形成為從所述全部的光源部的光照射的各照射面到組合透鏡的入射面的各光軸的距離大致為一定，所述全部的光源部的光入射到該組合透鏡的入射面。

(4)如(3)所述的曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，

所述多個燈盒安裝部分別具備所述燈盒的光源支撐部面對的開口部和與在該光源支撐部的周圍形成的平面部抵接的平面，

沿規(guī)定的方向排列的所述多個燈盒安裝部的各平面以規(guī)定的角度交叉。

(5)如(4)所述的曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，

所述框架的燈盒安裝部形成為以所述平面為底面的凹部，

所述燈盒嵌合在所述燈盒安裝部的凹部。

(6)如(1)～(5)中任一項所述的曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，

所述燈盒具有支撐所述規(guī)定數(shù)量的光源部的光源支撐部，

將位于由所述光源支撐部支撐的最外周的所述光源部的中心四邊連接的線形成長方形形狀。

(7)如(6)所述的曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，

所述框架具有分別安裝所述多個燈盒的多個燈盒安裝部，

所述多個燈盒安裝部使在彼此正交的方向上配置的所述燈盒的個數(shù)一致，并形成為長方形形狀。