[發(fā)明專利]曝光裝置用光照射裝置、曝光裝置及曝光方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910180146.8
• 申請日: 2009-11-09
• 公開（公告）號: CN101859069A
• 公開（公告）日: 2010-10-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 原田智紀(jì);永井新一郎;輕石修作
• 申請（專利權(quán)）人: 日本精工株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;F21V7/00;F21V19/00;F21V5/04;F21V29/02
• 代理公司: 北京泛誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11298
• 代理人: 陳波;楊本良

1.一種曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，具備：

多個光源部，其分別包括發(fā)光部和使從該發(fā)光部發(fā)出來的光具有方向性地射出的反射光學(xué)系統(tǒng)；

多個燈盒，其分別能夠安裝規(guī)定數(shù)量的所述光源部；

框架，其能夠安裝該多個燈盒。

2.如權(quán)利要求1所述的曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，

所述燈盒具有支撐所述規(guī)定數(shù)量的光源部的光源支撐部，

所述光源支撐部形成為從所述規(guī)定數(shù)量的光源部的光所照射的各照射面到組合透鏡的入射面的各光軸的距離大致為一定，所述規(guī)定數(shù)量的光源部的光入射到該組合透鏡的入射面。

3.如權(quán)利要求2所述的曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，

所述框架具有分別安裝所述多個燈盒的多個燈盒安裝部，

所述多個燈盒安裝部形成為從所述全部的光源部的光所照射的各照射面到組合透鏡的入射面的各光軸的距離大致為一定，所述全部的光源部的光入射到該組合透鏡的入射面。

4.如權(quán)利要求3所述的曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，

所述多個燈盒安裝部分別具備所述燈盒的光源支撐部面對的開口部和與在該光源支撐部的周圍形成的平面部抵接的平面，

沿規(guī)定的方向排列的所述多個燈盒安裝部的各平面以規(guī)定的角度交叉。

5.如權(quán)利要求4所述的曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，

所述框架的燈盒安裝部形成為以所述平面為底面的凹部，

所述燈盒嵌合在所述燈盒安裝部的所述凹部。

6.如權(quán)利要求1～5中任項所述的曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，

所述燈盒具有支撐所述規(guī)定數(shù)量的光源部的光源支撐部，

將位于由所述光源支撐部支撐的最外周的光源部的中心四邊連接的線形成為長方形形狀。

7.如權(quán)利要求6所述的曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，

所述框架具有分別安裝所述多個燈盒的多個燈盒安裝部，

所述多個燈盒安裝部使在彼此正交的方向上配置的所述燈盒的個數(shù)一致，并形成為長方形形狀。

8.如權(quán)利要求2～7中任一項所述的曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，

所述燈盒具有在圍住由所述光源支撐部支撐的所述規(guī)定數(shù)量的光源部的狀態(tài)下，安裝于所述光源支撐部的罩部件，

在所述光源支撐部和所述罩部件之間的收容空間內(nèi)，鄰接的所述光源部的反射光學(xué)系統(tǒng)的背面直接對置。

9.如權(quán)利要求8所述的曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，在所述罩部件上形成有將所述收容空間與該罩部件的外部連通的連通孔和連通槽中的至少一種。

10.如權(quán)利要求1～9中任一項所述的曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，為了冷卻所述各光源部，在所述框架上設(shè)有冷卻水進行循環(huán)的冷卻用配管。

11.如權(quán)利要求1所述的曝光裝置用光照射裝置，其特征在于，具有相對于所述各光源部的光所照射的各照射面，從后方及側(cè)方中的至少一方強制排出所述框架內(nèi)的空氣的強制排氣裝置。

12.一種曝光裝置，其特征在于，具備：

基板保持部，其保持作為被曝光材料的基板；

掩模保持部，其以與所述基板對置的方式保持掩模；

照明光學(xué)系統(tǒng)，其具有權(quán)利要求1所述的光照射裝置和組合透鏡，經(jīng)由所述掩模將來自所述照明光學(xué)系統(tǒng)的光向所述基板照射，由該光照射裝置的多個光源部射出來的光入射到該組合透鏡。