[發明專利]感光性膜的制造方法、感光性膜、感光性層疊體、永久圖案形成方法及印制電路板無效
| 申請號: | 200910178635.X | 申請日: | 2009-09-24 |
| 公開(公告)號: | CN101685256A | 公開(公告)日: | 2010-03-31 |
| 發明(設計)人: | 林利明;中澤隆浩 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/004 | 分類號: | G03F7/004;G03F7/20;H05K1/00;B01D19/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 朱 丹 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 感光性 制造 方法 層疊 永久 圖案 形成 印制 電路板 | ||
1.一種感光性膜的制造方法,其特征在于,包括以下工序:
制備含有感光性樹脂組合物的涂布液的涂布液制備工序,所述感光性樹脂組合物含有i)導入有感光性基團和用于賦予堿顯影性的酸基的化合物、ii)聚合性化合物、iii)光聚合引發劑;
對所述涂布液實施消泡處理的消泡工序;
在所述消泡工序后,將所述涂布液涂布于支撐體的涂布工序;
使所述涂布液干燥,在所述支撐體上形成感光層的干燥工序。
2.根據權利要求1所述的感光性膜的制造方法,其中,消泡處理為超聲波消泡。
3.根據權利要求1所述的感光性膜的制造方法,其中,感光性樹脂組合物還含有iv)熱交聯劑。
4.根據權利要求1所述的感光性膜的制造方法,其中,感光性樹脂組合物還含有v)填充物。
5.根據權利要求1所述的感光性膜的制造方法,其特征在于,涂布液的粘度為5mPa·s~100mPa·s。
6.根據權利要求5所述的感光性膜的制造方法,其特征在于,涂布液的粘度為10mPa·s~50mPa·s。
7.一種感光性膜,其為利用包括以下工序的感光性膜制造方法制得的感光性膜:
制備含有感光性樹脂組合物的涂布液的涂布液制備工序,所述感光性樹脂組合物含有i)導入有感光性基團和用于賦予堿顯影性的酸基的化合物、ii)聚合性化合物、iii)光聚合引發劑;對所述涂布液實施消泡處理的消泡工序;在所述消泡工序后,將所述涂布液涂布于支撐體的涂布工序;使所述涂布液干燥,在所述支撐體上形成感光層的干燥工序,
感光性膜為長條狀,被卷繞成輥狀。
8.一種感光性層疊體,其為具備基體和設于所述基體上的感光層的感光性層疊體,其特征在于,
所述感光層是由利用包括以下工序的感光性膜制造方法制得的感光性膜轉印而得的感光層:制備含有感光性樹脂組合物的涂布液的涂布液制備工序,所述感光性樹脂組合物含有i)導入有感光性基團和用于賦予堿顯影性的酸基的化合物、ii)聚合性化合物、iii)光聚合引發劑;對所述涂布液實施消泡處理的消泡工序;在所述消泡工序后,將所述涂布液涂布于支撐體的涂布工序;使所述涂布液干燥,在所述支撐體上形成感光層的干燥工序。
9.一種永久圖案形成方法,其特征在于,至少包括對下述感光性層疊體中的感光層進行曝光的曝光工序,所述感光性層疊體為具備基體和設于所述基體上的感光層的感光性層疊體,
所述感光層是由利用包括以下工序的感光性膜制造方法制得的感光性膜轉印而得的感光層:制備含有感光性樹脂組合物的涂布液的涂布液制備工序,所述感光性樹脂組合物含有i)導入有感光性基團和用于賦予堿顯影性的酸基的化合物、ii)聚合性化合物、iii)光聚合引發劑;對所述涂布液實施消泡處理的消泡工序;在所述消泡工序后,將所述涂布液涂布于支撐體的涂布工序;使所述涂布液干燥,在所述支撐體上形成感光層的干燥工序。
10.一種印制電路板,其特征在于,具備通過永久圖案形成方法形成的永久圖案,所述永久圖案形成方法至少包括對下述感光性層疊體中的感光層進行曝光的曝光工序,所述感光性層疊體為具備基體和設于所述基體上的感光層的感光性層疊體,
所述感光層是由利用包括以下工序的感光性膜制造方法制得的感光性膜轉印而得的感光層:制備含有感光性樹脂組合物的涂布液的涂布液制備工序,所述感光性樹脂組合物含有i)導入有感光性基團和用于賦予堿顯影性的酸基的化合物、ii)聚合性化合物、iii)光聚合引發劑;對所述涂布液實施消泡處理的消泡工序;在所述消泡工序后,將所述涂布液涂布于支撐體的涂布工序;使所述涂布液干燥,在所述支撐體上形成感光層的干燥工序。
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