[發(fā)明專利]剝離薄膜、陶瓷部件薄片及其制造方法、以及陶瓷部件的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910178592.5
• 申請日: 2009-09-29
• 公開（公告）號: CN101714456A
• 公開（公告）日: 2010-05-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 飯島忠良;飯?zhí)镄拗?/a>
• 申請（專利權(quán)）人: TDK株式會社
• 主分類號: H01G4/30
• 分類號: H01G4/30;H01G4/12;B32B27/08
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種剝離薄膜，其特征在于，

是具備基材薄膜和設(shè)置在所述基材薄膜的一個面上的聚合物層的 剝離薄膜，

所述聚合物層具備：含有(甲基)丙烯酸酯成分的固化物的層和 含有硅酮聚合物成分的膜，其中，所述硅酮聚合物成分覆蓋所述含有 (甲基)丙烯酸酯成分的固化物的層的與所述基材薄膜側(cè)相反的一側(cè) 的表面的一部分，

所述硅酮聚合物成分為(甲基)丙烯酰基和/或乙烯基改性的改性 硅油的聚合物。

2.如權(quán)利要求1所述的剝離薄膜，其特征在于，

在具有所述含有硅酮聚合物成分的膜的所述聚合物層的表面上， 水的接觸角為82～104°。

3.如權(quán)利要求1所述的剝離薄膜，其特征在于，

在將所述聚合物層中的所述硅酮聚合物成分的含量作為b、所述聚 合物層的密度作為d、所述聚合物層的厚度作為t時，滿足下述式(1)，

0.2≤10×b×t×d≤6???(1)

其中，b的單位為質(zhì)量％，d的單位為g/cm³，t的單位為μm。

4.如權(quán)利要求1所述的剝離薄膜，其特征在于，

所述聚合物層的厚度t為0.5～3μm。

5.如權(quán)利要求1所述的剝離薄膜，其特征在于，

所述聚合物層的厚度t比與所述聚合物層接觸的所述基材薄膜的 表面的最大突起的高度大。

6.一種陶瓷部件薄片，其特征在于，

具備：

權(quán)利要求1～5中任一項所述的剝離薄膜；

在該剝離薄膜的所述聚合物層上由陶瓷生片及電極生片中的至少 一種所形成的生片。

7.一種剝離薄膜的制造方法，其特征在于，

是具有基材薄膜和在該基材薄膜上的聚合物層的剝離薄膜的制造 方法，

所述制造方法具有：

涂布液調(diào)制工序，調(diào)制含有光聚合引發(fā)劑、有機溶劑、相互不相 溶的(甲基)丙烯酸酯成分以及(甲基)丙烯酰基和/或乙烯基改性的 改性硅油的涂布液；

聚合物層形成工序，在所述基材薄膜上涂布所述涂布液并使之干 燥，通過光照射而使所述(甲基)丙烯酸酯成分和所述改性硅油聚合， 在所述基材薄膜上形成所述聚合物層。

8.一種陶瓷部件薄片的制造方法，其特征在于，

該陶瓷部件薄片具備剝離薄膜以及在該剝離薄膜上形成的陶瓷生 片和/或電極生片，其中，所述剝離薄膜具備基材薄膜和在該基材薄膜 上的聚合物層，所述陶瓷生片和/或電極生片位于所述剝離薄膜的所述 聚合物層上，

所述制造方法具有：

涂布液調(diào)制工序，調(diào)制含有光聚合引發(fā)劑、有機溶劑、相互不相 溶的(甲基)丙烯酸酯成分以及(甲基)丙烯酰基和/或乙烯基改性的 改性硅油的涂布液；

聚合物層形成工序，在所述基材薄膜上涂布所述涂布液并使之干 燥，通過光照射而使所述(甲基)丙烯酸酯成分和所述改性硅油聚合， 在所述基材薄膜上形成所述聚合物層；

薄片形成工序，在所述聚合物層上分別涂布含有陶瓷粉末的膏體 和/或含有電極材料的膏體并使之干燥，在所述剝離薄膜上形成陶瓷生 片和/或電極生片。

9.如權(quán)利要求8所述的陶瓷部件薄片的制造方法，其特征在于，

所述(甲基)丙烯酸酯成分含有烷烴(二醇)二(甲基)丙烯酸 酯單體，所述膏體含有丁醛樹脂。