[發(fā)明專利]半導體集成電路裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910177317.1 | 申請日: | 2006-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN101697485A | 公開(公告)日: | 2010-04-21 |
| 發(fā)明(設計)人: | 伊藤稔 | 申請(專利權)人: | 松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | H03K17/687 | 分類號: | H03K17/687;H03K17/30;G01R31/26 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 陸軍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 集成電路 裝置 | ||
本申請是申請日為2006年7月27日、申請?zhí)枮?00610108114.3、發(fā)明 名稱為“半導體集成電路裝置”的發(fā)明專利申請的分案申請。
技術領域
本發(fā)明涉及控制MIS(金屬絕緣半導體)晶體管閾值電壓的半導體集成 電路裝置,特別涉及能控制以低電源電壓操作的精細(fine?detailed)MIS 晶體管的襯底電壓的半導體集成電路裝置。
背景技術
近年來,降低電源電壓的方法被公認為是用于使半導體集成電路功耗低 的重要方法。然而,通過降低電源電壓,MIS晶體管或MOS(金屬氧化物半導 體)晶體管的閾值電壓的波動對半導體集成電路的操作速度有實質(zhì)影響。
關于該問題,在現(xiàn)有技術中,已經(jīng)開發(fā)了用于使閾值電壓變化小的電路 技術。例如,如圖12所示,使用漏電流檢測電路,執(zhí)行下述操作,其中,將 由在亞閾值區(qū)中操作的兩個NchMOS晶體管M1n和M2n生成的穩(wěn)定電位施加到 NchMOS晶體管MLn的柵極,用于漏電流檢測用途以及將恒流源連接到晶體管 MLn的漏極,以及襯底偏置電路。首先,當閾值電壓低于目標值時,漏電流增 加到高于目標值,為此,所檢測的漏電流變?yōu)榇笥谠O定值。因此,襯底偏置 電路操作,襯底偏置變?yōu)楦睿约笆归撝惦妷盒U礁摺O喾吹兀旈? 值電壓高于目標值時,漏電流下降到低于目標值,為此,所檢測的漏電流變 為小于設定值。因此,襯底偏置電路使襯底偏置更淺,以及使閾值電壓校正 到更低(參見專利文獻1:日本專利申請公開號No.Hei9-130232)。
另外,如圖13所示,在半導體襯底上提供集成電路體16B、監(jiān)視多個 NchMOS晶體管的至少一個的漏電流的監(jiān)視單元15B,以及控制半導體襯底的 襯底電壓BN的襯底電壓調(diào)節(jié)單元14B,如此,漏電流變?yōu)楣潭āchMOS晶體 管11B的漏極連接到恒流源12B,源極連接到地電位VSS端,柵極設定為任意 電壓17B,以及比較器13B的參考輸入IN1的電壓設定成電源電壓值。為比 較器13B的測量端的主體的輸入IN2連接到MOS晶體管11B的漏極(參見專 利文獻2:日本專利申請公開號No.2004-165649)。
另外,在專利文獻2中,如圖14所示,在半導體襯底上提供集成電路體 16A、監(jiān)視多個PchMOS晶體管的至少一個的漏電流的監(jiān)視單元15A,以及控 制半導體襯底的參考電壓BP的襯底電壓調(diào)節(jié)單元14A。監(jiān)視單元由恒流源12A 組成,以及在與多個PchMOS晶體管相同的襯底上形成的、用于監(jiān)視用途的 PchMOS晶體管11A的漏極與集成電路體的多個PchMOS晶體管或NchMOS晶體 管的漏極連接到地電位VSS端的情況下,比較單元13A將用于監(jiān)視用途的 PchMOS晶體管的源極電位與預先確定的參考電位進行比較。然后,將比較結 果反饋到用于監(jiān)視用途的PchMOS晶體管的襯底電壓。
另外,如圖15所示,提供監(jiān)視柵極和漏極連接到恒流源的NchMOS晶體 管的漏電位的監(jiān)視單元和控制半導體襯底的襯底電壓Vbn的襯底電壓調(diào)節(jié)單 元,如此,襯底電位變?yōu)楹愣āH缓螅瑢chMOS晶體管的漏極連接到比較器 的一端,以及另一端連接到參考電位Vgsn(恒定電位)。然后,將比較器的輸 出輸入到襯底電壓調(diào)節(jié)單元,以及由襯底電壓調(diào)節(jié)單元生成參考電壓Vbn。例 如參見(Sumita,M.et?al.,“Mixed?Body?Bias?Techniques?With?Fixed?Vt and?Ids?Generation?Circuits“,IEEE?JOURNAL?OF?SOLID-STATE?CIRCUITAS, VOL.40,NO.1,JANUARY?2005年1月)。
然而,相關技術的半導體集成電路裝置具有下述三個問題。第一問題是 在專利文獻1和專利文獻2的方法中,由于這些均是是用于檢測漏電流檢測 NchMOS晶體管的漏電位的波動的方法,如果從初始電位到超出用于檢測漏電 位的波動的參考電位的電位沒有漏電位波動,不可能檢測漏電流的變化。這 還限制了漏電流的檢測靈敏度和響應改進。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社,未經(jīng)松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910177317.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:碘代苯基取代的環(huán)狀酮烯醇
- 下一篇:車輛接口





