[發(fā)明專利]真空機(jī)械引入裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910176675.0 | 申請(qǐng)日: | 2009-09-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102031492A | 公開(公告)日: | 2011-04-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張凱程 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 迎輝科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/56 | 分類號(hào): | C23C14/56 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;王璐 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空 機(jī)械 引入 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種真空機(jī)械引入裝置,特別涉及一種將外界旋轉(zhuǎn)動(dòng)力傳遞至真空系統(tǒng)內(nèi)部的元件,以驅(qū)動(dòng)該內(nèi)部元件旋轉(zhuǎn)的真空機(jī)械引入裝置。
背景技術(shù)
現(xiàn)有半導(dǎo)體或光電元件的制程,常需要使用真空系統(tǒng)進(jìn)行鍍膜作業(yè),而真空系統(tǒng)的腔體內(nèi)部為較高度的真空環(huán)境,并且要與外界大氣環(huán)境隔絕,因此要操作真空系統(tǒng)內(nèi)部的元件時(shí),必須通過一真空機(jī)械引入裝置來達(dá)成,而用于操作旋轉(zhuǎn)的引入裝置稱為旋轉(zhuǎn)式真空機(jī)械引入裝置,其結(jié)構(gòu)主要包括:一裝設(shè)在該真空腔體的外部的中空安裝座以及一穿伸通過該安裝座的轉(zhuǎn)軸,該轉(zhuǎn)軸的外端位于大氣環(huán)境中,其內(nèi)端伸入該真空腔體并連結(jié)該腔體內(nèi)部的元件。該轉(zhuǎn)軸的外端連結(jié)一動(dòng)力源并可受驅(qū)動(dòng)而繞其自身中心軸線轉(zhuǎn)動(dòng),進(jìn)而驅(qū)動(dòng)該真空腔體內(nèi)部的元件旋轉(zhuǎn)。因此,該轉(zhuǎn)軸必須能相對(duì)該安裝座轉(zhuǎn)動(dòng),同時(shí),該安裝座的內(nèi)表面與該轉(zhuǎn)軸的外表面之間必須保持氣密,該安裝座與真空腔體的鎖固結(jié)合處也必須保持氣密,才能隔絕大氣與真空環(huán)境。
為了在氣密隔絕的情況下使該轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn),目前有一種旋轉(zhuǎn)式真空機(jī)械引入裝置利用磁流體作為隔絕手段,磁流體使動(dòng)力傳導(dǎo)為非接觸式、無(wú)摩擦阻力,因此壽命較長(zhǎng),并且適合用在超高真空系統(tǒng),但是其價(jià)錢昂貴,如果運(yùn)用于普通真空度的真空系統(tǒng),將顯得浪費(fèi)。另一種真空機(jī)械引入裝置,如中國(guó)臺(tái)灣專利第I247855號(hào)專利所公開的,是利用O型環(huán)封閉隔絕,雖然此種設(shè)備成本較低,但是其動(dòng)力傳導(dǎo)為接觸式,機(jī)械摩擦阻力較大,造成O型環(huán)容易損壞,其它機(jī)械構(gòu)件也會(huì)因?yàn)槭艿侥Σ炼鴫勖^短。由上述說明可知,此兩種型態(tài)的裝置無(wú)法同時(shí)兼顧低成本與低摩擦阻力的考量。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種成本低、可降低摩擦阻力的真空機(jī)械引入裝置。
本發(fā)明真空機(jī)械引入裝置,安裝于一真空腔體的一腔壁上,所述真空腔體界定出一腔體空間,而該真空機(jī)械引入裝置包括:一固定地與該腔壁組裝的分隔座、一入力機(jī)構(gòu)以及一出力機(jī)構(gòu)。
該分隔座包括一與該腔壁間隔的分隔端壁以及一自該分隔端壁的周緣朝該腔壁延伸連接的分隔圍壁,該分隔圍壁與該分隔端壁共同界定出一安裝空間。該入力機(jī)構(gòu)包括一可相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置于該分隔座的外部的入力軸座以及多個(gè)設(shè)置于該入力軸座上的第一磁性單元,所述入力軸座包括一罩覆于該分隔座的外周并供所述第一磁性單元安裝的入力本體及一自該入力本體的一側(cè)朝遠(yuǎn)離該腔壁的方向延伸的入力軸。
該出力機(jī)構(gòu)包括一出力軸座以及多個(gè)設(shè)置于該出力軸座上的第二磁性單元,所述出力軸座包括一設(shè)置于該分隔座的安裝空間的出力本體以及一自該出力本體延伸出并穿過該腔壁而伸入該腔體空間的出力軸,所述第二磁性單元安裝在該出力本體上,并且分別與所述第一磁性單元內(nèi)外對(duì)應(yīng)。前述出力軸座可在該入力軸座轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),受到所述第一磁性單元及所述第二磁性單元間的磁力作用而隨著該入力軸座轉(zhuǎn)動(dòng)。
本發(fā)明所述的真空機(jī)械引入裝置,該入力本體具有一個(gè)相鄰于該分隔端壁的本體端壁以及一個(gè)自該本體端壁的周緣朝該腔壁方向延伸并間隔地位于該分隔圍壁的外圍的本體圍壁,所述第一磁性單元彼此間隔地設(shè)置于該本體圍壁上。
本發(fā)明所述的真空機(jī)械引入裝置,該本體圍壁具有多個(gè)彼此間隔的第一嵌卡段以及多個(gè)分別位于兩兩相鄰的第一嵌卡段之間的第一安裝槽,所述第一嵌卡段都具有二個(gè)分別朝相鄰的第一安裝槽突出的第一突卡部,所述第一磁性單元分別安裝于所述第一安裝槽,每一個(gè)第一磁性單元都包括多個(gè)相鄰的第一磁性件,所述第一磁性件都具有二個(gè)間隔并與同側(cè)的第一突卡部配合卡插的第一凹溝。
本發(fā)明所述的真空機(jī)械引入裝置,該入力機(jī)構(gòu)還包括一個(gè)組裝在該本體圍壁的一側(cè)的固定環(huán)座以及多個(gè)分別對(duì)應(yīng)所述第一安裝槽并與該本體端壁結(jié)合的固定板,所述固定板及該固定環(huán)座分別位于所述第一磁性單元的兩相反側(cè)并定位所述第一磁性單元。
本發(fā)明所述的真空機(jī)械引入裝置,該出力本體包括多個(gè)彼此間隔的第二嵌卡段以及多個(gè)位于兩兩相鄰的第二嵌卡段之間的第二安裝槽,所述第二嵌卡段都具有二個(gè)分別朝相鄰的第二安裝槽突出的第二突卡部,所述第二磁性單元分別安裝于所述第二安裝槽,每一個(gè)第二磁性單元都包括多個(gè)相鄰的第二磁性件,所述第二磁性件都包括二個(gè)間隔并與同側(cè)的第二突卡部配合卡插的第二凹溝。
本發(fā)明所述的真空機(jī)械引入裝置,所述第一磁性單元及第二磁性單元都具有內(nèi)外設(shè)置的一個(gè)第一磁極以及一個(gè)第二磁極,該第一磁性單元的第一磁極鄰近該第二磁性單元的第二磁極。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





