[發(fā)明專利]氣體供給裝置及塊狀凸緣無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910174923.8 | 申請(qǐng)日： | 2009-11-03 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN101725752A | 公開(kāi)（公告）日： | 2010-06-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 井上貴史;西村康典 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 喜開(kāi)理株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | F16K27/00 | 分類號(hào)： | F16K27/00 |
| 代理公司： | 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219 | 代理人： | 高培培;車文 |
| 地址： | 日本愛(ài)知*** | 國(guó)省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 氣體 供給 裝置 塊狀 凸緣 | ||
1.一種氣體供給裝置，具有第一線路及第二線路，該第一線路與 第一質(zhì)量流控制器連接，該第二線路與第二質(zhì)量流控制器連接，該第 一線路具有供給氣體A的第一開(kāi)閉閥及供給氣體C的第二開(kāi)閉閥，該 第二線路具有供給氣體B的第三開(kāi)閉閥及供給氣體D的第四開(kāi)閉閥， 其特征在于，
所述氣體A和所述氣體B是同一氣體，
具有塊狀凸緣，該塊狀凸緣被安裝于所述開(kāi)閉閥的下表面所安裝 的歧管塊的下表面，
所述塊狀凸緣具有：(a)與管連接的連接口；(b)凸緣連通路， 將形成于所述歧管塊并與所述開(kāi)閉閥連接的歧管連通路和所述連接口 連通；以及(c)用于確保所述管通過(guò)的空間的管避讓部，
所述管相對(duì)于所述氣體流動(dòng)方向正交或者平行地配置，位于形成 于所述塊狀凸緣的下表面的所述管避讓部。
2.如權(quán)利要求1所述的氣體供給裝置，其特征在于，
在回路的排氣側(cè)具有流量檢測(cè)系統(tǒng)。
3.如權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的氣體供給裝置，其特征在于，
所述塊狀凸緣在縱方向、橫方向的任一方向上都能夠安裝于所述 歧管塊上。
4.一種塊狀凸緣，在權(quán)利要求1所述的氣體供給裝置中使用，被 安裝于開(kāi)閉閥上所安裝的歧管塊的下表面，其特征在于，
所述塊狀凸緣具有：
與管連接的連接口；
凸緣連通路，將與形成于所述歧管塊的所述開(kāi)閉閥連接的歧管連 通路和所述連接口連通；以及
用于確保所述管通過(guò)的空間的管避讓部。
5.如權(quán)利要求4所述的塊狀凸緣，其特征在于，
所述塊狀凸緣在縱方向、橫方向的任一方向上都能夠安裝于所述 歧管塊上。
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