[發(fā)明專利]光掩模制造方法以及光掩模

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910174246.X
• 申請(qǐng)日: 2009-09-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101685254A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-03-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 佐野道明;早瀬三千彥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: HOYA株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F1/00
• 分類號(hào): G03F1/00;G03F1/14
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 黃綸偉

1.一種光掩模制造方法，其包括：準(zhǔn)備在透明基板上形成有遮光膜的光掩模坯體的工序；對(duì)形成在所述遮光膜上的抗蝕劑膜進(jìn)行構(gòu)圖來(lái)形成抗蝕劑圖案的工序；將所述抗蝕劑圖案作為掩模對(duì)所述遮光膜進(jìn)行蝕刻并形成遮光膜圖案的工序；以及對(duì)形成的遮光膜圖案進(jìn)行缺陷檢查，當(dāng)存在由過(guò)剩物引起的黑缺陷時(shí)對(duì)該缺陷部分進(jìn)行修正的工序，該光掩模制造方法的特征在于，

對(duì)所述缺陷部分進(jìn)行修正的工序包括以下工序：

確定所述缺陷部分的工序；

在所述光掩模上再次形成抗蝕劑膜的工序；

在包含所述缺陷部分的規(guī)定區(qū)域中，進(jìn)行基于描繪圖案數(shù)據(jù)的圖案描繪，在描繪后進(jìn)行顯影來(lái)形成修正用抗蝕劑圖案的工序，其中所述描繪圖案數(shù)據(jù)是根據(jù)所述確定的缺陷部分的位置和形狀而制作的；以及

將所述修正用抗蝕劑圖案作為掩模來(lái)實(shí)施蝕刻，去除所述缺陷部分的過(guò)剩物的工序，

所述抗蝕劑圖案包括第一標(biāo)記，所述修正用抗蝕劑圖案包括第二標(biāo)記，

所述光掩模制造方法還具有：在形成所述修正用抗蝕劑圖案后或者在去除所述缺陷部分的過(guò)剩物的工序后的至少任意一方進(jìn)行檢查的工序，

該進(jìn)行檢查的工序包括下述工序：

在形成所述修正用抗蝕劑圖案后進(jìn)行檢查的情況下，測(cè)定與所述第一標(biāo)記對(duì)應(yīng)的遮光膜圖案的邊緣和所述修正用抗蝕劑圖案中的第二標(biāo)記的邊緣之間的距離；

在去除所述缺陷部分的過(guò)剩物的工序后進(jìn)行檢查的情況下，測(cè)定與所述第一標(biāo)記對(duì)應(yīng)的遮光膜圖案的邊緣和與所述第二標(biāo)記對(duì)應(yīng)的遮光膜圖案的邊緣之間的距離，并檢查所述距離是否在規(guī)定范圍內(nèi)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模制造方法，其特征在于，

關(guān)于所述第一標(biāo)記和在實(shí)施對(duì)所述缺陷部分進(jìn)行修正的工序時(shí)形成的所述第二標(biāo)記，當(dāng)將其形成在所述透明基板上時(shí)，是一個(gè)標(biāo)記的外形包含在另一個(gè)標(biāo)記的外形內(nèi)部的形狀的組合。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光掩模制造方法，其特征在于，

所述第一標(biāo)記和所述第二標(biāo)記具有在一個(gè)方向和與該方向垂直的方向上均對(duì)稱的形狀的圖案。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的光掩模制造方法，其特征在于

所述第一標(biāo)記的外形和所述第二標(biāo)記的外形是相似形狀。

5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的光掩模制造方法，其特征在于

所述第一標(biāo)記和所述第二標(biāo)記均包含矩形圖案。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的光掩模制造方法，其特征在于，

所述檢查工序是通過(guò)對(duì)所述光掩模照射光并接收其透射光來(lái)進(jìn)行的。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的光掩模制造方法，其特征在于，

所述檢查工序是通過(guò)對(duì)所述光掩模照射光并接收其反射光來(lái)進(jìn)行的。

8.一種在透明基板上具有遮光膜圖案的光掩模，該光掩模是通過(guò)使用包含描繪工序的構(gòu)圖工序在形成在透明基板上的遮光膜上形成圖案從而制造的，該光掩模的特征在于，

該光掩模具有通過(guò)包含所述描繪工序的構(gòu)圖而形成在遮光膜上的第一標(biāo)記，

對(duì)形成在該光掩模上的遮光膜圖案進(jìn)行缺陷檢查，當(dāng)存在由過(guò)剩物引起的黑缺陷時(shí)，通過(guò)包含描繪工序的構(gòu)圖來(lái)對(duì)該缺陷部分進(jìn)行修正，

所述第一標(biāo)記是這樣的矩形圖案：該第一標(biāo)記與通過(guò)包含用于對(duì)所述缺陷部分進(jìn)行修正的第二次描繪工序的構(gòu)圖而形成在遮光膜或抗蝕劑膜上的第二標(biāo)記之間的關(guān)系是一個(gè)標(biāo)記的外形包含在另一個(gè)標(biāo)記的外形內(nèi)部，使得能夠通過(guò)測(cè)定所述第一標(biāo)記與所述第二標(biāo)記之間的距離并檢查所述距離是否在規(guī)定范圍內(nèi)，來(lái)評(píng)價(jià)第二次描繪的對(duì)準(zhǔn)偏差。