[發(fā)明專利]具有均勻色度的薄膜

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910171853.0
• 申請日: 2009-09-07
• 公開（公告）號: CN102012577A
• 公開（公告）日: 2011-04-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 詹俊彬;胡文瑋;李光榮
• 申請（專利權(quán)）人: 迎輝科技股份有限公司
• 主分類號: G02F1/133
• 分類號: G02F1/133
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種薄膜，特別涉及一種能應(yīng)用于觸控面板上，并且具有均勻色度的透明導(dǎo)電薄膜。

背景技術(shù)

現(xiàn)行使用于觸控面板的氧化銦錫(ITO)透明導(dǎo)電膜，因為其鍍膜制程溫度低，而且材料本身在低波長波段的透過率較低而使膜層偏黃，造成面板的視感不佳。此外，ITO膜披覆形成后，為了作電路或電容配置，必須透過蝕刻制程將部分區(qū)塊蝕刻移除，因此面板上對應(yīng)于該ITO膜被蝕刻的部位，以及對應(yīng)于沒有被蝕刻的部位，將因為ITO材料的有無，造成明顯的顏色差異，使面板表面顏色不均勻，并且造成表面蝕刻圖案容易被觀察到，進(jìn)而影響面板的視感。

而人眼可見的顏色可以利用國際照明委員會(International?Commission?on?Illumination，簡稱CIE)制定的CIE?L^*a^*b^*色度空間來描述，所述b^*值可以為負(fù)值也可以為正值，當(dāng)b^*為正值時，代表黃色，而且b^*值越大代表顏色越黃，一般而言，ITO膜的b^*值約為2～4而偏黃。

雖然改變ITO的膜厚可以改善膜層偏黃現(xiàn)象，但是為了在觸控面板上作較佳的觸控應(yīng)用，ITO膜的阻抗值必須控制在一定范圍，其膜厚就不能太厚而也必須控制在一定厚度，所以無法通過調(diào)整ITO膜本身的膜厚來改良薄膜偏黃現(xiàn)象。目前作法通常是改變位于ITO膜下方的抗反射膜層的特性，以改變整體薄膜的顏色均勻性，例如日本專利JP2003-171147、JP2007-299534及臺灣專利TW200730933號專利案，都是利用多層不同折射率的抗反射膜層搭配，以調(diào)變薄膜整體色度與透光度，其它改良技術(shù)例如：JP2004-184579號專利案是利用五層光學(xué)膜的搭配來調(diào)變色度；JP2007-276332號專利案是利用高分子材料作為中間層；JP2008-49518是利用ZnO與低折射率層的配合。

然而，上述專利只是設(shè)法將薄膜的整體色度b*值降低，但是并未考慮ITO膜蝕刻后造成的蝕刻區(qū)塊及非蝕刻區(qū)塊的色彩不均勻性，因此當(dāng)ITO膜蝕刻后，仍然會產(chǎn)生多個色彩不均勻的區(qū)塊，并使蝕刻圖案被清楚觀察到。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種減輕薄膜偏黃現(xiàn)象、色彩均勻、表面蝕刻圖案不易被觀察到的具有均勻色度的薄膜。本發(fā)明具有均勻色度的薄膜，包含：一基材，該基材包括反向間隔的一第一面與一第二面，所述具有均勻色度的薄膜更包含：一位于所述第一面及第二面的其中一表面的表面處理層，以及由鄰近而遠(yuǎn)離該基材而披覆的一第一折射層、一第二折射層，以及一透明導(dǎo)電層，該第一折射層的光學(xué)厚度為d1，且11nm≤d1≤16nm，該第二折射層的折射率小于該第一折射層的折射率，而且該第二折射層的光學(xué)厚度為d2，且60nm≤d2≤90nm。

根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻色度的薄膜，該透明導(dǎo)電層的材料為氧化銦錫。

根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻色度的薄膜，12納米≤d1≤15納米。

根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻色度的薄膜，60納米≤d2≤80納米。

根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻色度的薄膜，該表面處理層鄰近該基材的第二面，所述第一折射層、第二折射層及透明導(dǎo)電層是鄰近該基材的第一面。

根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻色度的薄膜，該表面處理層鄰近該基材的第一面，并且位于該基材及該第一折射層之間。

一種具有均勻色度的薄膜，包含：一個基材，以及由鄰近而遠(yuǎn)離該基材而披覆的一第一折射層、一第二折射層，以及一透明導(dǎo)電層；

該第一折射層的光學(xué)厚度為d1，且20納米≤d1≤29納米，該第二折射層的折射率小于該第一折射層的折射率，而且該第二折射層的光學(xué)厚度為d2，且60納米≤d2≤90納米。

根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻色度的薄膜，該透明導(dǎo)電層的材料為氧化銦錫。

根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻色度的薄膜，22納米≤d1≤28納米。

根據(jù)本發(fā)明所述的具有均勻色度的薄膜，60納米≤d2≤80納米。

本發(fā)明的有益效果在于：通過所述第一、二折射層的光學(xué)厚度的配合，可以縮小該透明導(dǎo)電層的蝕刻區(qū)塊及非蝕刻區(qū)塊的色度差，使薄膜整體色彩均勻，蝕刻圖案被模糊化而不易觀察到，并減輕薄膜偏黃現(xiàn)象。