[發(fā)明專利]具有均勻色度的薄膜有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910171853.0 | 申請(qǐng)日: | 2009-09-07 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102012577A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-04-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 詹俊彬;胡文瑋;李光榮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 迎輝科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/133 | 分類號(hào): | G02F1/133 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 均勻 色度 薄膜 | ||
1.一種具有均勻色度的薄膜,包含:一個(gè)包括反向間隔的一個(gè)第一面與一個(gè)第二面的基材、一位于所述第一面及第二面的其中一個(gè)表面的表面處理層,以及由鄰近而遠(yuǎn)離該基材而披覆的一第一折射層、一第二折射層,以及一透明導(dǎo)電層;其特征在于,
該第一折射層的光學(xué)厚度為d1,且11納米≤d1≤16納米,該第二折射層的折射率小于該第一折射層的折射率,而且該第二折射層的光學(xué)厚度為d2,且60納米≤d2≤90納米。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有均勻色度的薄膜,其特征在于,該透明導(dǎo)電層的材料為氧化銦錫。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有均勻色度的薄膜,其特征在于,12納米≤d1≤15納米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有均勻色度的薄膜,其特征在于,60納米≤d2≤80納米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有均勻色度的薄膜,其特征在于,該表面處理層鄰近該基材的第二面,所述第一折射層、第二折射層及透明導(dǎo)電層鄰近該基材的第一面。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有均勻色度的薄膜,其特征在于,該表面處理層鄰近該基材的第一面,并且位于該基材及該第一折射層之間。
7.一種具有均勻色度的薄膜,包含:一個(gè)基材,以及由鄰近而遠(yuǎn)離該基材而披覆的一第一折射層、一第二折射層,以及一透明導(dǎo)電層;其特征在于,
該第一折射層的光學(xué)厚度為d1,且20納米≤d1≤29納米,該第二折射層的折射率小于該第一折射層的折射率,而且該第二折射層的光學(xué)厚度為d2,且60納米≤d2≤90納米。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的具有均勻色度的薄膜,其特征在于,該透明導(dǎo)電層的材料為氧化銦錫。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的具有均勻色度的薄膜,其特征在于,22納米≤d1≤28納米。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的具有均勻色度的薄膜,其特征在于,60納米≤d2≤80納米。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





