[發(fā)明專利]基板處理裝置及在基板處理裝置中使用的基板搬運裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910169141.5 | 申請日: | 2009-09-11 |
| 公開(公告)號: | CN101673665A | 公開(公告)日: | 2010-03-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 光吉一郎;村元僚 | 申請(專利權(quán))人: | 大日本網(wǎng)屏制造株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/00 | 分類號: | H01L21/00;H01L21/677;H01L21/687;B65G49/00;B65G49/06;B65G49/07 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 郭曉東;馬少東 |
| 地址: | 日本京都*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 裝置 使用 搬運 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及對多張基板一起進(jìn)行處理的基板處理裝置以及該基板處理裝置具有的基板搬運裝置。成為處理或者搬運對象的基板包括例如半導(dǎo)體晶片、液晶顯示裝置用基板、等離子顯示器用基板、FED(Field?Emission?Display:場發(fā)射型顯示器)用基板、光盤用基板、磁盤用基板、光磁盤用基板、光掩模用基板等。?
背景技術(shù)
在使用藥液對半導(dǎo)體晶片等基板實施處理的基板處理裝置中,存在對多張基板一起進(jìn)行處理的批式的基板處理裝置。在JP特開平11-354604號公報中公開了批式的基板處理裝置的一個例子。該基板處理裝置具有傳送器裝載部、水平運載機械手、姿勢變換機構(gòu)、推動器(pusher)、主搬運機構(gòu)和基板處理部。?
傳送器裝載部裝載有傳送器(容置容器),該傳送器將多張基板保持為以水平姿勢層疊在垂直方向上的狀態(tài)。?
水平運載機械手由垂直多關(guān)節(jié)臂式的搬運機械手構(gòu)成,能夠使多關(guān)節(jié)臂伸縮并且繞著鉛垂軸線旋轉(zhuǎn)。由此,水平運載機械手使多關(guān)節(jié)臂朝向傳送器,相對于該傳送器搬入搬出以水平姿勢層疊在垂直方向上的多張基板,而且,水平運載機械手使多關(guān)節(jié)臂朝向姿勢變換機構(gòu),相對于該姿勢變換機構(gòu)交接以水平姿勢層疊在垂直方向上的多張基板。?
水平運載機械手具有能夠在多關(guān)節(jié)臂上裝拆的批次手部和單張手部。批次手部用于一起搬運多張基板,單張手部用于一張一張地搬運基板。手部的交換通過水平運載機械手接近手部交換部來進(jìn)行。在手部交換部具有3個手部保持架,分別用于保持批次手部、未處理基板用的單張手部和處理后基板的單張手部。對于水平運載機械手,例如在取下批次手部而安裝單張手部時,將批次手部容置在批次手部用手部保持架,并安裝容置在單張手部用手部保持架中的單張手部。由此,不需要人手就能夠自動地交換手部。?
姿勢變換機構(gòu)用于使多張層疊的基板一起在水平姿勢與垂直姿勢間進(jìn)行姿勢變換。?
推動器具有能夠上下運動和水平移動的保持架,在與姿勢變換機構(gòu)間一起交接垂直姿勢的多張基板,以及在與主搬運機構(gòu)間一起交接垂直姿勢的多張基板。保持架以間距為姿勢變換機構(gòu)保持的多張基板的間距的一半的距離保持基板。例如,在從姿勢變換機構(gòu)交給保持架25張基板后,保持架在沿著基板層疊方向的水平方向上移動僅微小距離。在該狀態(tài)下,從姿勢變換機構(gòu)交給保持架另外的25張基板。后來交給的25張基板進(jìn)入之前交給的25張基板之間,從而在保持架上形成由共計50張基板構(gòu)成的一個批次。這樣地將多個基板組進(jìn)行組合而形成一個批次的情況稱為批次組合。在將基板從推動器交給姿勢變換機構(gòu)時,保持在保持架上的50張基板中的25張交給姿勢變換機構(gòu),在該25張基板姿勢變換為水平姿勢后,交給水平運載機械手。然后,保持架上剩余的25張基板交給姿勢變換機構(gòu),在姿勢變換為水平姿勢后,由水平運載機械手送出。這樣,50張基板分為各25張的兩個基板組。這樣,將形成一個批次的多張基板分離為多個基板組的情況稱為批次解除。?
主搬運機構(gòu)具有將形成一個批次的多張基板保持為垂直姿勢的基板卡盤,通過使該基板卡盤在水平方向上移動,主搬運機構(gòu)使構(gòu)成一個批次的多張基板搬入/搬出基板處理部。為了清洗基板卡盤,例如,在推動器與主搬運機構(gòu)間的基板交接位置的下方設(shè)置有卡盤清洗單元。?
基板處理部具有沿著主搬運機構(gòu)的移動方向配置的多個處理部。在處理部具有藥液槽、水洗槽和干燥部。藥液槽用于使垂直姿勢的多張基板浸漬在槽內(nèi)存儲的藥液中,來對多張基板一起實施藥液處理。水洗槽用于使垂直姿勢的多張基板浸漬在槽內(nèi)存儲的純水(去離子水)中,來對多張基板一起實施水洗(沖洗)處理。干燥部用于對多張基板一起實施供給有機溶劑(例如,異丙醇)或者甩落液體成分的處理。?
在上述現(xiàn)有技術(shù)的基板處理裝置中,從推動器到主搬運機構(gòu)的基板搬運路徑是一個系統(tǒng),因此,在向主搬運機構(gòu)送入未處理基板時,不能從主搬運機構(gòu)向推動器送出處理后基板,另外,在送出處理后基板時,不能送入未處理基板。而且,在將未處理基板送入主搬運機構(gòu)時,需要在推動器的保持架上進(jìn)行批次組合動作,因此直至送出處理后基板之前,主搬運機構(gòu)往往不得?不長時間待機。?
考慮追加推動器,一個推動器用于從姿勢變換機構(gòu)至主搬運機構(gòu)的去路搬運,另一個推動器用于從主搬運機構(gòu)至姿勢變換機構(gòu)的回路搬運。但是,若形成這樣的結(jié)構(gòu),不免要增加裝置的占用面積(占用空間)。?
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個目的在于提供能夠抑制裝置的占用面積,同時能夠提高基板處理速度的基板處理裝置。?
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





