[發明專利]真空噴涂用于磁記錄介質的潤滑劑無效
| 申請號： | 200910166986.9 | 申請日： | 2009-07-10 |
| 公開（公告）號： | CN101656083A | 公開（公告）日： | 2010-02-24 |
| 發明（設計）人： | X·馬;M·J·施蒂納曼;楊季平;桂靖 | 申請（專利權）人： | 希捷科技有限公司 |
| 主分類號： | G11B5/84 | 分類號： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 | 代理人： | 郭 輝 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空 噴涂 用于 記錄 介質 潤滑劑 | ||
【權利要求書】：
1、一種制作磁記錄介質的方法，包括：
在腔室中放置磁記錄介質；
通過微給料閥向腔室中提供液體，其中該液體包含潤滑劑和溶劑；
將腔室中的壓力維持在低于該液體的蒸汽壓，以便將至少一部分液體霧化成液滴，該液滴懸浮在腔室中的氣體里；
通過液滴將潤滑劑沉積在磁記錄介質的表面上。
2、如權利要求1所述的方法，其中該微給料閥打開時間小于0.3微秒，并且，當打開時，放出約100納升到約500微升的液體。
3、如權利要求1或2所述的方法，其中該液滴的尺寸為0.1到10微米。
4、如權利要求1-3任一個所述的方法，其中該潤滑劑的Mw/Mn比例為1到1.6。
5、如權利要求1-4任一個所述的方法，其中該液體包含不同組成的多種潤滑劑。
6、如權利要求1-5任一個所述的方法，其中該潤滑劑包含至少一種氟化油。
7、如權利要求1-6任一個所述的方法，進一步包括在通過液滴將潤滑劑沉積到磁記錄介質上之前或期間，將磁記錄介質暴露在UV中。
8、一種裝置，用于進行權利要求1-8中任一項所述的方法。
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