[發明專利]真空噴涂用于磁記錄介質的潤滑劑

無效

• 申請號: 200910166986.9
• 申請日: 2009-07-10
• 公開（公告）號: CN101656083A
• 公開（公告）日: 2010-02-24
• 發明（設計）人: X·馬;M·J·施蒂納曼;楊季平;桂靖
• 申請（專利權）人: 希捷科技有限公司
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 郭 輝

技術領域

本發明涉及制造磁記錄介質的處理設備，以及制作磁記錄介質的方法。

背景技術

具有可磁化媒介的磁盤被用于絕大多數計算機系統的數據存儲。當前的磁硬盤驅動器通過在磁盤表面上方僅幾納米，而速度相當高，典型地為每秒幾米的讀-寫頭操作。由于讀-寫頭在操作期間可能接觸磁盤表面，一潤滑劑層被覆蓋在磁盤表面，以減少磨損和摩擦。

圖1示出了盤記錄介質以及盤的橫截面，示出了縱向和垂直記錄的不同。盡管圖1僅示出了非磁盤的一面，磁記錄層仍被噴濺沉積在圖1的非磁鋁質基底的每個面上。并且，盡管圖1示出的為鋁質基底，其它實施例也可以包括由玻璃、玻璃陶瓷、Nip/鋁、金屬合金、塑料/聚合物材料、陶瓷、玻璃聚合物、合成材料或者其他非磁性材料制作的基底。

通常地，潤滑劑通過在包含潤滑劑的溶液中浸漬盤被應用在盤表面。該溶液典型地包括潤滑劑和用以提高潤滑劑涂覆特性的涂覆溶劑，該溶劑通常為粘性油。盤被從溶液中移除時，溶劑可以蒸發，從而在盤表面留下潤滑劑層。

硬盤上的潤滑膜通過防止碳覆層的磨損，為下面的磁性合金提供保護。此外，它與覆層一起作用，保護其下的磁性合金免受腐蝕。

在氣相潤滑劑處理中，氣相潤滑劑通過在真空中將該潤滑劑加熱到一定溫度而產生，然后氣相潤滑劑被凝結到具有碳覆層的盤上。沉積率由液態潤滑劑加熱器溫度控制。與傳統的浸漬覆層潤滑劑處理相比，通過潤滑劑蒸發獲得的氣相潤滑劑具有一定的優點，例如處理無需溶劑，均一的潤滑劑厚度，不具有浸漬潤滑劑處理的潤滑劑特點等等。然而，現有的氣相潤滑劑處理存在一個缺點。由于當前使用的潤滑劑為具有一定分子量(MW)分布(聚合分散指數＞1)的全氟聚醚(PFPEs)，因此更低MW的組分將率先蒸發。為維持固定的沉積率，潤滑劑加熱溫度將提升的很緩慢。結果，與浸漬潤滑劑處理的固定MW分布相比，沉積在盤上的潤滑劑MW逐漸由低到高變化。由于潤滑劑MW影響潤滑劑性能，例如粘度、表面流動性、潤滑劑粘著性等，這將由于在盤制造中的潤滑劑使用造成HDI性能的變動。此外，為獲得期望的可靠性表現，兩種或更多種不同的具有一定比率的潤滑劑被涂覆到盤表面。由于不同類型的潤滑劑具有不同的蒸汽壓力，使得這在當前的蒸汽潤滑劑系統中難以實現。因此，高度期望獲得固定的MW分布，以及盤的生產中采用多組分潤滑劑。

發明內容

本發明涉及一種使用微給料閥霧化方法在存儲介質上沉積潤滑劑薄膜的設備和方法。

本發明涉及一種處理過程和裝置，用于使用高速微給料閥的微給料閥霧化，在存儲介質上沉積潤滑劑薄膜，從而制造出具有一潤滑劑層的存儲介質表面，該潤滑劑層在整個潤滑劑層具有均一的潤滑劑組成。本發明的一個實施例涉及一種制造磁記錄介質的處理設備，包括腔室，微給料閥，其可打開的最小時間小于0.3微秒，并在每次該微給料閥打開時，放出約100納升到約500微升的液體，其中該包括潤滑劑以及不同于該潤滑劑的溶劑的液體通過該微給料閥發放。這些和其他各種特征和優點將通過閱讀以下詳細說明而更易理解。

附圖說明

通過參考與附圖一起的詳細說明，本發明將更容易理解，其中：

圖1示出了一種磁記錄介質。

圖2示出了制造磁記錄介質的在線處理方法。

圖3示出了使用微給料閥，在存儲介質表面沉積潤滑劑薄膜的示意圖。

圖4示出了在脈沖時間5秒、0.005重量百分比(wt％)Zdol-TX的Vertel?XF溶液的真空噴霧后，一95mm盤表面的HDI表面掃描。

具體實施方式

本發明涉及一種使用潤滑劑覆蓋基底，特別是記錄介質(記錄盤)的方法，此處潤滑劑同時也特指潤滑油(lube)。潤滑劑典型地包含分子量從幾百道爾頓(Dalton)到幾千道爾頓的組分。

提高介質抗腐蝕性的途徑之一是蒸汽潤滑劑處理，在真空條件下，緊接著碳覆層沉積之后，潤滑劑被沉積在介質上。該途徑基于這樣的構想，如果介質在暴露到大氣環境之前被潤滑劑保護，則腐蝕就可以延緩。蒸汽潤滑劑處理過程包括全氟聚醚(PFPE)潤滑劑在介質表面的蒸汽沉積。在該過程中，通過在提高的溫度下PFPE潤滑劑的蒸發，潤滑劑被蒸汽化。在發明過程期間，發明人意識到了一些與熱蒸發過程有關的問題。