[發明專利]金屬薄板帶連續進行表面真空鍍膜裝置

有效

• 申請號: 200910166892.1
• 申請日: 2009-08-26
• 公開（公告）號: CN101649448A
• 公開（公告）日: 2010-02-17
• 發明（設計）人: 范多望;范多進;孔令剛;令曉明
• 申請（專利權）人: 蘭州大成自動化工程有限公司;蘭州大成真空科技有限公司;常州大成綠色鍍膜科技有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 蘭州振華專利代理有限責任公司
• 代理人: 張 真

技術領域

本發明涉及用于金屬薄板帶在真空條件下表面物理氣相沉積的領域。

背景技術

目前，國內在金屬薄板帶表面進行連續處理都采用熱涂的形式，采用這 種方法具有以下缺點：(1)涂層材料熔點溫度低，不能涂熔點高的材料； (2)涂層厚，并且只能雙面同時涂；(3)只能涂單一的材料；(4)涂層色 澤、均勻性、附著力較差。生產的鋼帶只能用于低端市場。為彌補熱涂工藝 的不足，此前國內又開發了間歇式真空電子束蒸發、真空磁控濺射、真空多 弧離子等鍍膜設備，但這類設備存在以下缺點：(1)抽真空時間、裝卸板帶 占用的時間比較長，每鍍完一卷要打開真空室門裝卸帶卷，生產效率低，不 適合工業連續生產；(2)每周期鍍膜參數難以保證一致，產品質量一致性差； (3)磁控靶或多弧源在暴露大氣后有一定程度的氧化和污染，影響膜層質 量。

而國外鋼帶表面采用真空條件下的鍍膜技術發展較早，已經比較成熟。 比較常用的是真空條件下大功率電子束蒸發鍍膜技術。進口此類設備價格非 常昂貴，而隨著我國國民經濟的發展，對鋼帶真空鍍膜產品的需求量增長很 大，因此，急需開發此類設備。

發明內容

本發明的目的在于避免現有技術的不足，提供一種用于金屬薄板帶在真 空條件下連續進行表面鍍膜的裝置，在金屬薄板帶表面采用真空條件下物理 氣相沉積進行改性處理的裝置。這種裝置的優點在于：可在金屬薄板帶上鍍 多層膜、反應膜、膜層厚度可獨立進行控制、膜層均勻致密、附著力強、適 合工業化生產。

為實現上述目的，本發明采取的技術方案為：一種金屬薄板帶連續進行 表面真空鍍膜裝置，包括開卷機組(10)，其主要特點在于設置的真空鍍膜 室包括有1-5個A低真空室(20a)，1-3個離子處理室(30)，1-5個B低真空 室(40)，2-9個高真空室(50)，1-8個鍍膜室(60)，1-5個A低真空室(20b)， 室與室之間有法蘭密封連接，并設有金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)；各 真空室與真空機組(90)相連；在真空鍍膜室外還設有收卷機組(80)，連 續鍍膜的控制系統(100)。

所述的金屬薄板帶連續進行表面真空鍍膜裝置，所述的開卷機組(10) 包括：上卷滾輪(10-1)，開卷滾輪(10-2)，在上卷滾輪(10-1)與開卷滾 輪(10-2)的前方設有切頭(10-3)、焊接(10-4)；在1#S輥(10-5)和2#S 輥(10-7)之間設有入口金屬薄板帶(1)張緊輪系統(10-6)；在2#S輥(10-7) 之后設有清洗系統(10-8)，熱風干燥(10-9)。

所述的金屬薄板帶連續進行表面真空鍍膜裝置，所述的入口金屬薄板帶 (1)張緊輪系統(10-6)包括有固定輥系(10-6-1)；在導軌(10-6-5)上 設有導向輪(10-6-4)，導向輪(10-6-4)與活動輥系(10-6-2)連接，驅 動裝置(10-6-3)設于活動輥系(10-6-2)上。

所述的金屬薄板帶連續進行表面真空鍍膜裝置，所述的A低真空室(20a、 20b)包括有室體(20-1)，其內設有隔板(20-1-1)將室體(20-1)分隔成 2-6個真空室；隔板(20-1-1)上設有金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)；在 室體(20-1)的入口處或出口處或室體(20-1)中部隔板的窗口(2)處設 有密封輸送輥裝置(20-2)，動力驅動機構(20-3)設于密封輸送輥裝置(20-2) 上；室體(20-1)的上部設有上蓋(20-4)，其間設有上蓋密封裝置(20-6)， 下部設有機架(20-5)；室體連接處設有密封裝置(20-7)；室體(20-1)內 與滑閥泵機組(90-1、90-2)、羅茨泵(90-3)相連通；A低真空室(20a、 20b)的真空度為300Pa-2000Pa。室體中間位置通過2至4套密封輥裝置把 室體分隔成三至五部分，從進料C低真空室，20b為從出料端，開始每部分真 空度有一個階梯形的降低，經過A低真空室20a、C低真空室20b后真空度 可達到5Pa以下。室體根據制造需要，可做成整體或分兩件。