[發明專利]金屬薄板帶連續進行表面真空鍍膜裝置

有效

• 申請號: 200910166892.1
• 申請日: 2009-08-26
• 公開（公告）號: CN101649448A
• 公開（公告）日: 2010-02-17
• 發明（設計）人: 范多望;范多進;孔令剛;令曉明
• 申請（專利權）人: 蘭州大成自動化工程有限公司;蘭州大成真空科技有限公司;常州大成綠色鍍膜科技有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56
• 代理公司: 蘭州振華專利代理有限責任公司
• 代理人: 張 真

1.一種金屬薄板帶連續進行表面真空鍍膜裝置，包括開卷機組(10)，其 特征在于設置的真空鍍膜室包括有1-5個A低真空室(20a)，1-3個離子處 理室(30)，1-5個B低真空室(40)，2-9個高真空室(50)，1-8個鍍 膜室(60)，1-5個A低真空室(20b)，室與室之間有法蘭密封連接，并 設有金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)；各真空室設置與真空機組(90) 相連；在真空鍍膜室外還設有收卷機組(80)，連續鍍膜的控制系統(100)； 所述的A低真空室(20a、20b)包括有室體(20-1)，其內設有隔板(20-1-1) 將室體(20-1)分隔成2-6個真空室；隔板(20-1-1)上設有金屬薄板帶 (1)通過的窗口(2)；在室體(20-1)的入口處或出口處或室體(20-1) 中部隔板的窗口(2)處設有密封輸送輥裝置(20-2)，動力驅動機構(20-3) 設于密封輸送輥裝置(20-2)上；室體(20-1)的上部設有上蓋(20-4)， 其間設有上蓋密封裝置(20-6)，下部設有機架(20-5)；室體連接處設 有密封裝置(20-7)；室體(20-1)內與滑閥泵機組(90-1、90-2)、羅 茨泵(90-3)相連通；A低真空室(20a、20b)的真空度為300Pa-2000Pa； 所述的密封輸送輥裝置(20-2)包括相互平行的兩個橡膠輥(20-2-3)支撐 于兩端的軸承座(20-2-5)上，傳動齒輪(20-2-1)分別設于兩個橡膠輥 (20-2-3)的兩端，在橡膠輥(20-2-3)軸的一端連接有動力驅動機構 (20-3)；在橡膠輥(20-2-3)軸的兩端設有彈簧(20-2-2)，密封板(20-2-4) 設于橡膠輥(20-2-3)上；在金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)的兩側設有 通過密封墊(20-2-6)與室體連接的聯結座(20-2-7)，在聯結座(20-2-7)上 設有塑料板(20-2-9)，塑料板(20-2-9)上設有彈簧片(20-2-8)，彈簧片 (20-2-8)將塑料板(20-2-9)壓緊在兩個橡膠輥(20-2-3)上。

2.如權利要求1所述的金屬薄板帶連續進行表面真空鍍膜裝置，其特征在 于：所述的開卷機組(10)包括：上卷滾輪(10-1)，開卷滾輪(10-2)， 在上卷滾輪(10-1)與開卷滾輪(10-2)的前方設有切頭(10-3)、焊機 (10-4)；在1#S輥(10-5)和2#S輥(10-7)之間設有入口金屬薄板帶 (1)張緊輪系統(10-6)；在2#S輥(10-7)之后設有清洗系統(10-8)， 熱風干燥(10-9)。

3.如權利要求2所述的金屬薄板帶連續進行表面真空鍍膜裝置，其特征在 于：所述的入口金屬薄板帶(1)張緊輪系統(10-6)包括有固定輥系 (10-6-1)；在導軌(10-6-5)上設有導向輪(10-6-4)，導向輪(10-6-4) 與活動輥系(10-6-2)連接，驅動裝置(10-6-3)設于活動輥系(10-6-2) 上。

4.如權利要求1所述的金屬薄板帶連續進行表面真空鍍膜裝置，其特征在于： 所述的離子處理室(30)包括有室體(30-1)，其內設有隔板(30-1-1) 將室體(30-1)分隔成2-4個真空室；在室體(30-1)的兩端及隔板(30-1-1) 上設有金屬薄板帶(1)通過的窗口(2)；在室體(30-1)內設有高壓離 子處理系統(30-2)；在室體(30-1)內設有布氣系統(30-3)；室體(30-1) 的上部設有上蓋(30-4)，其間設有上蓋密封裝置(30-7)，中部設有觀 察窗(30-5)，下部設有機架(30-6)；室體連接處設有密封裝置(30-8)； 室體(30-1)內與滑閥泵機組、羅茨泵(90-4)相連通；離子處理室(30) 的真空度為1Pa-5Pa。