[發明專利]用聚焦的粒子束加工工件的方法無效
| 申請號： | 200910161890.3 | 申請日： | 2009-08-07 |
| 公開（公告）號： | CN101644644A | 公開（公告）日： | 2010-02-10 |
| 發明（設計）人： | J·J·L·穆爾德斯;A·P·J·M·博特曼;B·H·弗賴塔格 | 申請（專利權）人： | FEI公司 |
| 主分類號： | G01N1/32 | 分類號： | G01N1/32;G01N23/04;G01N23/203 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 張雪梅;李家麟 |
| 地址： | 美國俄*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 聚焦 粒子束 加工 工件 方法 | ||
【權利要求書】：
1、一種用聚焦的粒子束加工工件以形成樣本的方法，包括：
·將所述工件插入到粒子-光學裝置中；
·通過將所述工件暴露在聚焦的粒子束中來加工所述工件以形成所述樣本；以及
·從所述粒子-光學裝置中移出所述樣本，
其特征在于：
·在將所述樣本從所述粒子-光學裝置中移出之前在所述樣本上形成鈍化層；以及
·所述鈍化層不是氧化層。
2、根據權利要求1所述的方法，其中通過將所述樣本暴露于等離子體中形成的離子和/或基團來形成鈍化層。
3、根據權利要求1所述的方法，其中通過將所述樣本暴露于由氣體噴射器導入的氣體來形成所述鈍化層。
4、根據前述權利要求中的任何一項所述的方法，其中所述鈍化層是氫鈍化層。
5、根據權利要求4所述的方法，其中通過暴露于包括氫的氣體來形成所述鈍化層，在由帶電的粒子束照射時所述氣體分解。
6、根據權利要求5所述的方法，其中所述帶電的粒子束是聚焦的粒子束。
7、根據權利要求5所述的方法，其中所述帶電的粒子束是電子束。
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