[發(fā)明專利]顯示裝置的修正方法及其裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910161644.8
• 申請日: 2009-07-24
• 公開（公告）號: CN101667527A
• 公開（公告）日: 2010-03-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 新井武;中須信昭;枝村理夫;大錄范行
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社日立顯示器
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;C23C16/04;C23C16/50;H01J37/32
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 王永剛

1.一種顯示裝置的修正裝置，對在襯底的表面上形成了具有圖 案缺陷的電子電路圖案的顯示裝置的上述圖案缺陷進(jìn)行修正，其特征 在于：包括通過對上述圖案缺陷的區(qū)域局部地照射等離子體而修正上 述圖案缺陷的等離子體照射單元，

上述等離子體照射單元包括：

在其內(nèi)部生成等離子體的等離子體生成用細(xì)管，

向上述等離子體生成用細(xì)管供給第一氣體的第一氣體供給部，

具有開口部，從該開口部的對面?zhèn)炔迦肷鲜龅入x子體生成用細(xì)管 的一端的等離子體反應(yīng)部，以及

向上述等離子體反應(yīng)部內(nèi)供給第二氣體的第二氣體供給部。

2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置的修正裝置，其特征在于：

在上述開口部配置有保持并能移動上述顯示裝置的工作臺機(jī)構(gòu)， 且

上述顯示裝置的修正裝置包括從檢查裝置接收上述缺陷圖案的 信息，辨認(rèn)上述缺陷圖案的缺陷并將其分類的觀察機(jī)構(gòu)。

3.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置的修正裝置，其特征在于：

根據(jù)從上述第一氣體供給部供給的氣體的物理量，分解從第二氣 體供給部供給的反應(yīng)性氣體。

4.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置的修正裝置，其特征在于：

在上述等離子體反應(yīng)部中具有把等離子體噴流的直徑變細(xì)的掩 模，

上述掩模配置在上述等離子體生成用細(xì)管與襯底之間，第二氣體 供給部配置在上述掩模與襯底之間。

5.如權(quán)利要求4所述的顯示裝置的修正裝置，其特征在于：

上述掩模是絕緣體。

6.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置的修正裝置，其特征在于：

根據(jù)從上述第一氣體供給部供給的氣體的物理量，控制被加工物 的溫度。

7.如權(quán)利要求3、6中任一項所述的顯示裝置的修正裝置，其特征 在于：

上述氣體的物理量是流量、流速、氣體種類、電離度中的至少一 種。

8.一種顯示裝置的修正方法，對在襯底的表面上形成了具有圖 案缺陷的電子電路圖案的顯示裝置的上述圖案缺陷進(jìn)行修正，其特征 在于：

向等離子體生成用細(xì)管供給第一氣體而生成等離子體，

從插入等離子體反應(yīng)部內(nèi)的上述等離子體生成用細(xì)管的一端射 出所生成的等離子體，

向上述等離子體反應(yīng)部內(nèi)供給第二氣體，

利用上述射出的等離子體分解反應(yīng)性的上述第二氣體，對配置在 上述等離子體反應(yīng)部的開口部側(cè)的顯示裝置的上述圖案缺陷進(jìn)行修 正。

9.一種顯示裝置的修正方法，其特征在于：

通過對從等離子體生成用細(xì)管的一個端部向上述等離子體生成 用細(xì)管的內(nèi)部供給的惰性氣體施加高頻電力，產(chǎn)生等離子體；

通過在上述等離子體生成用細(xì)管的另一個端部與襯底之間配置 的掩模，把等離子體噴流微細(xì)化；

根據(jù)從第一氣體供給部供給的氣體的物理量，分解從第二氣體供 給部供給的反應(yīng)性氣體，對上述襯底上的電子電路圖案的圖案缺陷進(jìn) 行修正。

10.如權(quán)利要求9所述的顯示裝置的修正方法，其特征在于：

上述氣體的物理量是流量、流速、氣體種類、電離度中的至少一 種。