[發明專利]研磨裝置及其定位方法

有效

• 申請號: 200910161015.5
• 申請日: 2007-09-10
• 公開（公告）號: CN101633151A
• 公開（公告）日: 2010-01-27
• 發明（設計）人: 儲中文;劉昱辰;盧聰林;劉榮其;吳哲耀
• 申請（專利權）人: 友達光電股份有限公司
• 主分類號: B24B37/04
• 分類號: B24B37/04;B24B49/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司
• 代理人: 李 強

本申請是申請號為200710149274.7、申請日為2007年9月10日、發明名稱為“研磨裝置及其定位方法”的專利申請的分案申請。

技術領域

本發明是有關于一種研磨裝置及其定位方法，且特別是有關于一種用以定位上盤的研磨裝置及其定位方法。

背景技術

傳統的擺臂式研磨裝置包括下盤、上盤、擺動源及轉動源。上盤設置于下盤的上方。擺動源用以提供上盤一擺動動力，以使上盤可相對下盤擺動。轉動源用以提供下盤一轉動動力，以使下盤轉動。當上盤擺動且下盤轉動時，上盤通過其與下盤的摩擦力以相對于下盤轉動。如此一來，若基板吸附在上盤且面對下盤，則此基板利用上述所提及的上盤及下盤的相對運動進行研磨。當基板的厚度研磨至預定值時，上盤及下盤則分別停止作動，并以人工方式取出基板。

以人工方式取出基板為目前普遍的方式，然而隨著自動化產業的發展，取出基板的動作可利用例如是機械手臂完成。由于機械手臂取出基板的位置是為固定的，因上盤停止的位置成為機械手臂是否可準確地取出基板的關鍵。然而，就上盤的擺動部分而言，當上盤停止擺動時，上盤會位于開始擺動前的位置。舉例而言，請參照圖1A，其繪示傳統的擺臂式研磨裝置的上盤于擺臂前的上視圖。擺臂式研磨裝置100的一上盤113于擺動前位于如圖1A所示的位置，并非位于一對準位置P1。因此，當上盤113擺動后再停止時也會位于如圖1A所示的位置。如此一來，吸附于上盤113的一基板112無法位于一預定位置P2，因此機械手臂(未繪示)無法自預定位置P2處取出基板112。

此外，請同時參照圖1B，其繪示圖1A的上盤位于對準位置時的上視圖。就上盤113的轉動部分而言，上盤113停止擺動后，由于慣性力的緣故，上盤會短暫地持續轉動。然而，即便上盤113于停止擺動時可位于對準位置P1(如圖1B所示)，但上盤113必須藉由上盤113與下盤111之間的摩擦力才可停止轉動。因此，上盤113停止轉動時的位置仍無法準確地掌握。如此一來，基板112最終的位置亦可能如圖1B所示無法位于預定位置P2。也就是說，在圖1B的情況下，機械手臂依舊無法準確地取出基板112。

綜上所述，由于傳統的擺臂式研磨裝置的上盤最終的停止的位置是無法準確地掌握，因此基板也無法位于預定位置。此時，若要結合擺臂式研磨裝置及例如是機械手臂的自動化設備是有困難的。

發明內容

本發明有關于一種研磨裝置及其定位方法，其提供上盤的定位機制，以使得吸附于上盤的基板準確地定位。如此一來，本發明可與自動化設備結合，以降低制造成本并且提升產業競爭力。

根據本發明的第一方面，提出一種研磨裝置。研磨裝置包括下盤、上盤、擺動檢測模塊及一動動力源。上盤對應設置于下盤的上方。擺動檢測模塊對應上盤設置，以偵測上盤的位置。擺動動力源與上盤電性連接，用以根據上盤的位置控制上盤的擺動；當擺動偵測模塊偵測到上盤位于擺動檢測位置時，該擺動動力源控制該上盤停止擺動，并定位上盤于一預定停止擺動位置。

根據本發明的第二方面，提出一種研磨裝置。研磨裝置包括下盤、上盤、轉動檢測模塊及轉動動力源。上盤對應設置于下盤的上方。轉動檢測模塊對應上盤設置，以偵測上盤的位置。轉動動力源與下盤電性連接，以根據上盤的位置控制下盤的轉動；當轉動檢測模塊偵測到上盤位于轉動檢測位置時，轉動動力源控制下盤停止轉動，使得上盤對應地停止轉動，并定位于預定停止轉動位置。

根據本發明的第三方面，提出一種研磨裝置。研磨裝置包括下盤、上盤及插銷。上盤對應設置于下盤的上方。上盤具有孔洞，孔洞位于上盤的上部。插銷對應孔洞設置。當上盤上升至一抬起位置，插銷插入孔洞內，以使上盤停止轉動并定位于一取片位置。

根據本發明的第四方面，提出一種研磨裝置。研磨裝置包括下盤、上盤、第一減速檢測模塊及轉動動力源。上盤對應設置于下盤的上方。第一減速檢測模塊對應上盤設置，以偵測上盤的位置。轉動動力源與下盤電性連接，以根據上盤的位置控制下盤的轉動速度。

根據本發明的第五方面，提出一種研磨裝置的定位方法。研磨裝置包括上盤及下盤。定位方法包括：首先，驅動上盤相對于下盤擺動。接著，偵測上盤的位置是否位于一擺動檢測位置。然后，若上盤的位置位于擺動檢測位置，則控制上盤停止擺動，并定位于一預定停止擺動位置。

根據本發明的第六方面，提出一種研磨裝置的定位方法。研磨裝置包括上盤及下盤。定位方法包括：首先，驅動下盤轉動，以使上盤相對于下盤轉動。接著，偵測上盤的位置是否位于一轉動檢測位置。然后，若上盤的位置位于轉動檢測位置，則控制下盤停止轉動，使得上盤對應地停止轉動，并定位于一預定停止轉動位置。