[發明專利]真空濺鍍設備的旋轉靶裝置

無效

• 申請號: 200910160063.2
• 申請日: 2009-07-20
• 公開（公告）號: CN101956169A
• 公開（公告）日: 2011-01-26
• 發明（設計）人: 黃泳釗;鄭博仁;許建志
• 申請（專利權）人: 北儒精密股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京邦信陽專利商標代理有限公司 11012
• 代理人: 王昭林;崔華

1.一種真空濺鍍設備的旋轉靶裝置，是容置在所述真空濺鍍設備的一個腔體中，并包含一個靶管座，以及一個容置在所述靶管座中的磁鐵座；其特征在于：

所述真空濺鍍設備的旋轉靶裝置還包含一個分度盤座，所述分度盤座是可轉動地設置在所述靶管座的一端面處且連結所述磁鐵座，所述磁鐵座是可繞所述靶管座的一中心軸線轉動地容置在所述靶管座中。

2.根據權利要求1所述真空濺鍍設備的旋轉靶裝置，其特征在于：所述靶管座具有一根背管，以及一層覆設在所述背管的一外管面上的靶材。

3.根據權利要求2所述真空濺鍍設備的旋轉靶裝置，其特征在于：所述磁鐵座具有一根環繞所述靶管座的中心軸線且其一端連結所述分度盤座的軸管、一個設置在所述軸管的相反另一端處且圍繞所述軸管的弧形載塊，以及多塊間隔排列在所述載塊遠離所述軸管的一表面上的磁條。

4.根據權利要求3所述真空濺鍍設備的旋轉靶裝置，其特征在于：所述分度盤座具有一個間隔設置在所述靶管座的所述端面處且具有一個內環齒面的固定環板、一個可相對轉動地疊設在所述固定環板面對所述靶管座的一板面上的分度頭，以及一支凸設在所述分度頭的一端面上且卡掣在所述固定環板的內環齒面上的定位銷，所述分度頭是局部延伸設置在所述靶管座中且連接所述磁鐵座的軸管。

5.根據權利要求4所述真空濺鍍設備的旋轉靶裝置，其特征在于：所述分度盤座還具有一個固設在所述固定環板面對所述靶管座的所述板面上且環夾住所述分度頭的一周面的夾持片。

6.根據權利要求5所述真空濺鍍設備的旋轉靶裝置，其特征在于：所述靶管座還具有一個設置在所述背管的一端面上的外固定環塊、一個疊設在所述外固定環塊上且環夾住所述背管的外管面的夾持塊，以及一個同心設置在所述外固定環塊的一內環面上且套設在所述分度頭的周面上的內固定環塊。