[發明專利]光盤記錄介質和制造光盤的方法無效
| 申請號: | 200910159686.8 | 申請日: | 2009-07-31 |
| 公開(公告)號: | CN101640048A | 公開(公告)日: | 2010-02-03 |
| 發明(設計)人: | 大星敏夫;R·塔努普拉約吉;中野淳 | 申請(專利權)人: | 索尼株式會社 |
| 主分類號: | G11B7/24 | 分類號: | G11B7/24;G11B7/26 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 秦 晨 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光盤 記錄 介質 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及光盤記錄介質的結構和制造光盤的方法。
背景技術
近年來,隨著對于普通家庭的個人計算機的日益廣泛的使用、數字地面廣播的介入和日益廣泛的使用、以及高清晰度電視的加速普及,作為一種光信息記錄介質的光盤的記錄密度和容量增加了。已提供有能夠記錄大量信息的光盤記錄介質,例如,壓縮盤(CD)、數字通用盤(DVD)和藍光盤(Blu-ray?disc)(注冊商標)。即使現在,也需要進一步增加記錄密度和容量。
作為高容量光盤記錄介質的藍光盤是具有約12cm的直徑和約1.2mm的厚度的光盤。在這樣的藍光盤中,記錄層是通過在厚度約1.1mm的基片的表面上沿厚度方向層疊金屬薄膜、電介質膜等而形成的,該表面具有凹凸形狀(irregularity)。在該記錄層上設置有厚度約為0.1mm的覆蓋層。這樣的藍光盤具有約25GB(十億字節)的記錄容量。
為了進一步增加容量,已經開發了包括多個記錄層的多層盤。例如,在日本未審專利申請公開No.2003-22586中描述了制造多層藍光盤的方法。一般來說,這樣的盤是通過下述方法制造的。
例如,下面將描述制造包括兩個記錄層的兩層盤的方法。首先,通過在厚度約為1.1mm的樹脂模制基片(盤基片)的表面上形成金屬薄膜或沉積可熱記錄的(thermally?recordable)薄膜材料等,來形成第一記錄層L0,該表面具有由坑和槽構成的凹凸形狀。接著,在基片上的記錄層上形成厚度為幾微米到幾十微米的間隔層,該間隔層將兩個記錄層隔開。接下來,將具有帶由坑和槽構成的凹凸形狀的表面的壓模按壓在間隔層上,使得坑和槽被轉印到間隔層上。接著,通過在被轉印到間隔層上的坑和槽上形成對于記錄/再現激光束的波長具有預定透射率的金屬薄膜或沉積可熱記錄的薄膜材料,來形成第二記錄層L1。然后,在第二記錄層L1上形成保護第二記錄層L1的保護層(覆蓋層)。
在記錄層的數量增加至三或更多的情況下,例如,如日本未審專利申請公開No.2007-257759中所描述的,使用這樣一種方法:其中,在考慮信號的記錄和再現期間的層間串擾時,將形成第二記錄層L1的步驟重復幾次,從而,例如,依次地層疊第三記錄層L2和第四記錄層L3。
在這樣制造的多層藍光盤中,為了減少由于盤傾斜而引起的信號劣化的影響,必需形成在0.1mm的厚度范圍內的疊層記錄層。在上述的兩層盤中,第二記錄層L1通過厚度為幾微米到幾十微米的間隔層形成在第一記錄層L0上,并且,在該第二記錄層L1上形成透光保護層。
此外,在多層藍光盤中,為了確保從基片的最內周向最外周的均質的記錄和讀取,希望設置在第一記錄層L0和第二記錄層L1之間的間隔層具有均質性的、均勻性的光學性質和物理尺寸。也希望在第二記錄層L1的上表面上連續形成的保護層(覆蓋層)具有均質性的、均勻性的光學性質和物理尺寸。同時,需要不昂貴的制造介質的方法。此外,因為這樣的光盤記錄介質的主要預期用途之一是長期存儲,所以期望記錄信息被長時間保留。因此,存在對即使在高溫、高濕環境或在低溫環境下也可以具有良好的記錄特性的多層結構的需求。
如上所述,由透光樹脂層構成的覆蓋層被設置在多個記錄層之一的表面(激光入射表面)上,作為記錄層的保護層。使用了旋涂方法作為向預定區域涂敷透光樹脂的方法。
在旋涂方法中,形成均勻的涂敷膜是一個主要的挑戰,并且已公開了各種技術。例如,日本未審專利申請公開No.8-164355提出這樣一種方法:其中,通過在高速旋轉期間產生均勻的氣流來實現均勻的膜厚度,并且,日本未審專利申請公開Nos.9-173946、2002-153800和2006-95452均提出這樣一種方法:其中,為了改善基片的中央部分的涂敷厚度的非均勻性,通過傾斜旋轉軸,除了離心力以外還使用重力。此外,日本未審專利申請公開No.2008-21353公開這樣一種技術:其中,覆蓋層由通過旋涂形成的第一層和通過旋涂形成的第二層構成,并且使包括兩個層的該覆蓋層的厚度均勻。
發明內容
覆蓋層的厚度的均勻性也是準確記錄和再現信息的一個重要因素。如上所述,就通過旋涂方法形成覆蓋層而言,發明了各種技術,使得可以從最內周到最外周均勻地形成涂敷膜。此外,除了覆蓋層以外,在覆蓋層的表面(激光入射表面側)上設置用于表面保護的厚度約為1至5μm的硬涂層。考慮到盤的用戶在裸盤狀態下進行處理,硬涂層是由提高表面強度的材料構成的保護層。硬涂層也是通過旋涂方法形成的,并且其厚度的均勻性是重要的。
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