[發明專利]光盤記錄介質和制造光盤的方法

無效

• 申請號: 200910159686.8
• 申請日: 2009-07-31
• 公開（公告）號: CN101640048A
• 公開（公告）日: 2010-02-03
• 發明（設計）人: 大星敏夫;R·塔努普拉約吉;中野淳
• 申請（專利權）人: 索尼株式會社
• 主分類號: G11B7/24
• 分類號: G11B7/24;G11B7/26
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 秦 晨

1.一種光盤記錄介質，包括：

盤基片；

至少一個記錄層，設置在盤基片的一個表面側上，所述至少一個記錄層中的每一個記錄層都包括兩個電介質膜、記錄膜和反射膜，所述兩個電介質膜中的一個電介質膜設置在反射膜的激光入射表面側上，所述兩個電介質膜中的另一個電介質膜設置在記錄膜的激光入射表面側上，記錄膜設置在所述一個電介質膜的激光入射表面側上，由一次寫入式相變材料構成，并且被設計為使得在進行讀取時來自所述至少一個記錄層的信號的量都相同；

覆蓋層，設置在所述至少一個記錄層的激光入射表面側上并由透光樹脂層構成；以及

硬涂層，設置在覆蓋層的激光入射表面側上，用于表面保護，并且由透光樹脂層構成，

其中，覆蓋層被形成為使得其厚度從盤的中央部分到周邊部分減小，硬涂層被形成為使得其厚度從盤的中央部分到周邊部分增加，并且，覆蓋層和硬涂層的總厚度從盤的中央部分到周邊部分是基本均勻的。

2.根據權利要求1所述的光盤記錄介質，其中，當所述至少一個記錄層為多個記錄層時，在所述多個記錄層之間形成有間隔層。

3.根據權利要求2所述的光盤記錄介質，其中，覆蓋層被形成為使得其厚度從盤的中央部分到周邊部分以90％或更大的傾斜率減小，該傾斜率被定義為覆蓋層的外周邊部分的厚度相對于中央部分的厚度的百分比。

4.根據權利要求3所述的光盤記錄介質，其中，硬涂層被形成為使得其厚度從盤的中央部分到周邊部分以300％或更小的傾斜率增加，該傾斜率被定義為硬涂層的外周邊部分的厚度相對于中央部分的厚度的百分比。

5.一種制造光盤的方法，包括下述步驟：

模制盤基片；

在盤基片的一個表面側上形成至少一個記錄層，所述至少一個記錄層中的每一個記錄層都包括兩個電介質膜、記錄膜和反射膜，所述兩個電介質膜中的一個電介質膜設置在反射膜的激光入射表面側上，所述兩個電介質膜中的另一個電介質膜設置在記錄膜的激光入射表面側上，記錄膜設置在所述一個電介質膜的激光入射表面側上，由一次寫入式相變材料構成，并且被設計為使得在進行讀取時來自所述至少一個記錄層的信號的量都相同；

在所述至少一個記錄層的激光入射表面側上形成由透光樹脂層構成的覆蓋層，使得該覆蓋層的厚度從盤的中央部分到周邊部分減小；以及

在覆蓋層的激光入射表面側上形成由透光樹脂層構成的用于表面保護的硬涂層，使得該硬涂層的厚度從盤的中央部分向周邊部分增加，并且覆蓋層和硬涂層的總厚度從盤的中央部分到周邊部分是基本均勻的。