[發(fā)明專(zhuān)利]帶電路的懸掛基板及其制造方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910159455.7 | 申請(qǐng)日: | 2009-07-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101620858A | 公開(kāi)(公告)日: | 2010-01-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 內(nèi)藤俊樹(shù);石井淳 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 日東電工株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G11B5/48 | 分類(lèi)號(hào): | G11B5/48;G02B6/028 |
| 代理公司: | 上海專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人: | 張 鑫;胡 燁 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電路 懸掛 及其 制造 方法 | ||
1.一種帶電路的懸掛基板,其特征在于,包括:金屬支承基板;形成于所述金屬支承基板上的基底絕緣層;形成于所述基底絕緣層上的導(dǎo)體圖案;在所述基底絕緣層上覆蓋所述導(dǎo)體圖案而形成的覆蓋絕緣層;以及光波導(dǎo),所述光波導(dǎo)粘接在所述金屬支承基板、所述基底絕緣層或者所述覆蓋絕緣層上。
2.如權(quán)利要求1所述的帶電路的懸掛基板,其特征在于,所述光波導(dǎo)包括:下包層;形成于所述下包層的表面,折射率比所述下包層高的芯層;以及在所述下包層的表面覆蓋所述芯層而形成的,折射率比所述芯層低的上包層,所述下包層或者所述上包層通過(guò)粘接劑層粘接在所述金屬支承基板、所述基底絕緣層或者所述覆蓋絕緣層的上表面。
3.如權(quán)利要求1所述的帶電路的懸掛基板,其特征在于,還包括發(fā)光元件,所述發(fā)光元件與所述光波導(dǎo)進(jìn)行光連接。
4.如權(quán)利要求3所述的帶電路的懸掛基板,其特征在于,還包括用于裝載磁頭滑塊的裝載部,所述光波導(dǎo)沿著所述導(dǎo)體圖案延伸的方向而配置,所述發(fā)光元件配置在所述金屬支承基板的長(zhǎng)度方向一側(cè),所述裝載部配置在所述金屬支承基板的長(zhǎng)度方向另一側(cè)。
5.一種帶電路的懸掛基板的制造方法,其特征在于,包括:準(zhǔn)備金屬支承基板,形成在所述金屬支承基板上形成的基底絕緣層、在所述基底絕緣層上形成的導(dǎo)體圖案、在所述基底絕緣層上覆蓋所述導(dǎo)體圖案而形成的覆蓋絕緣層的工序;準(zhǔn)備光波導(dǎo)的工序;以及將所述光波導(dǎo)粘接在所述金屬支承基板、所述基底絕緣層或者所述覆蓋絕緣層上的工序。
6.如權(quán)利要求5所述的帶電路的懸掛基板的制造方法,其特征在于,所述光波導(dǎo)包括:下包層;形成于所述下包層的表面,折射率比所述下包層高的芯層;在所述下包層的表面覆蓋所述芯層而形成的,折射率比所述芯層低的上包層,在粘接所述光波導(dǎo)的工序中,將所述下包層或者所述上包層通過(guò)粘接劑層粘接在所述金屬支承基板、所述基底絕緣層或者所述覆蓋絕緣層的上表面。
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