[發(fā)明專利]掩模及其制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910158968.6
• 申請(qǐng)日: 2009-07-13
• 公開（公告）號(hào): CN101639625A
• 公開（公告）日: 2010-02-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金鍾斗
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東部高科股份有限公司
• 主分類號(hào): G03F1/14
• 分類號(hào): G03F1/14;G03F1/08
• 代理公司: 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 李丙林;張 英

1.一種掩模，包括：

主圖樣，形成于光刻版襯底上方；

多個(gè)虛擬圖樣，形成于所述光刻版襯底上方并且以預(yù)定的距離與所述主圖樣隔離開；以及

光屏蔽層，形成于所述多個(gè)虛擬圖樣中的至少一個(gè)的上方。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模，其中，所述主圖樣和所述虛擬圖樣由相同的材料組成。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模，其中，所述主圖樣和所述虛擬圖樣由硅化鉬(MoSi)、氧化鉻(Cr₂O₃)和氮化鉻(CrN)中的一種組成。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模，其中，所述主圖樣和所述虛擬圖樣由硅化鉬(MoSi)、氧化鉻(Cr₂O₃)和氮化鉻(CrN)中的一種組成，而所述光屏蔽層由鉻(Cr)組成。

5.一種掩模，包括：

主圖樣，形成于光刻版襯底上方；

多個(gè)第一虛擬圖樣，形成于所述光刻版襯底上方，所述多個(gè)第一虛擬圖樣鄰近所述主圖樣的第一側(cè)并在與所述主圖樣基本上平行的方向上對(duì)齊排列，且與所述主圖樣隔離開；

多個(gè)第二虛擬圖樣，形成于所述光刻版襯底上方，所述多個(gè)第二虛擬圖樣鄰近所述主圖樣的第二側(cè)并在與所述主圖樣基本上平行的方向上對(duì)齊排列，且與所述主圖樣隔離開；以及

多個(gè)第三虛擬圖樣，形成于所述光刻版襯底上方，并在位于所述主圖樣和所述多個(gè)第一虛擬圖樣之間的間隔中以及在位于所述主圖樣和所述多個(gè)第二虛擬圖樣之間的間隔中對(duì)齊排列，

其中，所述多個(gè)第三虛擬圖樣具有的分辨率等于或小于極限分辨率。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩模，其中，所述多個(gè)第三虛擬圖樣的總體尺寸小于所述多個(gè)第一和第二虛擬圖樣的總體尺寸。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩模，其中，所述多個(gè)第三虛擬圖樣被布置為第一個(gè)兩排和第二個(gè)兩排，所述第一個(gè)兩排在位于所述主圖樣和所述多個(gè)第一虛擬圖樣之間的間隔中相互平行延伸，所述第二個(gè)兩排在位于所述主圖樣和所述多個(gè)第二虛擬圖樣之間的間隔中相互平行延伸。

8.一種制造掩模的方法，包括：

在光刻版襯底上方形成主圖樣和多個(gè)虛擬圖樣，且所述多個(gè)虛擬圖樣與所述主圖樣隔離開；以及然后

在所述多個(gè)虛擬圖樣中的至少一個(gè)上方形成光屏蔽層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，形成所述主圖樣和所述多個(gè)虛擬圖樣包括：

順序地在所述光刻版襯底上方形成第一金屬層以及在所述第一金屬層上方形成第二金屬層；

在所述第二金屬層上方形成第一光刻膠圖樣；以及然后

使用所述第一光刻膠圖樣作為刻蝕掩模在所述第一金屬層和所述第二金屬層上實(shí)施刻蝕工藝。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，形成所述光屏蔽層包括：

在實(shí)施所述刻蝕工藝之后去除所述第一光刻膠圖樣；

在所述光刻版襯底上方形成第二光刻膠圖樣，所述第二光刻膠圖樣暴露位于所述主圖樣和所述多個(gè)虛擬圖樣上方的所述第二金屬層；以及然后

使用所述第二光刻膠圖樣作為刻蝕掩模，在所述第二金屬層上實(shí)施第二刻蝕工藝。