[發明專利]高透可鋼化低輻射鍍膜玻璃及其制造方法

有效

• 申請號: 200910156663.1
• 申請日: 2009-12-31
• 公開（公告）號: CN101767939A
• 公開（公告）日: 2010-07-07
• 發明（設計）人: 李文君
• 申請（專利權）人: 浙江東亞工程玻璃有限公司;李文君
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36;C03C4/08
• 代理公司: 紹興市越興專利事務所 33220
• 代理人: 張謙

技術領域

本發明涉及高透低輻射玻璃，尤其是一種后續熱處理效果好的高 透可鋼化低輻射鍍膜玻璃及其制造方法。

背景技術

住宅節能中空玻璃更多的是采用高透玻璃，而高透可鋼化低輻射 鍍膜玻璃，在近幾年的推廣使用中，一直存在諸多問題：

1、玻璃鋼化后顏色不穩定，使玻璃在后續加工中、在使用中存 在較大的質量風險。

2、鋼化后產品顏色混濁，可視效果差，影響了產品的推廣使用。

3、鋼化前、鋼化后外觀缺陷多，如脫膜、膜層易氧化等，使產 品在后續使用中，造成大量的廢品，給使用者和生產者帶來較大的經 濟損失，并影響了公司聲譽。

4、玻璃鋼化后輻射率升高超過0.15，超過國家標準，節能效果 不理想等問題。

由于以上問題的存在，使高透可鋼化低輻射鍍膜玻璃推廣遇到了 較大的障礙，很多客戶使用一次后，不敢繼續推廣使用。國外產品乘 機占領了市場。國內鍍膜玻璃公司只有解決了高透可鋼化低輻射存在 的以上問題，才能更好地促進住宅節能低輻射玻璃的推廣，更好地占 領市場，更好地為客戶、社會創造更好的效益。

發明內容

本發明針對上述現有高透可鋼化低輻射鍍膜玻璃的不足，提供一 種耐熱性能更好的高透可鋼化低輻射鍍膜玻璃及其制造方法，該玻璃 可在680℃～710℃之間的溫度條件下進行鋼化，且鋼化后膜層牢固， 顏色穩定，產品厚度從以前的不超過8mm，提高到12mm。

為了實現上述目的，本發明所采用的技術方案為：

一種高透可鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板 向外依次鍍制有抗反射膜層、耐高溫阻燃膜層、金屬隔離膜層、低輻 射功能膜層、金屬隔離膜層、抗反射膜層、耐高溫阻燃膜層、保護層。

一種高透可鋼化低輻射鍍膜玻璃的制造方法，包括玻璃基板的清 洗、烘干、鍍膜、包裝，所述鍍膜工藝采用真空磁控濺射方式，在真 空度為5×10^-6mbar以下的環境內，按以下次序自玻璃基板向外依次 鍍制，

(1)、在玻璃基板上鍍制抗反射膜層：利用旋轉陰極，在中頻電源的 控制下，ZnSn靶在氧氣氛下濺射沉積，功率為60Kw，沉積膜層厚度 為55～60nm。所制得的抗反射膜層為氧化鋅錫(ZnSnOx)。

(2)、鍍制耐高溫阻燃膜層：利用旋轉陰極，在中頻電源的控制下， Sb靶在氧氣氛下濺射沉積，功率為60Kw，沉積膜層厚度為45～50nm。 所制得的耐高溫阻燃膜層為氧化銻(SbOx)。

(3)、鍍制金屬隔離膜層：利用平面陰極，在直流電源的控制下，NiCr 靶在氬氧氣氛中，其中氧氣比重為5％，濺射沉積，功率為5Kw，沉 積膜層厚度為4～5nm。所制得的金屬隔離膜層為鎳鉻合金(NiCrOx)。

(4)、鍍制低輻射功能膜層：利用平面陰極，在直流電源的控制下， Ag靶在氬氣氛中，濺射沉積，功率為4Kw，沉積膜層厚度為8nm。所 制得的低輻射功能膜層為金屬銀(Ag)。

(5)、鍍制金屬隔離膜層：利用平面陰極，在直流電源的控制下，NiCr 靶在氬氧氣氛中，其中氧氣比重為5％，濺射沉積，功率為5Kw，沉 積膜層厚度為5～6nm。所制得的金屬隔離膜層為鎳鉻合金(NiCrOx)。

(6)、鍍制抗反射膜層：利用旋轉陰極，在中頻電源的控制下，ZnSn 靶在氧氣氛下濺射沉積，功率為60Kw，沉積膜層厚度為55～60nm。 所制得的抗反射膜層為氧化鋅錫(ZnSnOx)。

(7)、鍍制耐高溫阻燃膜層：利用旋轉陰極，在中頻電源的控制下， Sb靶在氧氣氛下濺射沉積，功率為60Kw，沉積膜層厚度為45～50nm。 所制得的耐高溫阻燃膜層為氧化銻(SbOx)。

(8)、鍍制保護層，利用旋轉陰極，在中頻電源的控制下，Si靶在氧 氣氛下濺射沉積，功率為60Kw，沉積膜層厚度為35～40nm。所制得 的保護層為氧化硅(SiOx)。

本發明高透可鋼化低輻射鍍膜玻璃的制造方法，其鍍膜工藝采用 真空磁控濺射方式，在真空度為5×10^-6mbar以下的環境內，利用高 壓電離工藝氣體，轟擊靶材表面，獲得的靶材離子沉積在玻璃表面上， 膜層厚度通常在幾納米～幾十納米范圍內。

本發明設計原理如下：