[發明專利]高透可鋼化低輻射鍍膜玻璃及其制造方法

有效

• 申請號: 200910156663.1
• 申請日: 2009-12-31
• 公開（公告）號: CN101767939A
• 公開（公告）日: 2010-07-07
• 發明（設計）人: 李文君
• 申請（專利權）人: 浙江東亞工程玻璃有限公司;李文君
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36;C03C4/08
• 代理公司: 紹興市越興專利事務所 33220
• 代理人: 張謙

1.一種高透可鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板，其特征在于： 所述玻璃基板向外依次鍍制有抗反射膜層、耐高溫阻燃膜層、金屬隔 離膜層、低輻射功能膜層、金屬隔離膜層、抗反射膜層、耐高溫阻燃 膜層、保護層；按次序自玻璃基板向外依次鍍制：抗反射膜層為氧化 鋅錫ZnSnOx，且膜層厚度為55～60nm；耐高溫阻燃膜層為氧化銻 SbOx，且膜層厚度為45～50nm；位于耐高溫阻燃膜層與低輻射功能 膜層之間的金屬隔離膜層為鎳鉻合金NiCrOx，且膜層厚度為4～5nm； 低輻射功能膜層為金屬銀Ag，且膜層厚度為8nm；位于低輻射功能膜 層與抗反射膜層之間的金屬隔離膜層為鎳鉻合金NiCrOx，且膜層厚度 為5～6nm；抗反射膜層為氧化鋅錫ZnSnOx，且膜層厚度為55～60nm； 耐高溫阻燃膜層為氧化銻SbOx，且膜層厚度為45～50nm；保護層為 氧化硅SiOx，且膜層厚度為35～40nm。

2.一種如權利要求1所述高透可鋼化低輻射鍍膜玻璃的制造方 法，包括玻璃基板的清洗、烘干、鍍膜、包裝，其特征在于：所述鍍 膜工藝采用真空磁控濺射方式，在真空度為5×10^-6mbar以下的環境 內，按以下次序自玻璃基板向外依次鍍制，

(1)、在玻璃基板上鍍制抗反射膜層：利用旋轉陰極，在中頻電源的 控制下，ZnSn靶在氧氣氛下濺射沉積，功率為60Kw，沉積膜層厚度 為55～60nm；所制得的抗反射膜層為氧化鋅錫ZnSnOx；

(2)、鍍制耐高溫阻燃膜層：利用旋轉陰極，在中頻電源的控制下， Sb靶在氧氣氛下濺射沉積，功率為60Kw，沉積膜層厚度為45～50nm； 所制得的耐高溫阻燃膜層為氧化銻SbOx；

(3)、鍍制金屬隔離膜層：利用平面陰極，在直流電源的控制下，NiCr 靶在氬氧氣氛中，其中氧氣比重為5％，濺射沉積，功率為5Kw，沉 積膜層厚度為4～5nm；所制得的金屬隔離膜層為鎳鉻合金NiCrOx；

(4)、鍍制低輻射功能膜層：利用平面陰極，在直流電源的控制下， Ag靶在氬氣氛中，濺射沉積，功率為4Kw，沉積膜層厚度為8nm；所 制得的低輻射功能膜層為金屬銀Ag；

(5)、鍍制金屬隔離膜層：利用平面陰極，在直流電源的控制下，NiCr 靶在氬氧氣氛中，其中氧氣比重為5％，濺射沉積，功率為5Kw，沉 積膜層厚度為5～6nm；所制得的金屬隔離膜層為鎳鉻合金NiCrOx；

(6)、鍍制抗反射膜層：利用旋轉陰極，在中頻電源的控制下，ZnSn 靶在氧氣氛下濺射沉積，功率為60Kw，沉積膜層厚度為55～60nm； 所制得的抗反射膜層為氧化鋅錫ZnSnOx；

(7)、鍍制耐高溫阻燃膜層：利用旋轉陰極，在中頻電源的控制下， Sb靶在氧氣氛下濺射沉積，功率為60Kw，沉積膜層厚度為45～50nm； 所制得的耐高溫阻燃膜層為氧化銻SbOx；

(8)、鍍制保護層，利用旋轉陰極，在中頻電源的控制下，Si靶在氧 氣氛下濺射沉積，功率為60Kw，沉積膜層厚度為35～40nm；所制得 的保護層為氧化硅SiOx。