[發明專利]電泳顯示設備及其制造方法有效
| 申請號: | 200910151781.3 | 申請日: | 2009-07-15 |
| 公開(公告)號: | CN101762925A | 公開(公告)日: | 2010-06-30 |
| 發明(設計)人: | 李裁求;樸宰秀 | 申請(專利權)人: | 樂金顯示有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/167 | 分類號: | G02F1/167 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 黃綸偉 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電泳 顯示 設備 及其 制造 方法 | ||
技術領域
本公開涉及一種電泳顯示(EPD)設備及其制造方法,更具體地, 涉及一種適用于防止密封劑進入非有源區的電泳顯示設備及其制造方 法。
背景技術
本申請要求2008年12月23日提交的韓國專利申請No. 10-2008-132730的優先權,此處以引證的方式并入其全部內容。
總體而言,電泳顯示(EPD)設備是一種反射型顯示設備,其能夠 利用電泳現象重復地寫入和擦除圖像和字母。換句話說,EPD使分散在 流體物質中的帶電顆粒按照施加的電場來移動,以顯示圖像或字母。
EPD可被制造得很輕薄,并通常在例如紙張的彎曲狀態下仍保持顯 示屬性。另外,與紙張相比,EPD提供優良的視覺效果和便攜性。考慮 到這些因素,作為紙張的替代的介質,EPD已經受到逐年增長的重視, 而且已被積極地開發為一種柔性顯示設備。
圖1A是示出根據相關技術的EPD的截面圖。參照圖1A,相關技術 的EPD包括具有下電極(未示出)的下基板10、具有上電極(未示出) 的上基板12、以及夾在上和下基板12和10之間的電泳膜14。電泳膜14 包括被在上、下電極之間感應的垂直電場所驅動的電泳懸浮顆粒。上、 下基板12、10可以是柔性板型的基礎基板。
EPD還包括夾在上、下基板12、10之間的密封劑16。形成密封劑 16以防止濕氣侵入EPD。密封劑16通過這樣的工序來形成,即,該工 序利用圖1B所示的分配器18在下基板10上分配流體密封劑,并使流體 密封劑16a由于電泳膜14和上基板12之間的張力而沿方向D1流動。
然而,在柔性下基板10上分配的流體密封劑16a可能不僅沿著正方 向D1,而且可能沿著負方向D2流動。沿著負方向D2流動的流體密封 劑16a可到達超出密封劑形成區的不同區域,例如包括驅動電路加載區 的非有源區。在此情況下,流體密封劑16a造成要形成或安裝在驅動電 路加載區上的驅動電路的故障或損壞。
為了解決驅動電路的故障或損壞,提出了一種向面板的邊緣轉移 (shift)驅動電路的方法。驅動電路的轉移迫使面板被擴大。由于密封劑 形成在不必要的區域,所以密封劑的量也增加。
發明內容
因此,本實施方式涉及一種EPD及其制造方法,其能夠基本上克服 因相關技術的局限和缺點帶來的一個或更多個問題。
本實施方式的目的是提供一種能夠防止分配的流體密封劑向非有源 區移動的EPD及其制造方法。
實施方式的附加特征和優點將在下面的描述中描述且將從描述中部 分地顯現,或者可以通過實施方式的實踐來了解。通過書面的說明書及 其權利要求以及附圖中特別指出的結構可以實現和獲得實施方式的優 點。
根據本實施方式的一個總的方面,一種電泳顯示設備包括:第一基 板,其包括有源區、密封劑形成區以及非有源區;形成在所述有源區中 的薄膜晶體管陣列;與所述第一基板相對的第二基板;位于所述第一基 板和第二基板之間的電泳膜;形成在所述密封劑形成區中的密封劑;形 成在所述密封劑形成區中的密封劑阻擋塊,其中所述密封劑阻擋塊包括 至少兩個壩狀物以及壩狀物之間的溝。
密封劑形成區設置在有源區和非有源區之間的邊界部分中,并且流 體密封劑被分配在與有源區鄰近的密封劑形成區上。
密封劑阻擋塊形成在與非有源區鄰近的密封劑形成區上。
根據本實施方式的另一方面的一種EPD的制造方法包括以下步驟: 制備第一基板以及第二基板,其中所述第一基板包括有源區、密封劑形 成區和非有源區;在所述第一基板的所述有源區中形成柵極和選通線; 在所述第一基板的包括所述密封劑形成區和所述有源區的一部分上形成 柵絕緣膜;在所述柵絕緣膜上形成半導體圖案和源極/漏極;在具有所述 源極/漏極和所述密封劑形成區的所述第一基板上形成鈍化膜;形成與所 述漏極相連的像素電極;在所述第一基板和第二基板之間形成電泳膜; 以及在所述密封劑形成區中分配密封劑,其中對所述密封劑形成區中的 所述柵絕緣膜和鈍化膜被進行構圖以提供至少兩個壩狀物以及壩狀物之 間的溝。
第一和第二壩狀物設置在鈍化膜和柵絕緣膜的構圖步驟之后鈍化膜 和柵絕緣膜被保留的區域上,而所述溝設置在鈍化膜和柵絕緣膜的構圖 步驟之后鈍化膜和柵絕緣膜被去除的區域上。
第一和第二壩狀物以柵絕緣膜和鈍化膜的堆疊層來形成。
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