[發(fā)明專利]基板自動傳送系統(tǒng)和方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910149167.3 | 申請日: | 2009-06-10 |
| 公開(公告)號: | CN101794076A | 公開(公告)日: | 2010-08-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 萊昂內(nèi)爾·弗爾伍德;格瑞格·巴克斯特;約韓·H·哈特;拉賈·D·辛格 | 申請(專利權(quán))人: | 王氏港建經(jīng)銷有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;H05K3/00 |
| 代理公司: | 珠海智專專利商標代理有限公司 44262 | 代理人: | 段淑華 |
| 地址: | 中國*** | 國省代碼: | 中國香港;81 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 自動 傳送 系統(tǒng) 方法 | ||
1.基板自動傳送系統(tǒng),包括:
一個第一工作臺,其上表面設(shè)有允許氣流形成氣膜以承載基 板的多個孔;
一個翻轉(zhuǎn)模塊,其被配置為從所述第一工作臺接收所述基板 并旋轉(zhuǎn)從而翻轉(zhuǎn)所述基板,該模塊具有一上內(nèi)表面和一下內(nèi)表 面,其中所述上、下內(nèi)表面均設(shè)有用于形成氣膜以承載所述基板 的多個孔,該模塊還包括用于在所述模塊翻轉(zhuǎn)時對所述基板進行 限位的限位件;
一個第二工作臺,用于從所述翻轉(zhuǎn)模塊接收所述基板,所述 第二工作臺的上表面設(shè)有允許氣流形成氣膜以承載基板的多個 孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板自動傳送系統(tǒng),其特征在于, 還包括一個將所述第一工作臺提升到曝光位置的第一工作臺提升 裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板自動傳送系統(tǒng),其特征在于, 還包括一個將所述第二工作臺提升到曝光位置的第二工作臺提升 裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板自動傳送系統(tǒng),其特征在于, 進一步包括一個用于裝載光刻原圖并使之與所述基板對準的第一 原圖裝載和對準系統(tǒng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板自動傳送系統(tǒng),其特征在于, 進一步包括一個用于裝載光刻原圖并使之與所述基板對準的第二 原圖裝載和對準系統(tǒng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板自動傳送系統(tǒng),其特征在于, 進一步包括一個用于給所述第一工作臺施加一真空以使所述基板 和所述原圖緊貼以待曝光的第一真空系統(tǒng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板自動傳送系統(tǒng),其特征在于, 進一步包括一個用于給所述第二工作臺施加一真空以使所述基板 和所述原圖緊貼以待曝光的第二真空系統(tǒng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板自動傳送系統(tǒng),其特征在于, 進一步包括一個用于向所述基板提供紫外線的第一紫外燈曝光系 統(tǒng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板自動傳送系統(tǒng),其特征在于, 進一步包括一個用于向所述基板提供紫外線的第二紫外燈曝光系 統(tǒng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板自動傳送系統(tǒng),其特征在 于,進一步包括一個用于將基板傳遞到所述第一工作臺的入料 輥。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基板自動傳送系統(tǒng),其特征在 于,進一步包括一個用于將基板從所述第二工作臺送出系統(tǒng)的出 料輥。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基板自動傳送系統(tǒng),其特征在 于,所述入料輥包括至少一個止位件和兩個及其以上的限位件, 所述止位件和限位件用于對齊待被所述第一工作臺處理的基板。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板自動傳送系統(tǒng),其特征在 于,所述第一和第二工作臺均包括兩個及其以上的用于對齊基板 的可縮回的限位件。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板自動傳送系統(tǒng),其特征在 于,所述第一和第二工作臺在初始位置沿基板的前進方向向下傾 斜5度。
15.基板自動傳送系統(tǒng),包括:
一個第一工作臺,其包括一用于產(chǎn)生氣膜以承載基板的氣膜 系統(tǒng);
一個翻轉(zhuǎn)模塊,其被配置為從所述第一工作臺接收所述基板 并所述基板翻轉(zhuǎn)180度,該模塊包括一用于在所述基板兩面形成 氣膜以承載所述基板的氣膜系統(tǒng),該模塊還包括用于在所述模塊 翻轉(zhuǎn)時對所述基板進行限位的限位件;
一個第二工作臺,其包括一用于產(chǎn)生氣膜以承載所述基板的 氣膜系統(tǒng);
其中,被所述第一工作臺、翻轉(zhuǎn)模塊和所述第二工作臺處理 的所述基板在該系統(tǒng)內(nèi)在氣膜上被傳送。
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