[發(fā)明專利]半導體晶粒的接合方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910149028.0 | 申請日: | 2009-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN101740414A | 公開(公告)日: | 2010-06-16 |
| 發(fā)明(設計)人: | 余振華;邱文智;吳文進 | 申請(專利權)人: | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/50 | 分類號: | H01L21/50;H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識產(chǎn)權代理有限責任公司 11019 | 代理人: | 壽寧;張華輝 |
| 地址: | 中國臺灣新竹市*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 晶粒 接合 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及一種集成電路工藝,特別是涉及一種半導體晶粒的接合方法。
背景技術
隨著半導體技術的發(fā)展,半導體晶粒變得越來越小。然而,需要將更多的功能整合至半導體晶粒。因此,半導體晶粒需要在更小的范圍內(nèi)封裝更多的輸入輸出焊墊(I/O?pads),使得輸入輸出焊墊在晶圓上分布的密度快速地增加。于是,半導體晶粒的封裝變得更加困難,也使得半導體晶粒的良率受到不好的影響。
封裝技術可以分為兩個種類。一種典型上是指晶圓級封裝(wafer?levelpackage,WLP),其中晶圓上的晶粒在切割前便已經(jīng)完成封裝。晶圓級封裝有其優(yōu)點,例如較高的產(chǎn)量以及較低的成本花費。此外,所需要的底填充物以及封膜化合物也比較少。然而,晶圓級封裝亦有其缺點。如前面所提及,晶粒的尺寸變得越來越小,而傳統(tǒng)的晶圓級封裝僅能為扇入型封裝(fan-in?type?package),因此每個晶粒的輸入輸出焊墊直接地被每個晶粒的大小所限制。由于晶粒大小的限制,輸入輸出焊墊的數(shù)量被輸入輸出焊墊限定的間距所限制。如果將輸入輸出焊墊的間距減小,以在一個晶粒上加入更多的輸入輸出焊墊,也許會發(fā)生橋接(solder?bridge)的狀況。此外,在固定球的尺寸的限制之下,錫球一定要有固定的大小,亦即限制被封裝到晶粒表面的錫球數(shù)量。
在另一種封裝技術中,晶粒在被封裝至另一晶圓之前,便已經(jīng)從晶圓上被切割下來,其中只有已知是好的晶片才會被封裝。本封裝技術的優(yōu)點在于可以形成扇出形封裝(fan-out?type?package),亦即晶粒上的輸入輸出焊墊被重新分配在一個大于晶粒面積的區(qū)域,因此能夠增加封裝在晶粒表面的輸入輸出焊墊的數(shù)量。
請參閱圖1所示,晶粒對晶圓的接合包含介電質(zhì)對介電質(zhì)接合(dielectric-to-dielectric?bonding),亦被稱為熔合接合(fusionbonding),以及銅銅接合(copper-to-copper?bonding)。圖1繪示介電質(zhì)對介電質(zhì)接合,頂晶粒100接合至底晶粒200之上,其中底晶粒200可以是晶圓的一部份。頂晶粒100中的介電質(zhì)層102接合至底晶粒200的介電質(zhì)層202。頂晶粒100和底晶粒200有厚度變化,當頂晶粒100接合至底晶粒200之上時,頂晶粒100的一端可能被施加比起其他端較大的力量,因此被施加較小力量的一端可能沒有適當?shù)亟雍稀?/p>
請參閱圖2所示,同樣的狀況亦可能發(fā)生于銅銅接合。頂晶粒300經(jīng)由焊墊304及404之間的接合以接合至底晶粒400,其中焊墊304及404可能直接接觸,或是經(jīng)由一層非常薄的焊料接合。因為集成電路體積的縮減,介電質(zhì)層302與介電質(zhì)層402之間的間距G(gap)變得越來越小,而表面的總厚度變化(total?thickness?variation,TTV)變得越來越大,這使得施加接合力其均勻度的要求變得更為嚴格。當頂晶粒300接合至底晶粒400之上時,總厚度變化可能使得頂晶粒300與底晶粒400的一端變得較其他端為厚。因此,頂晶粒300的一端可能被施加較其他端為大的力量,使得被施加較小力量的一端可能沒有適當?shù)亟雍稀?!-- SIPO
傳統(tǒng)上,以上所提及的問題在頂晶粒接合至底晶圓之后,由執(zhí)行接觸后整平來解決。然而,這會導致額外的執(zhí)行步驟以及較長的執(zhí)行時間,使得產(chǎn)量下降。因此,本技術需要一個擁有較高產(chǎn)量的接合系統(tǒng)和方法。
由此可見,上述現(xiàn)有的接合方法在方法與使用上,顯然仍存在有不便與缺陷,而亟待加以進一步改進。為了解決上述存在的問題,相關廠商莫不費盡心思來謀求解決之道,但長久以來一直未見適用的設計被發(fā)展完成,而一般產(chǎn)品又沒有適切結(jié)構(gòu)能夠解決上述問題,此顯然是相關業(yè)者急欲解決的問題。因此如何能創(chuàng)設一種新型的半導體晶粒的接合方法,實屬當前重要研發(fā)課題之一,亦成為當前業(yè)界極需改進的目標。
有鑒于上述現(xiàn)有的接合方法存在的缺陷,本發(fā)明人基于從事此類產(chǎn)品設計制造多年豐富的實務經(jīng)驗及專業(yè)知識,并配合學理的運用,積極加以研究創(chuàng)新,以期創(chuàng)設一種新型的半導體晶粒的接合方法,能夠改進一般現(xiàn)有的接合方法,使其更具有實用性。經(jīng)過不斷的研究、設計,并經(jīng)過反復試作樣品及改進后,終于創(chuàng)設出確具實用價值的本發(fā)明。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于,克服現(xiàn)有的接合方法存在的缺陷,而提供一種新型的半導體晶粒的接合方法,所要解決的技術問題是使其將晶粒接合至晶?;蚓A上時,有較大的產(chǎn)量以及更增進的可信賴度,非常適于實用。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





