[發(fā)明專利]線路組件制作方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910145302.7 | 申請(qǐng)日: | 2006-05-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101572244A | 公開(公告)日: | 2009-11-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林茂雄;周健康;劉益誠(chéng);周秋明;李進(jìn)源;李文杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 米輯電子股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/77 | 分類號(hào): | H01L21/77;H01L23/58 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人: | 邱 軍 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣新竹*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 線路 組件 制作方法 | ||
本申請(qǐng)是申請(qǐng)日為2006年5月18日且發(fā)明名稱為“一種線路元件的制作方法”的中國(guó)專利申請(qǐng)No.200610080846.6的分案申請(qǐng)。?
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種具有無源元件的芯片及其制作方法,且特別涉及一種相互感應(yīng)的雙線圈的芯片及其制作方法。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體技術(shù)持續(xù)所追求的目標(biāo)是能夠在具有競(jìng)爭(zhēng)性的價(jià)格下制造出高效能的半導(dǎo)體元件。隨著半導(dǎo)體制造工藝及材料的研發(fā),再配合新型且精致的元件設(shè)計(jì),如此半導(dǎo)體元件的尺寸可以大幅縮小。大部分的半導(dǎo)體元件用來處理數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù),然而也有部分的半導(dǎo)體元件集成有模擬的功能,如此半導(dǎo)體元件便可以同時(shí)處理數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)及模擬數(shù)據(jù),或者半導(dǎo)體元件亦可以僅具有模擬的功能。制造模擬電路的主要困難點(diǎn)之一是在于許多用于模擬電路的電子元件甚大,難以與次微米極的電子元件集成,尤其是針對(duì)無源元件而言,此乃因?yàn)闊o源元件的尺寸過于龐大。
美國(guó)專利公告第5,212,403號(hào)(Nakanishi)公開一種形成線路連線的方法,其中內(nèi)部及外部之線路連線形成在位于芯片上的線路基底內(nèi),并且邏輯線路的設(shè)計(jì)會(huì)取決于線路連線的長(zhǎng)度。
美國(guó)專利公告第5,501,006號(hào)(Gehman,Jr.et?al.)公開一種集成電路與線路基底之間具有絕緣層的結(jié)構(gòu),而借由分散出去的引腳可以是芯片的接點(diǎn)與基板的接點(diǎn)電性連接。
美國(guó)專利公告第5,055,907號(hào)(Jacobs)公開一種集成型半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),可以允許制造商將一薄膜多層線路形成在支撐基板上或芯片上,借以集成位于芯片外的電路。
美國(guó)專利公告第5,106,461號(hào)(Volfson?et?al.)公開一種多層連線結(jié)構(gòu),其借由TAB結(jié)構(gòu)并利用聚酰亞胺(polyimide)的介電層及金屬層交互疊合于芯?片上而成。
美國(guó)專利公告第5,635,767號(hào)(Wenzel?et?al.)公開一種在PBGA結(jié)構(gòu)中降低電阻電容遲緩效應(yīng)的方法,其中多層金屬層分開配置。
美國(guó)專利公告第5,686,764號(hào)(Fulcher)公開一種倒裝片基板,借由將電源線與輸入輸出引線分開配置,可以降低電阻電容遲緩效應(yīng)。
美國(guó)專利公告第6,008,102號(hào)(Alford?et?al.)公開一種利用兩層金屬層所形成的螺旋狀電感元件,其中此兩層金屬層可以利用導(dǎo)通孔連接。
美國(guó)專利公告第5,372,967號(hào)(Sundaram?et?al.)公開一種螺旋狀電感元件。
美國(guó)專利公告第5,576,680號(hào)(Ling)及第5,884,990號(hào)(Burghartz?et?al.)公開一種其他形式的螺旋狀電感元件。
美國(guó)專利公告第6,383,916號(hào)公開一種芯片結(jié)構(gòu)具有重配置線路層及金屬連線層,配置在介電層上,其中介電層位于傳統(tǒng)芯片的保護(hù)層上。保護(hù)層位于集成電路上,而厚的聚合物層選擇性地配置在保護(hù)層上,寬的或厚的金屬連線位于保護(hù)層上。
美國(guó)專利公告第6,303,423號(hào)公開一種形成具有高感應(yīng)系數(shù)的電感元件于芯片的保護(hù)層上的結(jié)構(gòu)。此種具有高感應(yīng)系數(shù)的電感元件可以應(yīng)用在高頻電路中,并且可以減少電能的損耗。在此案中,還公開電容元件及電阻元件,可以形成在硅基底的表面上,借以減少位于硅基底下的電子元件所引發(fā)出的寄生效應(yīng)。
美國(guó)專利公告第6,869,870號(hào)(Lin)公開一種變壓器形成在晶片的保護(hù)層上。
發(fā)明內(nèi)容
因此本發(fā)明目的之一就是提供一種在保護(hù)層上具有線圈元件的半導(dǎo)體芯片,其中頂層線圈可以承受高電壓高電流,且控制頂層線圈的電流變化可以感應(yīng)底層線圈。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于米輯電子股份有限公司,未經(jīng)米輯電子股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910145302.7/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





