[發明專利]物鏡、光拾取裝置、光記錄/再生裝置

無效

• 申請號: 200910141265.2
• 申請日: 2009-05-14
• 公開（公告）號: CN101581825A
• 公開（公告）日: 2009-11-18
• 發明（設計）人: 勝間敏明;森將生;小里哲也;北原有
• 申請（專利權）人: 富士能株式會社
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G11B7/135
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 李貴亮

技術領域

本發明涉及一種物鏡、光拾取裝置及光記錄/再生裝置，詳細地說，涉及將從光源射出的光會聚在光記錄介質上而進行信息的記錄及再生的至少一方的光拾取裝置用物鏡、具備該物鏡的光拾取裝置、及搭載該光拾取裝置的光記錄/再生裝置。?

背景技術

過去，為了記錄聲音信息或影像信息、或者計算機用數據信息等，利用DVD(數字視頻光盤)或CD(Compact?Disc)等光記錄介質，但隨著處理的信息量的急速增加，對光記錄介質的高密度化的要求提高。為了光記錄介質的高密度化，已知縮短使用光的波長、以及增大光拾取裝置所使用的拾取用物鏡的數值孔徑(開口數)(以下，稱為NA)較為有效。在近幾年，以輸出波長為約405nm的半導體激光器作為光源，通過使用NA為0.7以上的物鏡，從而可在單面1層記錄約25GB的信息的BD(藍光光盤)已經達到實用化。該BD的NA及光記錄介質的保護層厚度的標準與上述的DVD及CD的標準完全不同，NA為0.85、保護層的厚度為0.1mm，被作為當前的標準。?

今后，必定要求更進一步的高密度化，但認為通過促進短波長化難以滿足該要求。這是出于如下理由：因為透鏡材料的光透射率在波長比350nm短的區域急速下降，因此實用上得不到充分的光利用效率。因此，用于謀求更高密度的剩下的對策是進一步增大物鏡的NA。?

設計高數值孔徑(以下，稱為高NA)的拾取用物鏡時，為了解決在組裝時的工序數增大、生產效率的惡化、進而成本上升的問題，采用單透鏡的結構有利。作為由高NA單透鏡構成的拾取用物鏡，公知的有例如在下述專利文獻1、2所記載的物鏡。?

專利文獻1：日本專利公開2001-324673號公報?

專利文獻2：日本專利公開2003-337281號公報?

然而，在高NA的拾取用物鏡中，難以仍維持系統的緊湊化而確保可防止與光記錄介質的沖突的工作距離(焦點距離：WD)，專利文獻1的物鏡在這一點上有改進的余地。而且，對于拾取用物鏡也強烈要求能夠保持與三束式的跟蹤控制充分對應的程度的良好的軸外性能。而且，在焦點(フォ一カス)及跟蹤的控制中，優選進行更高速的透鏡驅動，為此，也要求透鏡的輕量化。?

發明內容

本發明是借鑒于上述情況而提出的，其目的在于提供一種物鏡、具備該物鏡的光拾取裝置、及搭載該光拾取裝置的光記錄/再生裝置，上述物鏡作為拾取用的物鏡能夠保持高的光學性能，并且具有充分的工作距離和良好的像高特性的同時謀求輕量化。?

本發明的物鏡的特征在于，將從光源射出的光會聚在進行信息的記錄或再生的光記錄介質上，該物鏡由至少1個面被設為非球面的單透鏡構成，并滿足下述條件式(1)、(2)、(6)：?

-0.90＜R₁/R₂＜-0.45????????????(1)?

0.70＜d/f＜1.40????????????????(2)?

0.50＜g/d＜0.80????(6)此處，?

R₁為光源側的面的光軸附近的曲率半徑(mm)，?

R₂為光記錄介質側的面的光軸附近的曲率半徑(mm)，?

d為光軸上的厚度(mm)，?

f為焦距(mm)，?

g：從光源側的面頂點的垂直于光軸的切平面到透鏡的重心位置的距離(mm)。?

在此，在本說明書中所謂“光軸附近”是指包括光軸的微小范圍，是指將連接光線入射的透鏡面上的點和透鏡的曲率中心的直線與光軸所成的角設為?時，可近似為?的所謂“近軸”的范圍。?

而且，在本發明的物鏡中，優選滿足下述條件式(3)：?

-40＜θ₁-θ₂＜20????(3)?

此處，?

θ₁為入射到光源側的面的最外側光線與該面的法線所成的角(°)，?

θ₂為從光記錄介質側的面射出的最外側光線與該面的法線所成的角?(°)。?

而且，在本發明的物鏡中，優選滿足下述條件式(4)：?

0.35＜(n-1)Sinθ₁＜0.80??(4)?

此處，?

θ₁：入射到光源側的面的最外側光線與該面的法線所成的角(°)，?

n：透鏡的折射率。?

而且，在本發明的物鏡中，優選滿足下述條件式(5)。?

0.25＜WD??(5)，?